【技术实现步骤摘要】
全封闭石英晶片清洗机
本专利技术涉及一种全封闭石英晶片清洗机。
技术介绍
石英晶片加工其中的一个工序是将晶片通过研磨砂研磨到客户需求的频率范围，加工完成后需要将这些研磨完成的晶片进行清洗，晶片清洗的洁净度决定了在角度分选工序的准确性，研磨过程中残留在晶片上面的残留砂等会影响到晶片角度测定时的准确性，传统的清洗方法很难将中间的砂液彻底洗净，导致研磨砂残留在晶片表面。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种清洗效果好的全封闭石英晶片清洗机。本专利技术所采用的技术方案是：本专利技术包括机箱，所述机箱中设置有漏水板、废水回收模块及三个顶升机构，所述漏水板上设置有药剂清洗水池、喷洗水池及清水水池，所述废水回收模块位于所述漏水板的下方，且与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合，所述顶升机构的下端配合设置有晶片放置篮，三个所述晶片放置篮分别与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合。进一步，所述药剂清洗水池及所述清水水池均为溢流池。进一步，...
【技术保护点】
1.一种全封闭石英晶片清洗机，其特征在于：其包括机箱（1），所述机箱（1）中设置有漏水板（2）、废水回收模块（3）及三个顶升机构（4），所述漏水板（2）上设置有药剂清洗水池（5）、喷洗水池（6）及清水水池（7），所述废水回收模块（3）位于所述漏水板（2）的下方，且与所述药剂清洗水池（5）、所述喷洗水池（6）及所述清水水池（7）配合，所述顶升机构（4）的下端配合设置有晶片放置篮（8），三个所述晶片放置篮（8）分别与所述药剂清洗水池（5）、所述喷洗水池（6）及所述清水水池（7）配合。/n
【技术特征摘要】
1.一种全封闭石英晶片清洗机，其特征在于：其包括机箱（1），所述机箱（1）中设置有漏水板（2）、废水回收模块（3）及三个顶升机构（4），所述漏水板（2）上设置有药剂清洗水池（5）、喷洗水池（6）及清水水池（7），所述废水回收模块（3）位于所述漏水板（2）的下方，且与所述药剂清洗水池（5）、所述喷洗水池（6）及所述清水水池（7）配合，所述顶升机构（4）的下端配合设置有晶片放置篮（8），三个所述晶片放置篮（8）分别与所述药剂清洗水池（5）、所述喷洗水池（6）及所述清水水池（7）配合。
2.根据权利要求1所述的全封闭石英晶片清洗机，其特征在于：所述药剂清洗水池（5）及所述清水水池（7）均为溢流池。
3.根据权利要求1所述的全封闭石英晶片清洗机，其特征在于：所述喷洗水池（6）包括水槽及若干个喷头（9），若干个所述喷...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘兴波，
申请(专利权)人：珠海东锦石英科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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