一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了单晶硅片超声波清洗机技术领域的一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，包括，基础组件，所述基础组件包括L形架，所述L形架底部内壁通过支架设置有超声波清洗器主体；承接组件，所述承接组件包括设置在L形架底部内壁中部的气缸，所述中空柱的圆周外壁环形阵列设置有多组U形座；循环组件，所述循环组件设置在超声波清洗器主体右侧外壁。本实用新型专利技术设置有承接组件，可通过限位导轨顶部和U形座顶部内壁的限位槽配合定位待清洗的单晶硅片，限位导轨通过螺杆可调控，方便定位不同规格的单晶硅片，同时在清洗时，通过旋转装置可使其在超声波清洗器主体内转动，提高清洗质量。高清洗质量。高清洗质量。

【技术实现步骤摘要】
一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机


[0001]本技术涉及单晶硅片超声波清洗机
，具体为一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机。

技术介绍

[0002]单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿，其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。
[0003]目前，单晶硅片在生产时需要通过超声波清洗机对其进行清洗，传统的单晶硅片大多是将其放置在超声波清洗机内，该种方式因为单晶硅片在超声波清洗机内处于静置状态，导致超声波清洗机对其的清洗效果较差，同时清洗后不方便烘干，还需人工后续进行单独处理，较为麻烦。为此，我们提出一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，包括，
[0006]基础组件，所述基础组件包括L形架，所述L形架底部内壁通过支架设置有超声波清洗器主体；
[0007]承接组件，所述承接组件包括设置在L形架底部内壁中部的气缸，所述气缸输出端活动贯穿超声波清洗器主体底部并设置有保护壳，且保护壳内设置有旋转装置，且旋转装置输出端活动贯穿保护壳顶部并设置有中空柱，所述中空柱的圆周外壁环形阵列设置有多组U形座，所述U形座内腔底部活动设置有限位导轨，所述限位导轨顶部和U形座顶部内壁线性阵列开设有多组限位槽；
[0008]循环组件，所述循环组件设置在超声波清洗器主体右侧外壁。
[0009]优选的，所述限位导轨底部中央通过轴承转动设置有螺柱，且螺柱底部螺纹贯穿U形座底部并设置有驱动盘，所述限位导轨底部两侧均设置有导杆，且导杆底部活动贯穿U形座底部。
[0010]优选的，所述U形座内腔开设有流通道，且流通道与中空柱连通，所述U形座顶部内壁且处于相邻两组限位槽之间的位置对称倾斜设置有两组与流通道连通的喷嘴。
[0011]优选的，所述中空柱顶部设置有相连通的对接管，所述对接管的顶部处于超声波清洗器主体顶部上方，所述L形架前侧顶部设置有垫板，且垫板上设置有与对接管对应的暖风装置，且暖风装置的输出端设置有与对接管适配的插设管。
[0012]优选的，所述循环组件包括设置在超声波清洗器主体右侧外壁底部的泵体，所述泵体的输入端通过管道与超声波清洗器主体内腔连通，所述泵体的输出端设置有循环管，且循环管的另一端连通有处理壳，所述处理壳的左侧通过管道与超声波清洗器主体内腔连
通。
[0013]优选的，所述处理壳顶部设置有与其内腔相连通的阶梯口，所述阶梯口内设置有与处理壳内腔相适配的滤板，且滤板顶部设置有与阶梯口内腔顶部相适配的封板。
[0014]优选的，所述处理壳的前后侧外壁顶部对称插设有T形杆，且T形杆外壁套设有复位弹簧，所述封板的前后侧均开设有与T形杆适配的插孔。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术设置有承接组件，可通过限位导轨顶部和U形座顶部内壁的限位槽配合定位待清洗的单晶硅片，限位导轨通过螺杆可调控，方便定位不同规格的单晶硅片，同时在清洗时，通过旋转装置可使其在超声波清洗器主体内转动，提高清洗质量，且在清洗后，通过气缸使得保护壳向上，使得插设管和对接管对接，即可通过暖风装置向中空柱内注入热气，使得喷嘴处喷出热气实现对清洗后的单晶硅片的干燥作业，大大提高工作效率，同时设置有循环组件，使得超声波清洗器主体内部的清洗液循环流动并通过滤板过滤出杂质等，进一步提高内部的清洗质量，且滤板方便随封板一起向上拆除，使得该循环组件具有较高的使用寿命。
附图说明
[0016]图1为本技术一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机结构示意图；
[0017]图2为本技术一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机中承接组件结构示意图；
[0018]图3为本技术一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机中循环组件结构示意图。
[0019]图中：1、基础组件；11、L形架；12、超声波清洗器主体；13、垫板；14、暖风装置；2、承接组件；21、气缸；22、保护壳；23、中空柱；24、对接管；25、U形座；26、限位槽；27、螺柱；28、限位导轨；29、喷嘴；3、循环组件；31、泵体；32、循环管；33、处理壳；34、阶梯口；35、滤板；36、封板；37、T形杆。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0021]所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的符号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0022]本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术或简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0023]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0024]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“衔接”、“铰接”等术语应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]实施例1
[0026]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机(本技术中的电器元件均通过导线与外部电源连接)，包括，
[0027]基础组件1，基础组件1包括L形架11，L形架11底部内壁通过支架设置有超声波清洗器主体12，超声波清洗器主体12属于现有技术，现有的超声波清洗器主体12可以在接通电源后从底部开设有的超声波发射孔中发出交频讯号，通过换能器转换成了交频机械振荡而传播到介质——清洗液中，强力的超声波在清洗液中以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，其特征在于：包括，基础组件(1)，所述基础组件(1)包括L形架(11)，所述L形架(11)底部内壁通过支架设置有超声波清洗器主体(12)；承接组件(2)，所述承接组件(2)包括设置在L形架(11)底部内壁中部的气缸(21)，所述气缸(21)输出端活动贯穿超声波清洗器主体(12)底部并设置有保护壳(22)，且保护壳(22)内设置有旋转装置，且旋转装置输出端活动贯穿保护壳(22)顶部并设置有中空柱(23)，所述中空柱(23)的圆周外壁环形阵列设置有多组U形座(25)，所述U形座(25)内腔底部活动设置有限位导轨(28)，所述限位导轨(28)顶部和U形座(25)顶部内壁线性阵列开设有多组限位槽(26)；循环组件(3)，所述循环组件(3)设置在超声波清洗器主体(12)右侧外壁。2.根据权利要求1所述的一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，其特征在于：所述限位导轨(28)底部中央通过轴承转动设置有螺柱(27)，且螺柱(27)底部螺纹贯穿U形座(25)底部并设置有驱动盘，所述限位导轨(28)底部两侧均设置有导杆，且导杆底部活动贯穿U形座(25)底部。3.根据权利要求2所述的一种带有限位导轨的单晶硅片超声波清洗机，其特征在于：所述U形座(25)内腔开设有流通道，且流通道与中空柱(23)连通，所述U形座(25)顶部内壁倾斜设置有多组与流通道连通的喷嘴(29)。4.根据权利要求3所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈春成，戚建静，徐芳，
申请(专利权)人：江苏晶品新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：