一种超薄复合透明导电膜制造技术

本实用新型专利技术公开一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底，所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；所述第一UV胶层经图形化压印、固化、填充导电材料而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层；所述第三UV胶层经图形化压印、固化、填充导电材料而形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。本实用新型专利技术中的导电膜结构简单，工艺简化，工艺稳定，应用场景广泛。

【技术实现步骤摘要】
一种超薄复合透明导电膜
本技术涉及导电薄膜
，尤其是一种超薄复合透明导电膜，以及应用该导电膜的产品。
技术介绍
透明导电膜是具有良好导电性和可见光波段高透光率的一种薄膜，已广泛应用于平板显示、光伏器件、触控面板和电磁屏蔽等领域，具有广阔的市场空间。由于ITO的种种弊端，柔性、低阻的金属网格类透明导电膜正在扮演越来越重要的角色。现有技术中的透明导电膜是指“一种能导电的薄膜，能实现一些特定的电子功能”，一般在透明基底上制作一层导电层，其通常包括透明基底层，以及相关金属埋入层；所述透明基底层表面具有图形化、相连通的沟槽网络，导电材料填充于沟槽网络之中形成导电膜。现有的透明导电薄膜是在基材表面形成单一层导电层，此类导电结构仅具有通用导电薄膜的导电功能，而不具备专有传感器的电路功能。比如，对于应用于具有上下电极的互容式电容触控传感器，则需要经过外加引线区等后工序，并需要将进行后工序加工后的二层电路薄膜，通过光学粘接胶组合形成触摸传感器。现有技术的透明导电薄膜制作方法，采用光刻等微加工工艺制作微结构，通过压印技术形成凹槽，在沟槽里填充导电墨水并烧结。此制作步骤制作的单一的透明导电膜，并未考虑工艺过程造成的材料变形，从而导致电容电极图形的尺寸变形问题。在实际批量产品的生产中，存在良率低、成本高等问题。现有技术生产导电膜通常存在如下技术问题，生产工序复杂，且无法稳定控制产品品质，良率较低，尤其是目前的电容屏基本采用两片透明导电膜相互贴合的工艺，其产品厚度受到限制，不符合现有触控屏向超轻、超薄发展的趋势，并且成本高；未来电子设备逐步向曲面设计、柔性屏设计方向发展，但是采用两片透明导电膜相互贴合而制成的触控模组耐弯折性能不好。为此，本技术提出一种多层复合结构的功能性透明导电薄膜，解决了现有产品结构的缺陷。
技术实现思路
本技术目的是克服现有技术存在的不足，解决现有技术中存在的问题，提供一种超薄复合透明导电膜，此超薄复合透明导电膜结构简单，工艺简化，工艺稳定，降低成本，应用场景广泛。为解决上述技术问题，本技术提供了如下技术方案：一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底：所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；所述第一UV胶层为在透明基底表面涂布的第一层UV固化胶，所述第一UV胶层进行图形化压印并固化而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层；所述第二UV胶层表面设置有第三UV胶层，所述第三UV胶层表面进行图形化压印并固化，形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第一UV胶层进行图形化压印并固化而形成第一导电层的网格状凹槽、第一引线区的引线凹槽和第一对位标识的对位图形凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽、第一引线区的引线凹槽和第一对位标识的对位图形凹槽均填充有导电材料，所述第一导电层的网格状凹槽、第一引线区的引线凹槽和第一对位标识的对位图形凹槽均的深度小于第一UV胶层的厚度；第二对位标识的对位图形凹槽填充有导电材料，所述第二对位标识的对位图形凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度；所述第一对位标识和第二对位标识的图形在透明导电薄膜产品中或被保留，或被裁切。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第二UV胶层的厚度为1～10微米。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第二UV胶层与第三UV胶层的材料不同，所述第一UV胶层与第三UV胶层材料相同或不同。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第一引线区的电连接区未涂布有第二层UV固化胶，所述第三UV胶层的第二引线区的电连接区与第一UV胶层的第一引线区的电连接区不重合。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述透明基底与所述第一UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理；和/或，所述第一UV胶层与第二UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理；和/或，所述第二UV胶层与第三UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第二UV胶层为在第一UV胶层表面多次涂布UV固化胶形成的复合层，所述第一引线区的电连接区表面未覆盖第二UV胶层。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第一导电层和第二导电层的网格状凹槽和第一引线区和第二引线区的引线凹槽填充有纳米银浆或纳米铜浆或石墨烯材料或纳米银丝或碳纳米管材料。作为本技术所述的超薄复合透明导电膜的一种优选方案：所述第三UV胶层的上表面设置有保护层，所述保护层为聚合物层，第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层、保护层及透明基底一起形成复合透明导电膜，所述第三UV胶层的第二引线区的电连接区与第一UV胶层的第一引线区的电连接区不重合。一种超薄复合透明导电膜的结构，包括透明基底，所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；所述第一UV胶层为在透明基底的表面涂布的第一层UV固化胶，所述第一层UV固化胶进行图形化压印并固化形成第一导电层的网格状凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽填充有导电材料，所述网格状凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；所述第二UV胶层为在第一UV胶层表面设置的第二层UV固化胶，固化形成作为加强绝缘支撑层的第二UV胶层；所述第三UV胶层为在第二UV胶层表面设置的第三层UV固化胶，所述第三层UV固化胶图形化压印并固化形成带有第二导电层的网格状凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽填充有导电材料，所述网格状凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。一种触控显示面板，包括显示装置和超薄复合透明导电膜。一种大尺寸触控一体机设备，包括显示装置、CPU处理器、电源，所述显示装置包括触控面板，所述触控面板包括前述所述的超薄复合透明导电膜。一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底：所述透明基底的一面进行图形化压印并形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽填充有导电材料；所述透明基底形成第一导电层的一面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层，所述第一引线区的电连接区未涂布第二层UV胶层；第二UV胶层表面设置有第三UV胶层，所述第三UV胶层表面进行图形化压印并固化，形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底，其特征在于：/n所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；/n所述第一UV胶层为在透明基底表面涂布的第一层UV固化胶，所述第一UV胶层进行图形化压印并固化而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；/n所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层；/n所述第二UV胶层表面设置有第三UV胶层，所述第三UV胶层表面进行图形化压印并固化，形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。/n

