一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了单晶硅技术领域的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台，所述驱动电机底部输出端与加工刀具连接，且软管位于加工刀具的右侧，所述工作平台底部安装有收集箱，所述收集箱左右两侧内壁之间设置有支撑板，所述支撑板顶部中央与挡板连接，所述挡板顶部与过滤网连接，所述过滤网右侧外壁与收集箱右侧内壁顶部连接，所述支撑板顶部右侧设置有抽水泵，所述抽水泵右侧出水口延伸至收集箱右侧外壁并与回流管连接，装置中通过软管向加工刀具上喷水，去除加工刀具表面附着的费屑杂质，防止加工刀具上附着的杂质划伤单晶硅表面而降低单晶硅的生产质量，同时通过抽水泵将收集的水输送到储水箱中再次使用，节约了水资源。

A single crystal silicon impurity removal device with water circulation function

【技术实现步骤摘要】
一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置
本专利技术涉及单晶硅
，具体为一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置。
技术介绍
硅的单晶体，具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，用于制造半导体器件、太阳能电池等，单晶硅在生产加工时，产生大量的费屑，费屑粘在刀具上，容易划破单晶硅表面，影响单晶硅整体的加工质量，并且大量费屑附着在刀具上，使刀具加工产生的热量无法散发，导致刀具损坏，降低装置使用寿命，为此，我们提出一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台，所述工作平台顶部左右两侧均设置有立柱，两组所述立柱顶部与顶板连接，所述顶板内腔底部开设有导向槽，所述导向槽内腔底部活动插接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆底部设置有驱动电机，所述驱动电机底部输出端与加工刀具连接，所述驱动电机底部外壁设置有防尘罩，且加工本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台(1)，其特征在于：所述工作平台(1)顶部左右两侧均设置有立柱(2)，两组所述立柱(2)顶部与顶板(3)连接，所述顶板(3)内腔底部开设有导向槽(5)，所述导向槽(5)内腔底部活动插接有电动伸缩杆(4)，所述电动伸缩杆(4)底部设置有驱动电机(6)，所述驱动电机(6)底部输出端与加工刀具(7)连接，所述驱动电机(6)底部外壁设置有防尘罩(8)，且加工刀具(7)位于防尘罩(8)的内腔，右侧所述立柱(2)右侧外壁安装有储水箱(9)，所述储水箱(9)内腔左侧底部设置有泵，且泵左侧出水口延伸至储水箱(9)的左侧外壁并与软管(10)连接，所述软管(10...

【技术特征摘要】
1.一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台(1)，其特征在于：所述工作平台(1)顶部左右两侧均设置有立柱(2)，两组所述立柱(2)顶部与顶板(3)连接，所述顶板(3)内腔底部开设有导向槽(5)，所述导向槽(5)内腔底部活动插接有电动伸缩杆(4)，所述电动伸缩杆(4)底部设置有驱动电机(6)，所述驱动电机(6)底部输出端与加工刀具(7)连接，所述驱动电机(6)底部外壁设置有防尘罩(8)，且加工刀具(7)位于防尘罩(8)的内腔，右侧所述立柱(2)右侧外壁安装有储水箱(9)，所述储水箱(9)内腔左侧底部设置有泵，且泵左侧出水口延伸至储水箱(9)的左侧外壁并与软管(10)连接，所述软管(10)左侧延伸至防尘罩(8)的内腔，且软管(10)位于加工刀具(7)的右侧，所述工作平台(1)顶部开设有孔洞，所述工作平台(1)底部安装有收集箱(11)，所述收集箱(11)内腔底部设置有杂质收集箱(12)，且杂质收集箱(12)顶部开设有开口，所述杂质收集箱(12)右侧外壁与把手(13)连接，且把手(13)右端延伸至收集箱(11)的右侧外壁，所述收集箱(11)左右两侧内壁之间设置有支撑板(14)，且支撑板(14)位于杂质收集箱(12)的正上方，所述支撑板(14)顶部中央与挡板(15)连接，所述挡板(15)顶部与过滤网(16)连接，所述过滤网(16)右侧外壁与收集箱(11)右侧内壁顶部连接，且过滤网(16)左侧高度低于右侧高度，所述支撑板(14...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈春成，戚建静，
申请(专利权)人：江苏晶品新能源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32