【技术实现步骤摘要】
一种屏蔽膜及其制造方法
本专利技术涉及电磁屏蔽
，更准确的说涉及一种屏蔽膜及其制造方法。
技术介绍
随着科技的发展，射频设备广泛使用。常见的射频设备如工业用电气设备、广播电视发射塔、无线通信网络、高压输电线、家电等，在工作时会向外传送电磁波能量，产生电磁辐射，电磁辐射会对人体或机器产生影响，其程度与它的能量大小直接相关，电磁辐射所产生的能量大小取决于其频率的高低，可按其频率排成从低到高的若干个等级，频率愈高，电磁辐射所产生的能量就愈大，过大的电磁辐射能量会破坏人体的生理组织分子。如今，射频设备在人类活动的场所大量装备，且频谱范围不断展宽，强度成倍增加，如果电磁辐射超过了人体或机器所能够承受的限度，即形成电磁污染，不仅会对电子设备造成干扰，还会对人体健康产生威胁，是危害严重的“隐形杀手”，电磁污染已成为继大气污染、水污染、固体废弃物污染和噪声污染之后的第五大污染。针对电磁污染问题，最为有效的解决方法是采用电磁屏蔽技术，包括吸收式和反射式电磁屏蔽，均采用电磁屏蔽材料对电磁波进行屏蔽。不同的应用领域，对电磁屏蔽材料的要求也不...
【技术保护点】
1.一种屏蔽膜，其特征在于，包括：/n基材层，所述基材层包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面具有若干凹槽；/n吸波导电层，在所述凹槽中填充吸波导电材料形成连通的网格构成所述吸波导电层。/n
【技术特征摘要】
1.一种屏蔽膜，其特征在于，包括：
基材层，所述基材层包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面具有若干凹槽；
吸波导电层，在所述凹槽中填充吸波导电材料形成连通的网格构成所述吸波导电层。
2.一种屏蔽膜，其特征在于，包括：
基材层，所述基材层包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面和第二表面均具有若干凹槽；
第一吸波导电层，在所述第一表面的凹槽中填充吸波导电材料形成连通的网格构成所述第一吸波导电层，
第二吸波导电层，在所述第二表面的凹槽中填充吸波导电材料形成连通的网格构成所述第二吸波导电层。
3.如权利要求1或权利要求2所述的屏蔽膜，其特征在于，所述网格是周期性的，或是非周期性的，或是随机的。
4.如权利要求1或权利要求2所述的屏蔽膜，其特征在于，所述凹槽的高度范围为500nm至10μm，所述凹槽的宽度范围为500nm至10μm，所述凹槽的间隔距离范围为500nm至500μm。
5.如权利要求1或权利要求2所述的屏蔽膜，其特征在于，所述凹槽的截面为正方形、长方形或梯形。
6.如权利要求1或权利要求2所述的屏蔽膜，其特征在于，所述网格远离所...
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