一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用技术

本发明专利技术涉及半导体制造技术领域，公开了一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用，方法包括采集闪存流片中现有光罩组的各光罩参数，并按照光罩标识号、光罩类型、封膜类型、光罩等级、图形明暗、图形种类参数进行分类，将光罩类型、封膜类型、图形明暗、图形种类参数一致的光罩进行合并，汇同未合并的光罩形成新光罩组，并依次进行光罩制备，并使用制备好的光罩执行包括曝光、显影、光刻在内的后续流片工艺。本发明专利技术极大的减少了光罩成本，适用于需要制作少量晶圆情形的新电路的设计开发情况下，可以有效的节约项目的研发成本，本发明专利技术具有切实意义上的实用价值。

A method of reducing the number of masks used in flash film and its application

【技术实现步骤摘要】
一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用
本专利技术涉及半导体制造
，具体涉及一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用。
技术介绍
芯片在研发的过程中，除了电路设计之外，实际还需要通过晶圆流片去制作实体晶圆，后面再经过切割、封装制备芯片之后完成最后的功能测试和验证。一般来说，新技术应用的开发工作会有数个阶段，在前期会花上数次的晶圆流片去验证芯片和完善功能。这个阶段是纯粹的投入，流片的晶圆数量不多，但还是需要制备完整的一套光罩，光罩的费用是这种新产品晶圆流片成本中大的占比，而后期又不会在量产中使用，造成了一定的资源的浪费。而众所周知，浮栅型闪存工艺通常是用来制作NORflash芯片的工艺技术，这是一种很常见的芯片，是用来做小容量数据的存储和程序代码的存储。而本申请人基于NOR闪存架构开发了国内第一款的存算一体芯片，则是使用NORflash架构来进行数据的矩阵计算与处理，这是一种现有技术的全新应用，所以需要进行新技术的研发验证，而这些在前期是投入阶段不会有产出。现有技术的一种做法是在逻辑芯片代工中M本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法，其特征在于，包括：/n采集闪存流片中现有光罩组的各光罩参数，并按照参数进行分类，所述参数包括光罩标识号、光罩类型、封膜类型、光罩等级、图形明暗、图形种类；/n按照光罩类型、封膜类型、图形明暗、图形种类参数一致性对现有光罩组中的各光罩执行合并操作，形成新光罩组，并依次进行光罩制备；/n使用制备好的光罩执行包括曝光、显影、光刻在内的后续流片工艺。/n

【技术特征摘要】
1.一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法，其特征在于，包括：
采集闪存流片中现有光罩组的各光罩参数，并按照参数进行分类，所述参数包括光罩标识号、光罩类型、封膜类型、光罩等级、图形明暗、图形种类；
按照光罩类型、封膜类型、图形明暗、图形种类参数一致性对现有光罩组中的各光罩执行合并操作，形成新光罩组，并依次进行光罩制备；
使用制备好的光罩执行包括曝光、显影、光刻在内的后续流片工艺。


2.根据权利要求1所述的一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法，其特征在于，合并后的光罩等级不低于合并前的各光罩等级中的最高等级。


3.根据权利要求1所述的一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法，其特征在于，所述现有光罩组中光罩张数为28张，所述新光罩组中光罩张数为11张。


4.根据权利要求1所述的一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法，其特征在于，每次进行合并的光罩张数不超过4张。


5.根据权利要求1所述的一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：任军，徐培，吕向东，李政达，
申请(专利权)人：合肥恒烁半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34