一种等离子体淋浴器电源控制方法技术

技术编号:24098295 阅读:103 留言:0更新日期:2020-05-09 11:33
本发明专利技术公开了一种等离子体淋浴器电源控制方法,稳定弧流和灯丝电流,以此获得最佳发射电流。本方法涉及离子注入机,属于半导体器件制造领域。灯丝电源(3)用来加热灯丝(7),当灯丝温度达到电子的逸出功时,就会释电子;弧压电源(2)用来加速灯丝所释放的电子,向弧室(5)运动,最终在弧室上形成弧流;进入弧室的电子在磁铁(6)作用下轰击由气源(4)导入弧室的气体,用于产生使晶圆呈电中性的二次电子;电源控制器(1)是将弧压电源和灯丝电源进行闭环控制,通过将弧流与设定值A进行比较,将其偏差值再与设定值B进行比较来调节灯丝电流,直到弧流稳定在设定值A附近;同时使灯丝电流在限值设定值B以下,保护灯丝不会熔断。

A power control method of plasma shower

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体淋浴器电源控制方法
本专利技术涉及一种等离子体淋浴器电源控制方法,应用到离子注入机中,属于半导体器件制造领域。
技术介绍
等离子体淋浴器,实际上是一个直接加热式离子源。在半导体制造工艺装备离子注入机中,该部件对保障晶圆合格率起着至关重要的作用。等离子体淋浴器,是利用加热的灯丝发出的自由电子在弧电压及磁场的驱动下,轰击气体分子产生二次电子,并在弧室内形成等离子体。等离子体里的二次电子会被经过的正离子束吸取出弧室,而低能的正离子会被离子束排除在外。从而二次电子就会与离子束一同到达晶圆,阻止了由于离子注入而形成的正离子体的产生,使得晶圆表面呈电中性,进而防止了尖端放电的出现。弧流的大小将直接影响二次电子的发射电流,发射电流是确保晶圆表面呈电中性的关键。弧流的大小是我们的控制目标。本专利技术是通过电源控制器将弧压电源与灯丝电源进行闭环控制,实现弧流在设定值附近的自动稳定,以此来最佳稳定二次电子的发射电流;同时可使灯丝电流在设定限值以下,以保护灯丝不会由于过电流而熔断。
技术实现思路
图1所示,等离子体淋本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体淋浴器电源控制方法,包括:电源控制器(1)、弧压电源(2)、灯丝电源(3)、气源(4)、弧室(5)、磁铁(6)及灯丝(7)。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体淋浴器电源控制方法,包括:电源控制器(1)、弧压电源(2)、灯丝电源(3)、气源(4)、弧室(5)、磁铁(6)及灯丝(7)。


2.一种等离子体淋浴器电源控制方法,其特征在于:灯丝电源(1)用来给等离子体淋浴器的灯丝(7)加热,当被加热的灯丝(7)温度达到电子的逸出功时,就会释放自由电子;弧压电源(2)用来加速灯丝(7)所释放的自由电子,向弧室(5)运动,最终吸附到弧室(5)上形成弧流;进入...

【专利技术属性】
技术研发人员:金洲
申请(专利权)人:北京中科信电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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