【技术实现步骤摘要】
一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台
本技术主要涉及大尺寸激光直写运动平台领域,尤其涉及一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台。
技术介绍
现用于光栅尺刻写的运动平台受限于其尺寸和性能,使得其刻写出来的光栅尺的性能和长度已经渐渐落后于时代,所以,生产一种大尺寸、高精度的运动平台来满足精度不断升级的光栅尺刻写需求已显得尤为必要。已授权中国技术专利,申请号CN201410370836.0,专利名称:一种用于激光直写曝光机的自动升降的Z轴装置,申请日:20140730,涉及一种长光栅微密线纹测量系统及方法,系统主要包括运动台(14)、激光干涉测长子系统(13)、信号处理及结果显示子系统和光电显微镜子系统(11)。其关键技术特征为测量信号的高速同步采集以及干涉测长电信号与刻线电信号的关联处理,以消除测量速度对于测量结果的影响。稳频激光源作为干涉光源使得测量结果可以直接溯源到激光标准波长,提高了测量精度。采用双向测量、数据拼接的方法解决了长工作距离下显微镜低倍率时起始端刻线信号失真致单向无法完成测量的问题,测量是运动台运 ...
【技术保护点】
1.一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台,其特征在于:包括:激光刻写仪器(900),用于在待刻写玻璃刻写光栅尺;/nX轴粗动直线轴(100),用于光栅尺刻写时,使玻璃在X轴方向上做扫描运动;/nRZ微动旋转轴(200),安装于X轴粗动直线轴(100)上,用于对X轴粗动直线轴(100)运动产生的误差进行补偿,使玻璃始终相对于X轴是平行水平运动的;/nY轴粗动轴(300),用于光栅尺刻写时,带动激光刻写仪器(900)进行运动;/nRXYZ微动轴(400),安装在Y轴粗动轴(300)的正中央,且激光刻写仪器(900)安装在RXYZ微动轴(400)的正中央,用于对X轴粗动直线轴 ...
【技术特征摘要】
1.一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台,其特征在于:包括:激光刻写仪器(900),用于在待刻写玻璃刻写光栅尺;
X轴粗动直线轴(100),用于光栅尺刻写时,使玻璃在X轴方向上做扫描运动;
RZ微动旋转轴(200),安装于X轴粗动直线轴(100)上,用于对X轴粗动直线轴(100)运动产生的误差进行补偿,使玻璃始终相对于X轴是平行水平运动的;
Y轴粗动轴(300),用于光栅尺刻写时,带动激光刻写仪器(900)进行运动;
RXYZ微动轴(400),安装在Y轴粗动轴(300)的正中央,且激光刻写仪器(900)安装在RXYZ微动轴(400)的正中央,用于对X轴粗动直线轴(100)、Y轴粗动轴(300)运动产生的误差进行补偿,带动激光刻写仪器(900)进行对焦。
2.根据权利要求1所述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台,其特征在于:还包括激光干涉仪定位系统(800),将X轴粗动直线轴(100)、Y轴粗动轴(300)的定位误差反馈给RZ微动旋转轴(200)、RXYZ微动轴(400)。
3.根据权利要求2所述的一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台,其特征在于:还包括平面反...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆敏杰,周俊晨,
申请(专利权)人:无锡星微科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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