氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体制造技术

一种氧化物薄膜，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。另外，一种氧化物烧结体，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.1，MoO

Oxide film and oxide sinter for sputtering target

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体
本专利技术涉及具有光吸收能力的氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体。
技术介绍
在液晶显示器、等离子体显示器、有机电致发光(EL)显示器、触控面板、太阳能电池等中，使用包含ITO(氧化铟锡)的透明导电膜作为布线构件。ITO对于可见光具有优异的透射性，并且在氧化物中电阻率低，因此是作为布线构件的优异的材料。然而，在使显示器、面板大面积化的情况下，产生了电阻变高、不能应对大面积化的问题。因此，在研究使用电阻率低的金属薄膜代替ITO膜作为布线构件。然而，在使用金属薄膜作为布线构件的情况下，产生了金属薄膜反射可见光、从而使显示器、面板的可视性降低的问题。针对该问题，在研究在金属薄膜的附近形成能够吸收反射光的膜，从而抑制由该金属薄膜引起的光的反射，实现可视性的提高。关于减少光的反射的膜，例如专利文献1中公开了使用含有Cu和Fe中的任意一种、Ni和Mn中的任意一种的氧化物膜作为降低触控面板屏幕的布线图案的金属光泽的膜。另外，专利文献2中公开了与由铜箔等构成的布线层一起形成含有氧、铜、镍和钼的黑化层。专利文献3～5涉及用于太阳能利用的太阳光吸收层、用于液晶显示器的黑色矩阵层的光吸收层，并且公开了在氧化物基质中分散有作为吸收成分的金属的、由两层构成的光吸收层。另外，记载了层整体的厚度在180nm～455nm的范围内、在380nm～780nm的波长范围内具有小于1％的光透射率(視感透過率)、小于6％的光反射率(視感反射率)等。另外，除此以外，还已知相移光掩模作为要求光的透射率、反射率、膜厚的用途。相移光掩模出于利用光的干涉来提高分辨率的目的而使用。对于相移光掩模膜而言，根据所使用的激光波长，要求特定的膜厚、特定的透射率(约百分之几)、低反射率。此外，在装饰用途中，也存在减少光反射的膜的需求。需要说明的是，专利文献6中记载了Nb的含量为1重量％～35重量％、剩余部分实质上为Mo的黑色矩阵用薄膜，并且该薄膜的一部分或全部以氧化物、氮化物、碳化物中的任意一种或两种以上的化合物的形式存在。然而，专利文献6中没有具体公开氧等的含有比率，完全不清楚能够得到何种程度的反射率、透射率。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-160448号公报专利文献2：日本特开2017-41115号公报专利文献3：日本特表2016-504484号公报专利文献4：日本特表2016-502592号公报专利文献5：日本特表2016-522317号公报专利文献6：日本特开2000-214308号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术的课题在于提供一种适合于防止光的反射、兼具良好的利用蚀刻的加工性和耐候性并且具有光吸收能力的氧化物薄膜、以及适合于形成上述氧化物薄膜的溅射靶用氧化物烧结体。用于解决问题的手段本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜包含Nb、Mo、O(氧)，其要旨在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。另外，本专利技术的实施方式的氧化物烧结体包含Nb、Mo、O(氧)，其要旨在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.1，MoO2相的归属于(-111)面的XRD峰强度IMoO2与背景强度IBG的关系满足IMoO2/IBG＞3。专利技术效果根据本专利技术，能够得到兼具良好的利用蚀刻的加工性和耐候性、并且具有适合于防止光的反射的光吸收能力的氧化物薄膜。另外，能够得到适合于形成上述氧化物薄膜的溅射靶用氧化物烧结体。附图说明图1为从薄膜侧入射的光的反射率(膜侧反射率)的说明图。图2为从玻璃基板侧入射的光的反射率(基板侧反射率)的说明图。具体实施方式考虑使用金属膜作为光吸收膜。