【技术实现步骤摘要】
一种法拉第真空移动装置
本专利技术涉及一种半导体器件制造控制系统，尤其涉及离子注入机法拉第真空移动装置，该装置是低能大束流离子注入装备中的光路检测关键装置之一。
技术介绍
随着半导体工艺的发展，且随着特质线宽的缩小，工艺复杂程度的提高，束流的均匀性和稳定性对于离子注入系统愈发重要，已成为器件成败与否的重要关键。控制束流的均匀性和稳定性，需要有一个束流测量的装置，实时对于束流状态进行分析与检测，确保注入工艺的质量与稳定。其中精确测量的法拉第装置非常重要，而提高测量精度的一个很重要的前提就是需要一个运动稳定，直线度高，精确定位的移动装置。
技术实现思路
1.本专利技术公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括：法拉第真空腔体(1)，法拉第底座(2)，限位挡块(4)，直线导轨及滑块(5)，光栅尺及编码器(6)，直线电机(7)，限位开关磁铁(8)。2.法拉第真空移动装置分为三部分，法拉第真空腔体(1)，为法拉第提供真空环境。法拉第底座(2)为整个移动装置提供支撑。移动组件(3)为法拉第提供动力，并反馈实时位置。3.法拉第真空移动装置依靠直线电机(7)为法拉第提供动力，定子固定在底座(2)，动子与法拉第支持手臂相连。4.法拉第真空移动装置，借助直线导轨及滑块(5)提供较高精度的移动及支撑，限位挡块(4)能够放置滑块超出行程脱落。5.拉第真空移动装置，使用光栅尺及编码器(6)实时反馈准确位置信息，限位开关磁铁(8)提供限位，能够防止直线电机超过预设行程。本专利技术具有如下显著...
【技术保护点】
1.本专利技术公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括：法拉第真空腔体，法拉第底座，移动组件，限位挡块，直线导轨及滑块，光栅尺及编码器，直线电机，限位开关磁铁。特征在于：该装置通过直线电机驱动，由导轨及滑块支撑限位，借助光栅尺及编码器反馈位置信息来测量离子束。/n
【技术特征摘要】
1.本发明公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括：法拉第真空腔体，法拉第底座，移动组件，限位挡块，直线导轨及滑块，光栅尺及编码器，直线电机，限位开关磁铁。特征在于：该装置通过直线电机驱动，由导轨及滑块支撑限位，借助光栅尺及编码器反馈位置信息来测量离子束。
2.根据权利要求1的法拉第真空移动装置，其特征是整个装置分为三部分，法拉第真空腔体，为法拉第提供真空环境。法拉第底座为整个移动装置提供支撑。移动组件为法拉第提供动力，并反馈实...
【专利技术属性】
技术研发人员：何山，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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