曝光装置以及物品的制造方法制造方法及图纸

提供一种能够通过简易的结构使投影光学系统的数值孔径变化的曝光装置以及物品的制造方法。在具有将掩模的图案投影于基板的投影光学系统的曝光装置中，在投影光学系统的曲面形状的光瞳面或者其近旁配置第一光阑和第二光阑，该第一光阑为规定第一尺寸的开口径的固定光阑，该第二光阑规定比第一尺寸小的第二尺寸的开口径。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及物品的制造方法
本专利技术涉及曝光装置以及物品的制造方法。
技术介绍
在使用光刻技术制造半导体元件、液晶显示元件等器件时，使用了利用投影光学系统将掩模的图案投影于基板来转印图案的曝光装置。随着图案的细微化，需要曝光装置的分辨率的进一步的提高，作为用于使分辨率提高的方法，已知使构成曝光装置的投影光学系统的NA(数值孔径)变大。半导体元件、液晶显示元件等器件是将形成有图案的多个层层叠而制造的。在该多个层中包括图案的线宽比较粗的粗糙层、图案的线宽比较窄的临界层(Criticallayer)。在形成粗糙层时所需要的曝光装置的分辨率与在形成临界层时所需要的曝光装置的分辨率不同。也就是说，形成粗糙层时的投影光学系统的NA与形成临界层时的投影光学系统的NA通常不同。为了使投影光学系统的NA变化，日本特开2002-372735号公报公开了一种光阑装置，该光阑装置使设置于将曝光光遮光的遮光板的移动件沿着在投影光学系统的光轴方向具有曲率的轨道移动。据此，能够使利用遮光板形成的开口的尺寸和在投影光学系统的光轴方向上的该开口的位置同本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，具有将掩模的图案投影于基板的投影光学系统，所述曝光装置的特征在于，/n所述投影光学系统包括：/n第一光阑，为规定第一尺寸的开口径的固定光阑；以及/n第二光阑，包括多个遮光板，该第二光阑规定比所述第一尺寸小的第二尺寸的开口径，/n所述投影光学系统的光瞳面为曲面形状，所述第一光阑以及所述第二光阑分别配置于所述光瞳面或者所述光瞳面的近旁。/n

【技术特征摘要】
20180928 JP 2018-1846091.一种曝光装置，具有将掩模的图案投影于基板的投影光学系统，所述曝光装置的特征在于，
所述投影光学系统包括：
第一光阑，为规定第一尺寸的开口径的固定光阑；以及
第二光阑，包括多个遮光板，该第二光阑规定比所述第一尺寸小的第二尺寸的开口径，
所述投影光学系统的光瞳面为曲面形状，所述第一光阑以及所述第二光阑分别配置于所述光瞳面或者所述光瞳面的近旁。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第一光阑以及所述第二光阑并排配置于所述投影光学系统的光轴方向上。


3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
构成所述第二光阑的多个遮光板在与所述投影光学系统的光轴垂直的平面内移动。


4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
还具有支承部件，所述支承部件支承所述第一光阑以及所述第二光阑。


5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，
构成所述第一光阑的多个遮光板固定于所述支承部件。


6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在将所述投影光学系统的数值孔径设为第一数值孔径来将所述图案投影于所述基板时，在所述投影光学系统的光路中配置所述第一光阑，
在将所述投影光学系统的数值孔径设为比所述第一数值孔径小的第二数值孔径而将所述图案投影于所述基板时，在所述投影光学系统的光路中配置所述第二光阑。


7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，
还具有驱动机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛猛，关美津留，远藤淳生，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP