【技术实现步骤摘要】
一种晶圆表面涂覆方法、封装方法及真空印刷机
本专利技术涉及半导体封装
,尤其涉及一种晶圆表面涂覆方法、封装方法及真空印刷机。
技术介绍
现有技术提供的晶圆级六面保护封装一般采取固态颗粒状塑封料,通过高温高压的方式塑封;由于其为粉末状塑封料,当采用高温高压的方式进行塑封时,由于粉末状塑封料并不能够完全均匀的铺设在晶圆表面,会导致后期晶圆在合模时裂片,除了上述状况外,采用粉末状塑封料还存在气泡的问题,第一、塑封料由粉末状在经过高温变成液态后,塑封料内部容易产生气孔;第二、在芯片切割道的边角缝隙中,由于没有特殊的压力作用在液态树脂上,边角缝隙中会产生气孔并且不易排出故而容易使得封装后的芯片表面产生气泡;产生气泡容易造成芯片内部的裸露,导致芯片容易受损。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足,本专利技术的目的之一在于提供一种晶圆表面涂覆方法,其能够极大减少塑封体中的气泡,为芯片提供更为全面的保护。本专利技术的目的之二在于提供一种形成芯片六面保护的封装方法,其能够极大减少塑封体中的的气泡,为芯片提供更为全面的保护。本专利技术的目的之三在于提供真空印刷机,其能够提供在真空条件下对晶圆印刷液态树脂的结构基础。本专利技术的目的之一采用如下技术方案实现:一种晶圆表面涂覆方法,包括如下步骤:抽真空步骤:当运载有晶圆的晶圆平台达到预设位置时,控制真空泵工作以抽取真空印刷机腔体内的空气,进而使得腔体内绝对压力值达到第一预设值;第一印刷步骤:控制刮刀装置工作,刮 ...
【技术保护点】
1.一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,包括如下步骤:/n抽真空步骤:当运载有晶圆的晶圆平台达到预设位置时,控制真空泵工作以抽取真空印刷机腔体内的空气,进而使得腔体内绝对压力值达到第一预设值;/n第一印刷步骤:控制刮刀装置工作,刮刀装置在行进过程中推动液态树脂前进,以使得液态树脂涂覆在晶圆表面并填充晶圆上的切割槽;/n第二印刷步骤:控制真空泵将腔体内绝对压力值增大至第二预设值,并控制刮刀装置返回并推动液态树脂,进而使得液态树脂再次涂覆至晶圆表面并填充晶圆上的切割槽。/n
【技术特征摘要】
1.一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,包括如下步骤:
抽真空步骤:当运载有晶圆的晶圆平台达到预设位置时,控制真空泵工作以抽取真空印刷机腔体内的空气,进而使得腔体内绝对压力值达到第一预设值;
第一印刷步骤:控制刮刀装置工作,刮刀装置在行进过程中推动液态树脂前进,以使得液态树脂涂覆在晶圆表面并填充晶圆上的切割槽;
第二印刷步骤:控制真空泵将腔体内绝对压力值增大至第二预设值,并控制刮刀装置返回并推动液态树脂,进而使得液态树脂再次涂覆至晶圆表面并填充晶圆上的切割槽。
2.如权利要求1所述的一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,在第二印刷步骤之后还包括气压恢复步骤:控制腔体内气压恢复至大气压强。
3.如权利要求1所述的一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,所述刮刀装置包括第一刮刀、第一竖向驱动电机、第二刮刀、第二竖向驱动电机、刮刀支架和横向驱动电机;
所述第一竖向驱动电机用于驱动第一刮刀在竖直方向上移动,所述第二竖向驱动电机用于驱动第二刮刀在竖直方向上移动,所述第一个刮刀、第一竖向驱动电机、第二刮刀和第二竖向驱动电机均设置在刮刀支架上,所述横向驱动电机用于驱动所述刮刀支架在横向方向上移动;在第一印刷步骤中控制第一刮刀工作,在第二印刷步骤中控制第二刮刀工作。
4.如权利要求3所述的一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,所述第一刮刀为橡胶刮刀,所述第二刮刀为陶瓷刮刀。
5.如权利要求4所述的一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,当橡胶刮刀处于工作状态时,所述橡胶刮刀与接触面的压力为0.15~0.25MPa中任意一数值,橡胶刮刀在行进过程中的移动速度范为3~10mm/s中任意一数值;当陶瓷刮刀处于工作状态时,所述陶瓷刮刀与接触面的压力为0.02~0.15MPa中任意一数值;陶瓷刮刀在行进过程中的移动速度为3~10mm/s中任意一数值。
6.如权利要求1所述的一种晶圆表面涂覆方法,其特征在于,所述第一预设值为100~200之间任意一数值,所述第二预设值为4000~6000之间任意一数值。
7.一种形成芯片六面保护的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:
半切割步骤:对经过背面贴膜的晶圆的正面进行半切割以开设沟槽,所述沟槽将芯片一一分割开;
真空印刷步骤:采用如权利要求1-6中任意一项所述的晶圆表面涂覆方法对晶圆进行真空印刷以使得各个芯片被液态树脂包裹;
打磨步骤:对经过真空印刷的晶圆进行打磨处理;
贴膜步骤:在经过打磨处理后的晶圆背面贴膜;
全切割步骤:对所述晶圆进行全切割以使得每个被密封的芯片分离成单个封装件。
8.如权利要求7所述的一种形成芯片六面保护的封装方法,其特征在于,所述打磨处理包括正面打磨和背面打磨;
所述正面打磨具体为,对晶圆正面表面进行研磨减薄直至芯片的电极表面露出;
所述背面打磨具体为,对经过真空印...
【专利技术属性】
技术研发人员:欧俊舟,刘军,袁伟,罗浩维,林英灿,
申请(专利权)人:深圳赛意法微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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