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量子点膜的制备方法及量子点膜和背光模组技术
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文档序号:23360412
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本申请公开了一种量子点膜的制备方法,该方法包括:步骤一、提供量子点和高分子材料;步骤二、使所述高分子材料处于熔融状态后,向至少部分所述高分子材料中混入量子点;步骤三、挤压所述高分子材料,形成量子点基膜;步骤四、对所述量子点基膜进行电晕处理;...
该专利属于苏州星烁纳米科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州星烁纳米科技有限公司授权不得商用。
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