一种气浴装置及光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种气浴装置及光刻机，属于光刻机技术领域。该气浴装置包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。光刻机包括上述气浴装置。本发明专利技术通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路也处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性。

【技术实现步骤摘要】
一种气浴装置及光刻机
本专利技术涉及光刻机
，尤其涉及一种气浴装置及光刻机。
技术介绍
光刻机作为半导体行业最精密、最先进、最昂贵的专用设备，其包括干涉仪，干涉仪用于检验光学元件和检测位移，通常干涉仪分为参考光路和测量光路，其对工作环境的要求特别苛刻，主要表现在对局部区域的温度控制方面的要求较高。光刻机通常采用气浴装置实现所需的控温效果，气浴装置用于提供温度、压力(流速或流量)恒定的洁净空气吹扫光路区域，保证整个光路空间区域温度压力均匀，实现其光路稳定，保证干涉仪测量的精确性。其中，干涉仪两侧会设置有气浴装置，但是干涉仪和气浴装置的空间允许布局，通常气浴装置会导致以下问题出现，测量光路位于气浴装置出口的下方，参考光路基本与气浴装置出口处于同一水平面上。当气浴装置进行温控时，参考光路处于气浴温控的死角处，气浴空气无法覆盖该死角区域，使得参考光路区域温控失败，从而导致干涉仪测量结果存在误差。为了保证测量光路和参考光路均能接受到温度、速率和压强均相同的气浴温控，通常在干涉仪周围设置多个气浴装置，多个气浴装置中能实现对干涉仪中测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气浴装置，包括进风口、处理腔(100)和出风口(200)，其特征在于，所述出风口(200)包括第一通道组(210)和第二通道组(220)，其中，所述第一通道组(210)的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组(220)的气浴方向与水平面的夹角W。/n

【技术特征摘要】
1.一种气浴装置，包括进风口、处理腔(100)和出风口(200)，其特征在于，所述出风口(200)包括第一通道组(210)和第二通道组(220)，其中，所述第一通道组(210)的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组(220)的气浴方向与水平面的夹角W。


2.根据权利要求1所述的气浴装置，其特征在于，所述第一通道组(210)包括多个第一气浴通道(211)，每个所述第一气浴通道(211)包括相互间隔且平行设置的两个第一翅片,且每个所述第一气浴通道(211)与水平面的夹角均为所述夹角V。


3.根据权利要求1所述的气浴装置，其特征在于，所述第二通道组(220)包括第二气浴通道(221)，所述第二气浴通道(221)沿气流方向依次设置有渐缩部(2211)、喉管(2212)和渐扩部(2213)，所述渐缩部(2211)与所述处理腔(100)连接，所述渐扩部(2213)末端的气浴方向大致水平。


4.根据权利要求3所述的气浴装置，其特征在于，所述喉管(2212)的横截面面积为P，所述渐缩部(2211)的最大截面积为Q，满足P＝0.25～0.8Q。


5.根据权利要求3所述的气浴装置，其特征在于，所述第二气浴通道(221)的横截面为矩形。


6.根据权利要求5所述的气浴装置，其特征在于，所述第二气浴通道(221)包括相对设置的第一圆弧板(2214)和第二圆弧板(2215)，所述第一圆弧板(2214)的曲率半径大于所述第二圆弧板(2215)的曲率半径。


7.根据权利要求6所述的气浴装置，其特征在于，所述第一圆弧板(2214)的一端与水平面相切。
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【专利技术属性】
技术研发人员：李先明，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31