一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及机械设备领域，具体涉及到一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置。该清洗装置包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。

A non-contact ultrasonic cleaning device for photolithography equipment

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置
本专利技术涉及机械设备领域，具体涉及到一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标位置上)的机器。而这种光刻机等设备(如浸没式光刻机)的投影隔水罩，以及硅片晶元平台等经常与带有光刻胶的硅片接触，带来投影隔水罩脏污，硅片台上有颗粒物导致硅片畸变等问题，导致高精度设备的作业精度、硅片的处理工艺等受到较严重的影响。因此需要对该经常与光刻胶等接触的，容易被污染的特殊部件进行清洗。现有技术中对此类设备的清洗主要是采用大理石打磨或者整个部件浸泡清洗，费时费力，效率比较低而且由于大理石打磨采用的是接触式清理，因而存在损坏部件的风险。
技术实现思路
针对上述技术问题，本专利技术的第一方面提供了一种非接触式超声清洗装置，包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。作为一种优选的技术方案，所述非接触式超声清洗装置还设置有气体循环装置。作为一种优选的技术方案，所述气体循环装置设置在所述清洗液循环装置的吸水口与气浮装置之间。作为一种优选的技术方案，所述气体循环装置上设置有向内方向的进气口和竖直方向的出气口。作为一种优选的技术方案，所述清洗装置上设置有砝码。r>作为一种优选的技术方案，所述导轨通过旋转支柱与所述支架连接。作为一种优选的技术方案，所述可移动挂片通过移动装置与所述导轨连接。作为一种优选的技术方案，所述导轨包括横向导轨和纵向导轨；所述横向导轨固定设置在所述支架上；所述纵向导轨通过移动装置设置在所述横向导轨上。作为一种优选的技术方案，所述移动装置为卡槽式移动装置、滑动式移动装置或滚动式移动装置。本专利技术的第二个方面提供了如上所述非接触式超声清洗装置在光刻设备清洗工艺中的应用。有益效果：本专利技术中通过对清洗装置的清洗液循环装置、气浮装置、气体循环装置等的巧妙设计，利用清洗液循环装置、超声发生器、导轨和支架，一方面避开易泄露清洗液的凹点，另一方面可以将整个光刻设备等高精度设备的易沾污部件表面全部充分清洗的同时，利用气浮装置和砝码有效调控清洗装置与被清洗物之间的距离，避免清洗装置与被清洗物表面的直接接触，避免对被清洗物造成二次污染或损坏。同时，巧妙设置气体循环装置，在清洗装置和被清洗物表面形成气刀，避免清洗液泄漏到硅片台上，造成浪费和进一步污染问题。附图说明图1是本专利技术中非接触式超声清洗装置的清洗装置结构示意图。图2是本专利技术实施例1中的非接触式超声清洗装置的结构示意图。图3是本专利技术实施例2和3中的非接触式超声清洗装置的结构示意图。1-清洗装置、2-清洗液循环装置、2-1-吸水口、2-2-出水口、3-气体循环装置、3-1-进气口、3-2-出气口、4-砝码、5-气浮装置、6-光刻机硅片台、7-超声发生器、8-支架、9-移动装置、10-旋转支柱、11-导轨、11-1-横向导轨、11-2-纵向导轨、12-可移动挂片、14-连接管。具体实施方式下面结合具体实施方式对本专利技术提供技术方案中的技术特征作进一步清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本专利技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。本专利技术中所述“内”的含义指的是阅读者正对附图时，向清洗装置中心位置为“内”，偏离清洗装置中心位置，处于清洗装置侧边为边缘位置，也即为“外”。阅读者的所示视图上边即为上，阅读者的下边即为下，而非对本专利技术的装置机构的特定限定。针对上述技术问题，本专利技术的第一方面提供了一种非接触式超声清洗装置，包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。本专利技术中的非接触式超声清洗装置中，对清洗装置的形状没有做特殊限定，可以选用任何常规形状，例如圆盘形状等。在清洗装置的中央位置设置有清洗液循环系统，备好的清洗液可以通过该系统中的中心出水口喷出，与硅片台上的脏污接触清洗，然后通过外围吸水口流回到循环系统中。本专利技术中对所述清洗液的种类没有做特殊限定，可以选用超纯水清洗，也可以选用本领域技术人员所熟知的其它种类清洗液进行清洗。本专利技术中的清洗装置上设置有超声发生器，所述超声发生器也称超声波驱动电源。利用该超声发生器将电信号通过振动的方式传递给清洗液，是清洗液在硅片晶元平台、光刻机的投影隔水罩面等上高频率振动，从而更好的去除污渍，达到更好的清洗效果。此外，本专利技术中对所述超声发生器的设置位置不做特殊限定，只要能够使清洗液发生超声震荡即可。在一种优选的实施方式中，所述超声发生器的设置位置在中心出水口和外围吸水口之间，这样有助于使清洗液从出水口喷出并且从吸水口流入循环系统之前充分震荡，洗去污渍。本专利技术中为了避免清洗装置与被清洗的硅片晶元平台、光刻机的投影隔水罩面之间发生接触而磨损，在清洗装置边缘设置有气浮装置。该气浮装置往被清洗平台表面喷出压缩空气，从而产生浮力，避免清洗装置与被清洗平台发生接触。本专利技术中该气浮装置的设置位置对于产生浮力，避免清洗装置与被清洗平台接触的作用来说不产生影响，可以设置在清洗装置的任何位置，只要保证将清洗装置稳定浮起即可。为了不影响清洗装置的清洗液循环装置，以及正常的清洗操作，该气浮装置设置在清洗装置的边缘位置。本专利技术中为了使清洗装置能够更稳定的在被清洗平台表面上浮起，避免两者接触的同时，又能更好的调控被清洗平台表面和清洗装置之间的距离，在一种实施方式中，所述清洗装置上设置有砝码。通过砝码可以更好的调节清洗装置的重量，也可以与气浮装置所产生的浮力协调，能更好的调控清洗装置的浮起高度，达到避免接触对硅片台等被清洗面造成二次污染和损坏的同时，还能达到更好的清洗的目的。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非接触式超声清洗装置，其特征在于，包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种非接触式超声清洗装置，其特征在于，包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。


2.如权利要求1所述的非接触式超声清洗装置，其特征在于，所述非接触式超声清洗装置还设置有气体循环装置。


3.如权利要求2所述的非接触式超声清洗装置，其特征在于，所述气体循环装置设置在所述清洗液循环装置的吸水口与气浮装置之间。


4.如权利要求3所述的非接触式超声清洗装置，其特征在于，所述气体循环装置上设置有向内方向的进气口和竖直方向的出气口。


5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳力挽，顾大公，毛智彪，马潇，许从应，
申请(专利权)人：宁波南大光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33