一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，包括：箱体；支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；本实用新型专利技术涉及硅晶片抛光技术领域。该可提升调节精度的硅晶片抛光装置可以对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，更好更精确的在硅晶片抛光过程中进行调节，提升了调节的精度，快速方便的对硅晶片进行抛光，提高了硅晶片抛光的效率，可以对抛光产生的废屑进行快速方便的清理。

A polishing device for silicon wafer with high precision

【技术实现步骤摘要】
一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置
本技术涉及硅晶片抛光
，具体为一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置。
技术介绍
元素硅是一种灰色、易碎、四价的非金属化学元素。地壳成分中27.8％是硅元素构成的，仅次于氧元素含量排行第二，硅是自然界中比较富的元素。在石英、玛瑙、燧石和普通的滩石中就可以发现硅元素。硅晶片又称晶圆片，是由硅锭加工而成的，通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管，被广泛应用于集成电路的制造。硅晶片的使用十分广泛，它有着十分重要的作用，硅晶片在生产过程中需要进行抛光，现如今在抛光的过程中无法对放置板与抛光盘之间的距离进行很好的调节，无法对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，无法更好更精确的在硅晶片抛光过程中进行调节，降低了调节的精度，无法快速方便的对硅晶片进行抛光，降低了硅晶片抛光的效率。因此，如何提供一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，可以对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，更好更精确的在硅晶片抛光过程中进行调节以及对抛光产生的废屑进行快速方便的清理已成为本领域技人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，以解决现如今硅晶片抛光过程中无法更好更精确的对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，且无法对抛光产生的废屑进行快速方便的清理的技术问题。本技术提供一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，包括：箱体；支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；出水管，所述出水管连通于所述抽水机的出水口。进一步，所述支撑装置包括两个横块和两个第一滑轨，两个所述横块的底部通过轴承分别转动连接有第一螺纹杆和第二螺纹杆。进一步，所述第一螺纹杆的底端通过轴承与箱体内壁的底部转动连接，所述第二螺纹杆的底端固定连接有把手。更进一步，所述第一螺纹杆和第二螺纹杆的外表面均螺纹连接有第一滑块，两个所述第一滑块的一侧分别与两个第一滑轨的外表面滑动连接，两个所述第一滑块相对的一侧之间固定连接有横板。具体地，所述第一螺纹杆的外表面固定连接有第一皮带轮，所述第二螺纹杆的外表面固定连接有第二皮带轮，所述第一皮带轮的外表面和第二皮带轮的外表面通过皮带传动连接。具体地，所述横板的顶部通过连接杆固定连接有放置板，所述放置板顶部的正面和背面均固定连接有第一限位板，所述放置板顶部的两侧均固定连接有第二限位板。具体地，所述调节装置包括两个电动伸缩杆，两个所述电动伸缩杆的底端固定连接有移动板，所述移动板的底部固定连接有第二滑轨。具体地，所述第二滑轨的外表面滑动连接有第二滑块，所述第二滑块的底部固定连接有电机，所述电机输出轴的一端固定连接有抛光盘。更具体地，所述箱体内壁的两侧均固定连接有储存箱，所述箱体一侧的底部连通有排污管。所述箱体的正面通过合页铰接有箱门，所述箱体和水箱的底部固定连接有底板，所述底板底部的两侧均固定连接有万向轮。与现有技术相比较，本技术的有益效果在于：本技术提供的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，包括：箱体；支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；出水管，所述出水管连通于所述抽水机的出水口。本技术提供的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置有效地以解决现如今硅晶片抛光过程中无法更好更精确的对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，且无法对抛光产生的废屑进行快速方便的清理的技术问题。其一，本技术通过转动把手带动第二螺纹杆转动，带动第二皮带轮转动，带动第一皮带轮和第一螺纹杆转动，带动第一滑块、移动板和放置板向上或向下运动，通过电动伸缩杆伸长或缩短带动移动板、第二滑轨、第二滑块、电机和抛光盘运动，这样可以对放置板与抛光盘之间的距离进行很好的调节，对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，更好更精确的在硅晶片抛光过程中进行调节，提升了调节的精度，快速方便的对硅晶片进行抛光，提高了硅晶片抛光的效率。其二，本技术通过对第二滑块进行滑动，带动电机和抛光盘运动，这样可以便于工作人员对硅晶片的不同位置进行抛光，通过抽水机工作，抽水机通过进水管和出水管将水箱中的水抽入箱体，这样可以对抛光产生的废屑进行快速方便的清理。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的可提升调节精度的硅晶片抛光装置的整体的结构示意图；图2为本技术实施例提供的可提升调节精度的硅晶片抛光装置的结构剖视图；图3为本技术实施例提供的可提升调节精度的硅晶片抛光装置支撑装置的结构示意图；图4为本技术实施例提供的可提升调节精度的硅晶片抛光装置调节装置的结构示意图。附图标记：1-箱体；2-支撑装置；21-横块；22-第一滑轨；23-第一螺纹杆；24-第二螺纹杆；25-把手；26-第一滑块；27-横板；28-第一皮带轮；29-第二皮带轮；3-调节装置；31-电动伸缩杆；32-移动板；33-第二滑轨；34-第二滑块；35-电机；36-抛光盘；4-水箱；5-抽水机；6-进水管；7-出水管；8-放置板；9-第一限位板；10-第二限位板；11-储存箱；12-排污管；13-箱门；14-底板；15-万向轮。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和显示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于，包括：/n箱体；/n支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；/n调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；/n水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；/n抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；/n进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；/n出水管，所述出水管连通于所述抽水机的出水口。/n

【技术特征摘要】
1.一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于，包括：
箱体；
支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；
调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；
水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；
抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；
进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；
出水管，所述出水管连通于所述抽水机的出水口。


2.根据权利要求1所述的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于：所述支撑装置包括两个横块和两个第一滑轨，两个所述横块的底部通过轴承分别转动连接有第一螺纹杆和第二螺纹杆。


3.根据权利要求2所述的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于：所述第一螺纹杆的底端通过轴承与箱体内壁的底部转动连接，所述第二螺纹杆的底端固定连接有把手。


4.根据权利要求2所述的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于：所述第一螺纹杆和第二螺纹杆的外表面均螺纹连接有第一滑块，两个所述第一滑块的一侧分别与两个第一滑轨的外表面滑动连接，两个所述第一滑块相对的一侧之间固定连接有横板。


5.根据权利要求2所述的一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，其特征在于：所述第一螺纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨杰鑫，陈建铭，杨静敏，
申请(专利权)人：深圳市杰盛微半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44