膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法。一种用于在基板上形成膜的膜形成装置包括：驱动器，被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触；加热器，被配置为通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合平坦表面；以及固化设备，被配置为通过在可固化组合物贴合平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。

Membrane forming device, membrane forming method and article manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法
本专利技术涉及一种膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法。
技术介绍
光刻技术用于制造诸如半导体器件的物品。光刻技术包括以下工序：通过使用曝光装置将原版的图案转印到布置在基板上的光致抗蚀剂膜来形成潜像图案，以及通过对潜像图案进行显影来形成抗蚀剂图案。随着曝光装置的分辨率的提高，曝光装置的投影光学系统的焦深已经变得极其狭窄。例如，在用于形成5nm至7nm的线和间隔图案的扫描曝光装置中，曝光狭缝所需的三维精度为4nm或更低。因此，在存在于基板的表面上的下层图案上形成平坦化膜，并且可以在平坦化膜上布置光致抗蚀剂膜。美国专利No.7455955公开了一种方法，其中在包括形貌特征的基板上形成平坦化层，并且通过使平坦表面与平坦化层接触而固化平坦化层。在足以将平坦表面的平坦度转印到平坦化表面上的压力和温度下进行一段时间的平坦化层与平坦表面之间的接触。美国专利No.7455955公开了接触时的温度通常落入环境温度至350℃的范围内。然而，美国专利No.7455955没有公开在使平坦表面与平坦化层接触的工序中可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在基板上形成膜的膜形成装置，其特征在于，包括：/n驱动器，被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触；/n加热器，被配置为通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦表面；以及/n固化设备，被配置为通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。/n

【技术特征摘要】
20181011 JP 2018-1928121.一种在基板上形成膜的膜形成装置，其特征在于，包括：
驱动器，被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触；
加热器，被配置为通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦表面；以及
固化设备，被配置为通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。


2.根据权利要求1所述的装置，其中，加热器包括磁控管。


3.根据权利要求2所述的装置，其中，磁控管产生具有2.45GHz或0.915GHz的频率的电磁波。


4.一种在基板上形成膜的膜形成装置，其特征在于，包括：
基板保持器，被配置为保持基板；
驱动器，被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触；
加热器，被设置到基板保持器，且被配置为经由基板加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦表面；以及
固化设备，被配置为通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。


5.根据权利要求4所述的装置，还包括：
移动机构，被配置为将基板保持器布置在第一位置和第二位置，
其中，第一位置是基板保持器接收基板的位置，并且第二位置是固化设备使可固化组合物固化的位置。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其中，加热器将可固化组合物加热至落入100℃至200℃的温度范围内的温度。


7.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其中，基板包括多个投射区域，并且所述平坦表面的尺寸能够全部覆盖所述多个投射区域。


8.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，还包括：
供应器，被配置为在基板上供应可固化组合物。


9.根据权利要求8所述的装置，其中，供应器包括被配置为排出可固化组合物的孔口，并且通过在改变基板和孔口之间的相对位置的同时从孔口排出可固化组合物来将可固化组合物布置在基板上。


10.根据权利要求8所述的装置，其中，供应器包括旋涂机，旋涂机被配置为用可固化组合物旋涂基板。...

【专利技术属性】
技术研发人员：黑泽博史，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP