【技术实现步骤摘要】
一种DBC基板上保持铜箔直角的方法
本专利技术属于半导体制造、LED、光通讯领域,特别适用于半导体制冷器、LED、功率半导体等DBC基板制造。
技术介绍
覆铜陶瓷基板(DBC基板)在贴膜曝光显影及蚀刻工序完成后得到所需的铜箔设计图形,而在蚀刻过程中,蚀刻液对铜箔是各个方向连续蚀刻的,原显影出来的铜箔边缘直角(图1左图)经蚀刻后都会变成圆角(图1右图)。由于DBC基板在后道封装时有时芯片会贴着铜箔边缘焊接,因此铜箔边缘的圆角就会造成芯片边角处悬空而无法焊接。为了能使芯片与铜箔在边缘处完全贴合可进行焊接,需要蚀刻后的铜箔边角仍是直角,因而原有的图形设计方法无法满足要求。菲林图形指将所需的产品设计图形,经过CAD软件设计并进行一定加放制作在菲林上,形成菲林图形,通过贴膜曝光显影及蚀刻工序将菲林图形变成产品的实际设计图形。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本专利技术设计一种DBC基板上保持铜箔直角的方法,通过在菲林图形设计时将铜箔直角设计为两边呈圆弧状的尖角,可使铜箔边角蚀刻后仍保持直角,从 ...
【技术保护点】
1.一种DBC基板上保持铜箔直角的方法,其特征在于:具体步骤如下:/n步骤一、按铜箔厚度对菲林图形进行侧腐蚀量加放;/n步骤二、尖角设计:/n(1)将铜箔拐角处设计为带两圆弧且对称的尖角;/n(2)设两圆弧相交尖角点到两边A和B的距离均为a;圆弧与边A的相切点到边B距离和圆弧与边B的相切点到边A距离均为b;圆弧半径为r;/n(3)铜箔厚度t与尖角尺寸a、b、r的关系,单位为mm;/na=(0.4~0.6)t;/nb=(0.55~0.75)t;/nr=(1.35~1.55)t;/n步骤三、贴膜曝光显影及蚀刻工序,铜箔边角蚀刻后为直角。/n
【技术特征摘要】
1.一种DBC基板上保持铜箔直角的方法,其特征在于:具体步骤如下:
步骤一、按铜箔厚度对菲林图形进行侧腐蚀量加放;
步骤二、尖角设计:
(1)将铜箔拐角处设计为带两圆弧且对称的尖角;
(2)设两圆弧相交尖角点到两边A和B的距离均为a;圆弧与边A的相切点到边B距离和圆弧与边B的相切点到边A距离均为b;圆弧半径为r;
(3)铜箔厚度t与尖角尺寸a、b、r的关系,单位为mm;
a=(0.4~0.6)t;
b=(0.55~0.75)t;
r=(1.35~1.55)t;
步骤三、贴膜曝光显影及蚀刻工序,铜箔边角蚀刻后为直角。
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【专利技术属性】
技术研发人员:戴洪兴,贺贤汉,陈天华,周轶靓,王斌,阳强俊,
申请(专利权)人:上海申和热磁电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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