掩模结构及其制造方法及工作件加工系统技术方案

本揭露涉及掩模结构及其制造方法及工作件加工系统。一种掩模结构包括衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。衬底具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。第一图案化金属层设置在衬底的第一表面上，具有复数个第一开口，第一开口具有第一侧壁。第二图案化金属层设置在衬底的第二表面上，具有复数个第二开口，第二开口具有第二侧壁。衬底具有复数个通孔，通孔具有第三侧壁，通孔对应第一开口和第二开口设置，且第三侧壁与第一侧壁和第二侧壁构成连续平面。

Mask structure, manufacturing method and workpiece processing system

【技术实现步骤摘要】
掩模结构及其制造方法及工作件加工系统
本公开是有关一种掩模结构及其制造方法及工作件加工系统，详细来说，是一种多层结构的掩模及其制造方法及其应用的工作件加工系统。
技术介绍
在制造显示器等电子产品时，通常会在部分制程中使用掩模(mask)，例如金属掩模，使得电子产品上的各个装置可以设置在预定位置。然而，在金属掩模中，由于金属对于应力的承受力较低，因此，当金属掩模受到应力影响，或有应力残留于金属掩模中时，或是金属掩模的孔洞越来越多时，会使得金属掩模产生皱褶、弯曲、翘曲等不良情况，进而影响电子产品的生产良率，例如所制造的显示器会造成严重混色。为了减少应力对于金属掩模的影响，业界尝试增加金属掩模的孔洞间距，藉此提升金属掩模的结构稳定度，但相对的，显示器的分辨率也随之下降。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于提供一种掩模结构及其制造方法，其具有衬底和至少两个金属层的结构，使得其在结构稳定性增加的同时，也增加其分辨率。本专利技术的目的之一在于提供一种工作件加工系统，其利用掩模结构提高所生产的电子产品的质量。根据本公开的一些实施例，一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模结构，其特征在于，所述掩模结构包括：/n衬底，具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；/n第一图案化金属层，设置在所述衬底的所述第一表面上，具有复数个第一开口，所述第一开口具有第一侧壁；及/n第二图案化金属层，设置在所述衬底的所述第二表面上，具有复数个第二开口，所述第二开口具有第二侧壁；/n其中所述衬底具有复数个通孔，所述通孔具有第三侧壁，所述通孔对应所述第一开口和所述第二开口设置，且所述第三侧壁与所述第一侧壁和所述第二侧壁构成连续平面。/n

【技术特征摘要】
20180726 US 62/703,612;20180726 US 62/703,621;20181.一种掩模结构，其特征在于，所述掩模结构包括：
衬底，具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；
第一图案化金属层，设置在所述衬底的所述第一表面上，具有复数个第一开口，所述第一开口具有第一侧壁；及
第二图案化金属层，设置在所述衬底的所述第二表面上，具有复数个第二开口，所述第二开口具有第二侧壁；
其中所述衬底具有复数个通孔，所述通孔具有第三侧壁，所述通孔对应所述第一开口和所述第二开口设置，且所述第三侧壁与所述第一侧壁和所述第二侧壁构成连续平面。


2.如权利要求1的掩模结构，其特征在于，所述第一侧壁具有第一斜率，所述第二侧壁具有第二斜率，所述第三侧壁具有第三斜率，其中所述第一斜率等于所述第三斜率，且所述第三斜率等于所述第二斜率。


3.如权利要求2的掩模结构，其特征在于，所述通孔的所述第三侧壁垂直于所述第一表面。


4.如权利要求3的掩模结构，其特征在于，所述通孔的所述第三侧壁沿着与所述第一表面垂直的方向与所述第一开口的所述第一侧壁和所述第二开口的所述第二侧壁重叠。


5.如权利要求2的掩模结构，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：林进志，陈裕宏，辛孟鸿，
申请(专利权)人：永恒光实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71