【技术实现步骤摘要】
高稳定低串扰分束装置
本专利技术涉及一种集成电路装备制造领域，尤其涉及一种高稳定低串扰分束装置。
技术介绍
信息技术的发展趋势遵循着摩尔定律、超摩尔定律和迈特卡夫定律。集成电路集成度的不断提高与不断发展的光刻技术紧密相连。可以从某种意义上讲，新一代集成电路的诞生代表了当时最先进的光刻技术。集成电路制造需要大量的光刻步骤，光刻通常约占生产成本的百分之三十。在光刻主要工艺过程中，对准和曝光是集成电路制造中最为重要的工艺环节，提高曝光图案的精细度和图案间的对准精度是极大规模集成电路制造的关键。对准和曝光方式和方法的发展就基本代表光刻技术的发展。集成电路芯片在每次曝光或者说每曝一层图形都需要用一块掩模版，而每块掩模版在曝光前都需要和前面已曝光的图形进行对准后才能曝光，这样才能保证每一层图形有正确的相对位置，这称为套刻曝光，简称套刻。套刻是通过掩模硅片对准系统测出上次已完成曝光的硅片和掩模间的相对位置，通过工件台按一定的步进模型步进(或步进扫描)，完成对每一芯片的套刻。一般而言，套刻误差只允许在光刻分辨力的1/3-1/5之间。...
【技术保护点】
1.一种分束装置，其特征在于，包括：输入多模光纤、多模光纤准直器、分束棱镜、N个多模光纤耦合器、N个多模光纤和N个探测器，其中：/n从输入多模光纤输入一束包含若干个波长的光束，所述光束经多模光纤准直器进行准直后输入所述分束棱镜，经分束棱镜分束后输出N个不同波长的单色光，所述N个不同波长的单色光分别通过所述N个多模光纤耦合器耦合进入N个多模光纤中，经过所述N个多模光纤传输后进入N个探测器，由此所述N个探测器分别获得所述N个不同波长的单色光的信息。/n
【技术特征摘要】
1.一种分束装置，其特征在于，包括：输入多模光纤、多模光纤准直器、分束棱镜、N个多模光纤耦合器、N个多模光纤和N个探测器，其中：
从输入多模光纤输入一束包含若干个波长的光束，所述光束经多模光纤准直器进行准直后输入所述分束棱镜，经分束棱镜分束后输出N个不同波长的单色光，所述N个不同波长的单色光分别通过所述N个多模光纤耦合器耦合进入N个多模光纤中，经过所述N个多模光纤传输后进入N个探测器，由此所述N个探测器分别获得所述N个不同波长的单色光的信息。
2.根据权利要求1所述的分束装置，其特征在于，所述N为大于等于2的自然数，优选为4。
3.根据权利要求1所述的分束装置，其特征在于，所述分束棱镜包括一个直角棱镜和N-1个相同的平行四边形棱镜，其中所述直角棱镜为等边直角三角形棱镜，其直角边长为L1，斜边长为L2；每一个所述平行四边形棱镜的锐角大小均为45度，其底边长度均为L3，斜边长度均为L4，且有L3＝L1，L4＝L2。
4.根据权利要求3所述的分束装置，其特征在于，所述直角棱镜与所述多模光纤准直器相邻的直角面镀有增透膜，与所述多模光纤耦合器相邻的直角面镀有窄带滤光膜，斜面镀有分色膜；每一个所述平行四边形棱镜的靠近多模光纤准直...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢增雄，李璟，齐月静，马敬，折昌美，齐威，杨光华，苏佳妮，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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