一种瓦斯炉具结构制造技术

一种瓦斯炉具结构，其是在瓦斯炉中的一贮气槽下环座上设有一瓦斯填充凹孔，其填充凹孔中有一柱管，使其在填充凹孔及柱管中装置一软性Ｏ形环及一填充导正座，而该填充导正座具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔。本实用新型专利技术具有引导扶正及阻泄等实质功效。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及一种瓦斯炉具结构。按一般所见到的迷你型或称掌上型的瓦斯炉具，如附图说明图1所示，主要是方便携带或是运用于较小型、小容量的容器做煮食、煮沸及兼具保温目的。由于此种较小型的瓦斯炉具A内部所承容的瓦斯能量较小、以致所能够提供燃点时间较短，在使用一段时间后便须补充瓦斯能量，而通常此种小型瓦斯炉具A是由一般在市面上便可买到的瓦斯罐B来做为补充填灌来源；一般瓦斯罐B对于该小型瓦斯炉具A的填灌方法，如图2所示首先将瓦斯炉具A底部由下翻转至朝上，使其瓦斯炉具A底下一贮气槽下环座A1中所设有一瓦斯填充凹孔A11及一柱管A12得以直接与瓦斯罐B的接头B1相触，瓦斯开始填灌于瓦斯炉具A的贮气槽A13中；然而此填灌方式却产生下述缺点由于瓦斯炉具A底下一贮气槽下环座A1上的瓦斯填充凹孔A11十分浅显，以致所能提供瓦斯罐B的接头B1接触的内环面积相当有限，无形中便使瓦斯罐B的接头B1与瓦斯填充凹孔A11及一柱管A12无法呈垂直线，也即两者间所呈偏斜角度(如图2的虚线所示)便无法有效且完全地填灌，相反造成泄漏在外的不良情形，此不仅不能达到填灌目的，同时也浪费瓦斯及容易造成危险，对使用者而言甚为不理想。本技术的目的是提供一种瓦斯炉具结构，是在瓦斯炉中的一贮气槽下环座上设有一瓦斯填充凹孔，其填充凹孔中并有一柱管，使其在填充凹孔及柱管中装置一软性O形环及一填充导正座，而该填充导正座具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔，当液态瓦斯罐在与贮气槽下环座的填充凹孔作挤压接触充灌时，由填充导正座内部所呈“凸”字状中空孔以供瓦斯罐接头与填充凹孔的柱管成为同一轴角度的垂直线状，真正且有效地灌注于贮气槽下环座的贮气槽中，并由软性O形环以加强阻泄作用，达到引导扶正及阻泄等实质功效。以下结合附图对本技术作进一步说明。图1为习用瓦斯炉具的立体图图2为习用瓦斯炉具在填灌瓦斯时的示意图图3为本技术结构及安装位置的示意图图4为本技术在填灌瓦斯时的操作示意图首先，如图3、图4所示，本技术一种瓦斯炉具结构，是于瓦斯炉1中的一贮气槽下环座11上设有一瓦斯填充凹孔12，其填充凹孔12中并有一柱管13，使其该瓦斯炉1的底部由下翻转至朝上，可与瓦斯罐B的接头B1在相接触后，瓦斯能量开始填灌于瓦斯炉1的贮气槽111中，在填充凹孔12及柱管13中装置一软性O形环2及一填充导正座3，该填充导正座3具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔31，当液态的瓦斯罐B的接头B1与瓦斯炉1的贮气槽下环座11的填充凹孔12及柱管13相挤压接触充灌时，由填充导正座3内部所呈“凸”字状中空孔31以供瓦斯罐B的接头B1与填充凹孔12的柱管13引导而成为同一轴角度的垂直线状(如图4所示)，以使瓦斯气得以真正且有效地灌注于贮气槽下环座11的贮气槽111中，此过程当中由软性O形环2贴设于填充凹孔12内，并充分顶住瓦斯罐B接头B1以加强防止瓦斯气不致有泄漏的阻泄作用，如此，经由该软性O形环2及一填充导正座3以供瓦斯罐B在填灌时可以确实地达到引导扶正及阻泄等实质功效。以上仅为本技术的一个实施例，任何基于本技术的等同变换均在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种瓦斯炉具结构，其是在瓦斯炉中的一贮气槽下环座上设有一瓦斯填充凹孔，所述填充凹孔中有一柱管，其特征在于在填充凹孔及柱管中装置一软性O形环及一填充导正座，而该填充导正座具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔。专利摘要一种瓦斯炉具结构，其是在瓦斯炉中的一贮气槽下环座上设有一瓦斯填充凹孔，其填充凹孔中有一柱管，使其在填充凹孔及柱管中装置一软性O形环及一填充导正座，而该填充导正座具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔。本技术具有引导扶正及阻泄等实质功效。文档编号F24C3/14GK2354040SQ9824913公开日1999年12月15日 申请日期1998年12月3日 优先权日1998年12月3日专利技术者黄芳明 申请人:黄芳明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种瓦斯炉具结构，其是在瓦斯炉中的一贮气槽下环座上设有一瓦斯填充凹孔，所述填充凹孔中有一柱管，其特征在于：在填充凹孔及柱管中装置一软性Ｏ形环及一填充导正座，而该填充导正座具有内、外皆呈“凸”字造型的中空孔。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄芳明，
申请(专利权)人：黄芳明，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]