【技术特征摘要】
1.一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底，其特征在于：
所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；
所述第一UV胶层为在透明基底表面涂布的第一层UV固化胶，所述第一UV胶层进行图形化压印并固化而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；
所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层；
所述第二UV胶层表面设置有第三UV胶层，所述第三UV胶层表面进行图形化压印并固化，形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。


2.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：第一对位标识的对位图形凹槽均填充有导电材料，第一对位标识的对位图形凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；
第二对位标识的对位图形凹槽均填充有导电材料，所述第二对位标识的对位图形凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度；
所述第一对位标识和第二对位标识的图形在透明导电薄膜产品中或被保留，或被裁切。


3.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：所述第二UV胶层的厚度为1～10微米。


4.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：所述第二UV胶层与第三UV胶层的材料不同，所述第一UV胶层与第三UV胶层材料相同或不同。


5.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：所述第一引线区的电连接区未涂布有第二层UV固化胶，所述第三UV胶层的第二引线区的电连接区与第一UV胶层的第一引线区的电连接区不重合。


6.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：
所述透明基底与所述第一UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理；
和/或，所述第一UV胶层与第二UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理；
和/或，所述第二UV胶层与第三UV胶层之间涂有增粘层或者做增粘处理。


7.如权利要求1所述的超薄复合透明导电膜，其特征在于：所述第二UV胶层为在第一UV胶层表面多次涂布UV固化胶形成的复合层，所述第一引线区的电连接区表面未覆盖第二UV胶层。


8.如权利要求1所述的超薄复合透明导电...

【专利技术属性】
技术研发人员：周小红，基亮亮，姚益明，陈林森，
申请(专利权)人：苏州维业达触控科技有限公司，苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32