气体供给单元制造技术

本发明专利技术涉及一种气体供给单元，包括：背板，设置于腔室内部；簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。在执行针对大面积基板的各种处理工艺的基板处理装置中，在根据沉积工艺或清洗工艺而向基板处理装置的内部供给各种气体的情况下，气体供给单元可使气体均匀地在基板处理装置的内部分散。

【技术实现步骤摘要】
气体供给单元
本专利技术涉及一种气体供给单元，更详细而言，涉及一种在执行针对大面积基板的各种处理工艺的基板处理装置中，在根据沉积工艺或清洗工艺而向基板处理装置的内部供给各种气体的情况下，可使气体均匀地在基板处理装置的内部分散的气体供给单元。
技术介绍
通常，基板处理装置包括配置于腔室内侧支撑基板并沿上下移动的基座、及朝向所述基板供给工艺气体等的气体供给部。在这种情况下，根据在所述腔室中执行的处理工艺，通过气体供给部供给的气体的种类会不同。例如，在执行针对基板的沉积工艺的情况下，可通过气体供给部供给工艺气体，且可在执行腔室内部的清洗工艺的情况下供给清洗气体。此时，工艺气体需要均匀地分散并供给到基板的上表面，在清洗气体的情况下，为了对腔室内部进行清洗，需要供给到腔室的内侧的边缘为止。然而，最近液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)、等离子显示面板(PlasmaDisplayPanel，PDP)及有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiodes)等平面显示器逐渐大型化、大面积化，因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体供给单元，其特征在于，包括：/n背板，设置于腔室内部；/n簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；/n挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及/n工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。/n

【技术特征摘要】
20181011 KR 10-2018-01208421.一种气体供给单元，其特征在于，包括：
背板，设置于腔室内部；
簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；
挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及
工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。


2.根据权利要求1所述的气体供给单元，其特征在于：
所述挡板单元包括：
中央喷射孔，朝向所述簇射头供给所述工艺气体；及
至少一个周边喷射孔，朝向所述簇射头供给所述工艺气体或所述清洗气体，并与所述中央喷射孔隔开。


3.根据权利要求2所述的气体供给单元，其特征在于：
所述挡板单元还包括：
周边喷射流路，使供给所述工艺气体的工艺气体供给线管及供给所述清洗气体的清洗气体供给线管与所述周边喷射孔连接；及
中央喷射流路，使所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李洪宰，
申请(专利权)人：TES股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR