【技术实现步骤摘要】
衬底接合设备和衬底接合方法相关专利申请的交叉引用2018年8月30日在韩国知识产权局提交的题为“衬底接合设备和衬底接合方法”的韩国专利申请No.10-2018-0103029的全部公开通过引用合并于此。
实施例涉及衬底接合设备和衬底接合方法,更具体地,涉及以低成本和提高的精度来制造半导体器件的衬底接合设备和衬底接合方法。
技术介绍
为了开发具有三维(3D)连接结构的半导体器件,需要将两个半导体晶片彼此精确地接合。当两个半导体晶片非常精确地接合在一起时,能够以低成本和高可靠性来制造提供高性能同时具有小尺寸的半导体器件。尽管在开发将两个半导体晶片接合在一起的各种方法,但是需要进一步的接合精度。
技术实现思路
根据一个方面,提供了一种衬底接合设备,包括:衬底基座,被配置为支撑第一衬底;衬底保持器,位于所述衬底基座上方,并且被配置为保持第二衬底;和腔室壳体,被配置为容纳所述衬底基座和所述衬底保持器,其中,所述衬底保持器包括多个保持指状物,所述多个保持指状物能够独立地操作。根据另一方面,提供了一种衬底接合设备,包括:衬底基座,被配置为朝下支撑第一衬底;衬底保持器,位于所述衬底基座上方,并且被配置为保持第二衬底;和按压指状物,布置在与所述第二衬底的中心对应的位置处,并且被配置为将所述第二衬底朝向所述第一衬底按压,其中,所述衬底保持器被配置为在所述第一衬底与所述第二衬底之间的自发接合传播充分实施并且所述第二衬底的边缘接近所述第一衬底的边缘之后,释放对所述第二衬底的保持。根 ...
【技术保护点】
1.一种衬底接合设备,包括:/n衬底基座,支撑第一衬底;/n在所述衬底基座上方的衬底保持器,保持第二衬底,所述衬底保持器包括多个保持指状物,并且所述多个保持指状物能够独立地移动;和/n腔室壳体,容纳所述衬底基座和所述衬底保持器。/n
【技术特征摘要】
20180830 KR 10-2018-01030291.一种衬底接合设备,包括:
衬底基座,支撑第一衬底;
在所述衬底基座上方的衬底保持器,保持第二衬底,所述衬底保持器包括多个保持指状物,并且所述多个保持指状物能够独立地移动;和
腔室壳体,容纳所述衬底基座和所述衬底保持器。
2.根据权利要求1所述的衬底接合设备,其中,所述衬底保持器包括至少八个保持指状物,并且所述第一衬底和所述第二衬底是硅晶片。
3.根据权利要求2所述的衬底接合设备,其中,所述多个保持指状物被独立地控制,以在与所述第二衬底的主表面垂直的方向上操作。
4.根据权利要求3所述的衬底接合设备,还包括:
距离传感器,测量所述第一衬底的边缘与所述第二衬底的边缘之间的距离;
控制器,基于由所述距离传感器感测的距离来控制所述多个保持指状物;和
多个保持指状物致动器,基于所述控制器的控制,分别定位所述多个保持指状物。
5.根据权利要求4所述的衬底接合设备,其中,所述控制器接收由所述距离传感器感测的距离,基于所接收的距离来计算所述多个保持指状物中的每一个的目标位置,并且向所述多个保持指状物致动器发送用于将所述多个保持指状物中的每一个移动至所述目标位置的信号。
6.根据权利要求2所述的衬底接合设备,其中,通过形成在所述多个保持指状物的相应端部上的引力,所述多个保持指状物将所述第二衬底保持在所述多个保持指状物的所述相应端部上。
7.根据权利要求6所述的衬底接合设备,其中,所述多个保持指状物中的每一个具有与所述多个保持指状物的每个端部连通的流体通道,通过维持所述流体通道的内部压力低于环境压力来形成所述引力。
8.根据权利要求6所述的衬底接合设备,其中,
所述多个保持指状物通过静电引力将所述第二衬底保持在所述多个保持指状物的相应端部上,并且
所述多个保持指状物向所述第二衬底施加静电力,并从所述第二衬底释放所述静电力,以控制所述静电引力的施加。
9.根据权利要求2所述的衬底接合设备,其中,所述衬底保持器还包括位于与所述第二衬底的中心对应的位置处的按压指状物,所述按压指状物将所述第二衬底朝向所述第一衬底按压。
10.根据权利要求9所述的衬底接合设备,其中:
所述至少八个保持指状物沿着所述衬底保持器的边缘,所述至少八个保持指状物围绕所述按压指状物,并且
所述按压指状物和所述至少八个保持指状物能够被独立地控制和移动,所述按压指状物仅将所述第二衬底的中心朝向所述第一衬底按压,并且所述多个保持指状物在第一阶段期间保持所述第二衬底的边缘静止。
11.根据权利要求10所述的衬底接合设备,其中,所述衬底保持器允许在所述第一阶段之后的第二阶段期间,充分地实施所述第一衬底与所述第二衬底之间的自发接合传播。
12.根据权利要求11所述的衬底接合设备,其中,在所述第二阶段之后的第三阶段期间,所述多个保持指状物能够朝向所述第一衬底移动,以使所述第二衬底的边缘与所述第一衬底的边缘接合。
13.根据权利要求12所述的衬底接合设备,其中,在所述第三阶段之后的第四阶段期间,所述多个保持指状物释放对所述第二衬底的保持。
14.根据权利要求9所述的衬底接合设备,其中,...
【专利技术属性】
技术研发人员:金俊亨,金圣协,金兑泳,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。