过滤器制造技术

一种过滤器用于在微电路制造去除所使用的溶剂中的金属污染物质。过滤器包括：过滤器壳体，包括用于过滤包括金属污染物质的溶剂的过滤膜；以及磁铁，配置在过滤器壳体周围并且配置为在金属污染物质进入过滤膜之前产生磁场以吸引金属污染物质。磁铁配置成使得磁铁在过滤器壳体的外围所产生的磁场大于磁铁在过滤器壳体的中央部分所产生的磁场。

filter

【技术实现步骤摘要】
过滤器
本揭露是关于一种具有过滤器的半导体制造设备。
技术介绍
半导体集成电路(IC)产业经历了快速的增长。IC材料和设计的技术进步已经产生数个世代的IC，其中每一代都比前一代具有更小及更复杂的电路。但是，这些进步增加了IC制程和制造的复杂性，并且要实现这些进步，需要在IC制程和制造中进行类似的开发。在集成电路发展的过程中，功能密度(即，每个晶片区域的互连装置数量)通常增加，但几何尺寸(即，可以使用制造制程的最小部件(或线))则减少。随着半导体装置的图案尺寸变小并且具有新结构的半导体装置的开发，无污染物的液体已经用于制造集成电路。使用点(Point-of-use，POU)过滤器设计用于去除集成电路制造中使用的液体中的污染物。例如，在微影制程期间，对光阻进行过滤，以最大程度地减少金属污染物质/杂质的存在，并使光阻图案中的缺陷最小化。
技术实现思路
本揭露的一实施例提供一种过滤器，包括：一过滤器壳体，包括用于过滤包括金属污染物质的溶剂的过滤膜；以及一磁铁，排列在该过滤器壳体周遭，并配置为产生磁场以在该金属污染物质进入该过本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种过滤器，其特征在于，包括：/n一过滤器壳体，包括用于过滤包括金属污染物质的溶剂的过滤膜；以及/n一磁铁，排列在该过滤器壳体周遭，并配置为产生磁场以在该金属污染物质进入该过滤膜之前吸引该金属污染物质。/n

【技术特征摘要】
20181031 US 62/753,915;20190822 US 16/548,5321.一种过滤器，...

【专利技术属性】
技术研发人员：麦玄颖，李蕙君，陈俊光，冯东鸿，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71