【技术实现步骤摘要】
一种咔唑基席夫碱荧光材料
本专利技术属于荧光材料
，具体涉及一种咔唑基席夫碱荧光材料。
技术介绍
咔唑席夫碱是一类新型的光引发剂，同时也是一类富有潜力的荧光材料，有着广泛的应用前景。由于咔唑分子具有较大共轭体系、良好的刚性结构、强空穴传输能力、稳定的光化学性能，因此咔唑及其衍生物在光电材料领域得到了越来越多的应用。贾艳等(Anovelbipolarcarbazole/phenanthroimidazolederivativeforhighefficiencynondopeddeep-blueorganiclight-emittingdiodes[J].OrganicElectronics,2019,64:259-265)利用咔唑及其衍生物制作了可以发深蓝色光的OLED器件。Yu等(Investigationofnovelcarbazole-functionalizedcoumarinderivativesasorganicluminescentmaterials[J].Dyes&Pigments,201...
【技术保护点】
1.一种咔唑基席夫碱荧光材料，其特征在于，其化合物结构如结构式1或结构式2所示：/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种咔唑基席夫碱荧光材料，其特征在于，其化合物结构如结构式1或结构式2所示：
其中，R1选自H或羟基，R2选自C1-C30的烷基、取代或未取代的C3-C30环烷基、取代或未取代的C3-C60的芳基、取代或未取代的C3-C60的亚芳基、取代或未取代的含有C3-C60芳基的烷基。
2.根据权利要求1所述的一种咔唑基席夫碱荧光材料，其特征在于，R2选自环戊基，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、卤素、氨基、取代氨基、烷氧基以及含有上述取代基的苯基或亚苯基。
3.根据权利要求1所述的一种咔唑基席夫碱荧光材料，其特征在于，该荧光材料含有咔唑基的席夫碱，选自以下化合物：
。
4.一种权利要求1所述的咔唑基席夫碱荧光材料的合成方法，其特征在于，其合成方法是以4-羟基-9H-咔唑或3-溴咔唑为底物原料，在一定条件下，将4-羟基-9H-咔唑与3-溴咔唑羰基化，得4-羟基-9H-咔唑-3-甲醛和咔唑-3-甲醛，然后分别将其与一系列一氨基化合物和二氨基化合物进行缩合反应得到咔唑席夫碱化合物即咔唑基荧光材料，其反应流程如下所示：
第一步
技术研发人员：濮伟雯，许胜，黄相丞，李婉齐，龚成林，严沛钧，张奕祺，张杰，
申请(专利权)人：浙江华显光电科技有限公司，华东理工大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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