【技术实现步骤摘要】
基板清洗部件及基板清洗装置
本专利技术涉及一种基板清洗部件及基板清洗装置。
技术介绍
专利文件1、2中公开了基板清洗装置。但是，这些基板清洗装置并不一定具有足够的清洗力。另外，从吞吐量的观点看，存在在限制时间内进行清洗并想要使清洗处理在短時间内结束的情况，但是根据基板的种类、流程等，因难以对基板上的部分污物进行清洗等理由而导致即使效率地进行了清洗但是仍然有限制。并且，根据基板的细微化的进一步发展、将基板到端部为止更有效地活用于最终制品这样的要求，提高对边缘部付近的颗粒等的去除性能的要求进一步被关住。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第3933670号公报专利文献2：美国专利第7166183号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是鉴于这样的问题而提出的，本专利技术的课题是提供一种清洗力高的基板清洗部件及基板清洗装置。用于解决课题的手段根据本专利技术的一方式，提供了一种基板清洗装置，具备：基板支承机构，该基板支承机构对基...
【技术保护点】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：/n基板支承机构，该基板支承机构对基板进行支承；以及/n辊型的第一清洗部件，该第一清洗部件通过一边与所述基板的第一面的斜端及/或边缘接触一边旋转来对所述第一面进行清洗，/n所述第一清洗部件的旋转轴与所述基板平行，/n所述第一清洗部件具有大径部及小径部。/n
【技术特征摘要】
20181012 JP 2018-1933121.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
基板支承机构，该基板支承机构对基板进行支承；以及
辊型的第一清洗部件，该第一清洗部件通过一边与所述基板的第一面的斜端及/或边缘接触一边旋转来对所述第一面进行清洗，
所述第一清洗部件的旋转轴与所述基板平行，
所述第一清洗部件具有大径部及小径部。
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述基板支承机构对所述基板进行保持并使所述基板旋转。
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
具备辊型的第二清洗部件，该第二清洗部件与所述第一清洗部件相对配置，并且通过一边与所述基板的第二面的斜端及/或边缘接触一边旋转来对所述第二面进行清洗，
所述第二清洗部件的旋转轴与所述基板平行，
所述第二清洗部件具有大径部及小径部，
所述第二清洗部件的小径部位于与所述第一清洗部件的大径部相对的位置，并且所述第二清洗部件的大径部位于与所述第一清洗部件的小径部相对的位置，所述第一清洗部件与所述第二清洗部件彼此不接触地旋转。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述第一清洗部件的旋转方向是在与所述基板的接触位置从所述基板的中心朝向边缘的方向。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
具备第一喷嘴，该第一喷嘴对所述基板的第一面向朝向所述基板的边缘的方向供给液体。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
具备促动器，在清洗所述基板时，该促动器使所述第一清洗部件...
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