量子点膜的制备方法及量子点膜和背光模组技术

技术编号:23360412 阅读:31 留言:0更新日期:2020-02-18 16:03
本申请公开了一种量子点膜的制备方法,该方法包括:步骤一、提供量子点和高分子材料;步骤二、使所述高分子材料处于熔融状态后,向至少部分所述高分子材料中混入量子点;步骤三、挤压所述高分子材料,形成量子点基膜;步骤四、对所述量子点基膜进行电晕处理;步骤五、制得量子点膜。本申请在量子点膜的中间制作过程中对量子点基膜进行电晕处理,使得量子点基膜中的量子点与高分子材料重新排列组合,从而提高了量子点膜的发光亮度。

Preparation method of quantum dot film and quantum dot film and backlight module

【技术实现步骤摘要】
量子点膜的制备方法及量子点膜和背光模组
本申请涉及荧光纳米材料领域,尤其涉及一种量子点膜的制备方法。
技术介绍
量子点具有优异的光学性能,比如发射峰易于调节、半峰宽窄等优点,可以将其应用于显示、照明等领域。量子点材料用于显示时,对色域等方面具有明显的提升。量子点一般被分散在高分子材料中,再制备成量子点膜使用。现有技术中,量子点膜的发光亮度不是很理想。为了提高量子点膜的发光亮度,目前一般采用:1)提高量子点的量子产率;2)提高高分子材料(胶水)的透光率;3)提高量子点膜中水氧阻隔层的透光率;4)加入光扩散粒子等方法实现,但上述方法都大大提高了量子点膜的制造成本。因此,目前急需一种能够提高量子点膜的发光亮度,但又不增大量子点膜生产成本的方法。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种量子点膜的制备方法,能够提高量子点膜的发光亮度。本申请的一方面提供了一种量子点膜的制备方法,该方法包括:步骤一、提供量子点和高分子材料;步骤二、使所述高分子材料处于熔融状态后,向至少部分所述高分子材料中混本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点膜的制备方法,包括:/n步骤一、提供量子点和高分子材料;/n步骤二、使所述高分子材料处于熔融状态后,向至少部分所述高分子材料中混入量子点;/n步骤三、挤压所述高分子材料,形成量子点基膜;/n步骤四、对所述量子点基膜进行电晕处理;/n步骤五、制得量子点膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种量子点膜的制备方法,包括:
步骤一、提供量子点和高分子材料;
步骤二、使所述高分子材料处于熔融状态后,向至少部分所述高分子材料中混入量子点;
步骤三、挤压所述高分子材料,形成量子点基膜;
步骤四、对所述量子点基膜进行电晕处理;
步骤五、制得量子点膜。


2.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,所述步骤四中电晕处理的时间为1s~60s。


3.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,所述步骤四中电晕处理的电压为5000V~15000V。


4.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,所述步骤三中量子点基膜的厚度为10μm~300μm。


5.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,所述步骤三中挤压所述高分子材料的方式为多层共挤流延方式,所述高分子材料包括含量子点的高分子...

【专利技术属性】
技术研发人员:马卜徐晓波林怡王允军
申请(专利权)人:苏州星烁纳米科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1