但是，在这种情况下，虽然光的吸收性高，能够降低透射率，但是产生金属特有的金属反射，难以降低反射率。另外，也考虑在金属膜上形成氧化膜，但是制造工艺增加，从而使生产效率降低。另一方面，考虑使用氧化物膜作为光吸收膜。在这种情况下，由于不产生金属反射，因此表面反射被抑制，但是与金属膜相比光吸收性低，因此透射率增加，从而来自下部金属电极等的反射光变得显眼，有时使可视性变差。关于这一点，在氧化物中，NbO2、MoO2是可见光的透射率比较低、并且反射率也比较低的材料，认为作为光吸收膜是有用的。然而，在单独使用NbO2膜的情况下，经时变化小、耐候性优异，另一方面，存在难以溶解于除氟化氢(HF)以外的蚀刻液中、难以通过蚀刻进行加工的问题。另一方面，在单独使用MoO2膜的情况下，即使利用用于金属布线的过氧化氢(H2O2)类的蚀刻液，也能够通过蚀刻进行加工，但是存在耐候性变差的问题。因此，本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜以特定的比率含有：耐候性良好但是难以通过蚀刻进行加工的NbO2、和能够通过蚀刻进行加工但是耐候性差的MoO2。即，本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜包含Nb、Mo、O(氧)，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。满足上述组成范围0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8的本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜具有所期望的光学特性、膜电阻、非晶性。另一方面，当Nb/(Nb+Mo)小于0.1时，得不到所期望的耐候性，当Nb/(Nb+Mo)大于0.8时，得不到所期望的利用蚀刻的加工性。优选Nb与Mo的含有比率为0.1＜Nb/(Nb+Mo)＜0.5。另外，当O与金属(Nb+Mo)的含有比率O/(Nb+Mo)为1.5以下时，反射率增大，当O/(Nb+Mo)为2.0以上时，透射率增大，得不到所期望的光学特性。因此，设定在上述的组成范围内。另外，对于本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜而言，优选在玻璃基板上形成了膜厚为100nm±10nm的薄膜时的、对可见光区域(波长：380nm～780nm)的入射光的平均反射率为30％以下。在此，“平均”反射率是指对上述波长范围每5nm测定反射率并计算其平均值而得到的值。反射率存在如图1所示的从薄膜侧入射的光的反射率(膜侧反射率)和如图2所示的从玻璃基板侧入射的光的反射率(基板侧反射率)，但是在本公开中，反射率仅指膜侧反射率。另外，反射光存在镜面反射光和漫反射光，但是在本公开中，是指将镜面反射光和漫反射光合并的相对全光线反射率。另外，对于本专利技术的实施方式所涉及的氧化物薄膜而言，另外，优选在玻璃基板上形成了膜厚为100nm±10nm的薄膜时的、对可见光区域(波长：380nm～780nm)的入射光的平均透射率为20％以下。在此，“平均”透射率是指对上述波长范本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化物薄膜，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180313 JP 2018-0456051.一种氧化物薄膜，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。


2.如权利要求1所述的氧化物薄膜，其特征在于，所述氧化物薄膜的在可见光区域(波长：380nm～780nm)中的平均反射率为30％以下。


3.如权利要求1或2所述的氧化物薄膜，其特征在于，所述氧化物薄膜的在可见光区域(波长：380nm～780nm)中的平均透射率为20％以下。


4.如权利要求1～3中任一项所述的氧化物薄膜，其特征在于，所述氧化物薄膜的表面电阻率为1.0×105Ω/□以下。


5.如权利要求1～4中任一项所述的氧化物薄膜，其特征在于，所述氧化物薄膜的恒温恒湿试验前后的可见光区域(波长：380nm～780nm)中的平均反射率的变化率为30％以下。


6.如权利要求1～5中任一项所述的氧化物薄膜，其特征在于，所述氧化物薄膜的恒温恒湿试验...

【专利技术属性】
技术研发人员：奈良淳史，宗安慧，
申请(专利权)人：捷客斯金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP