配合结构制造技术

保持器（７）的接合部分（７ａ）与金属垫片（６）接合，垫片（６）容纳在管状部分（７ｂ）中，并且管状部分（７ｂ）装配在连接管（１ａ）的台阶（５ａ）中。然后，另一连接管（１ｂ）靠近并面对连接管（１ａ）设置，连接管（１ａ）通过保持器（７）保持垫片（６），中心环（９）安装成围绕凸缘（２ａ，２ｂ）的外周。随后，具有限定两侧的斜面（３ａ，３ｂ）的梯形部分插入槽（１４）中，分段（１０ａ－１０ｃ）相互靠近形成环形。穿过分段（１０ａ）的切口（１２）的螺栓（１１）拧入分段（１０ｃ）的螺纹孔（１３）中。螺栓的拧入导致具有限定两侧的斜面（３ａ，３ｂ）的梯形部分插入槽（１４）的插入量增加。结果，凸缘（２ａ，２ｂ）之间的距离减小，并且凸起（４ａ，４ｂ）对垫片（６）的两侧的接触压力增加。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于连接管的连接的配合结构(fitting structure) 0
技术介绍
在半导体制造设备、通常的工业机器等中，包括连接管的导管构造用 于传送空气、纯净水、调节温度的冷却水或热水、有机化学液体等流体。 这种导管构造包括使连接管与另一构件连接的配合结构，例如，另一个连 接管、或设备的壳的流体入口/出口。传统上，例如，作为使一对,接管彼此连接的配合结构，在一种构造 中，相应连接管的端面保持成彼此紧密接触。在该情况下，橡胶0型圈插 入两个端面之间用于提高气密性。每个端面形成有槽用于保持O型圈。这 样，在一些情况中凸缘分别形成在相应连接管的端面上。然而，今年来，例如，在半导体制造设备中，即使在供应气体到反应室的气体供应部分中的流体中混入微量杂质或者即使小的压力波动，可能 会导致不能使用的无效产品的故障。因此，设置在该位置的导管构造需要比以前更高等级的气密性。如上所述，包括o型圈的构造难以实现很高的 气密性，由于o型圈的材料本质上是橡胶，由于橡胶更容易随时间可靠性降低。此外，无人可以否认流动气体和橡胶的化学反应会导致特性变化。因此，日本专利公开的审查专利申请No. 62756/90提出一种用于把金 属垫片夹持在连接管(配合的元件)的端面中间的构造，而不是O型圈。 在该构造中，每个端面设置有环形密封条(凸起)，从而使得这些密封条 分别与垫片的两侧接触。此外，该构造采用连接螺母，其包括与一个连接 管的外周上的阳螺纹啮合的阴螺纹，并且包括与另一个连接管接合的接合 部分。通过把连接螺母的阳螺纹深深地拧入连接管的阴螺纹中，两个端面 上的相应密封条从两侧强力地挤压垫片以便实现高气密性。6此外，在一些情况中可使用不锈钢等金属制连接管和不锈钢等金属制 配合结构。作为金属制配合结构，己经使用双套圈型配合结构(请参见Swagelok公司于2004年8月公开的"(Gaugeable) Tube Fittings and Adapter Fittings"的说明书)或单套圈型配合结构(请参见Parker Hanninn公司于2000年2月公开的"CPI Tube Fittings catalog 4230 revised in February 2000，，)。如图1所示，在Swagelok公司的产品说明的构造中，其是双套圈型， 包括配合主体44，该配合主体44的外周上具有阳螺纹41并且内周上具 有用于金属连接管42的插入部分43;螺母47，该螺母47具有与配合主体44 的阳螺纹41啮合的阴螺纹46;和设置在由配合主体44的末端部分的内周 和螺母47的末端部分的内周限定的空间内的前套圈45和后套圈48。前 套圈45的第一接合面45a与设置在配合主体44的末端部分的内部的切 口面44a接合。后套圈48的第一接合面48a与设置在螺母47的末端部分 的内部的切口面47a接合。然后，前套圈45的第二接合面45b和后套圈 48的第二接合面48b彼此接合。因此，连接管42插入配合主体44的插入部分43中，并且阳螺纹41 与阴螺纹46啮合，同时定位在连接管42的外周上的螺母47朝配合主体 44移动。在该情况下，当螺母47朝配合主体44移动时，前套圈45靠近 后套圈48，从而使得它们彼此紧密接触。然后，后套圈48的第二接合面 48b的末端部分挤压进和钻进连接管42的外周表面中。这样，后套圈48 的末端部分把连接管42保持成钻进连接管42的外周面中。尽管未图示，Parker Hannifin公司的产品说明书也公开一种配合结 构，其包括单套圈，该单套圈具有与设置在配合主体的末端部分的内部的 切口面接合的接合面和与设置在螺母的末端部分的内部的切口面接合的 接合面，其中，每个接合面的末端部分挤压在连接管的外周上并钻进连接 管的外周中。因此，在上述任一构造中，在使用例如两个扳手等工具固定另一个的 同时，配合主体44或螺母47中的任一个旋转，从而使配合主体44的阳 螺纹41与螺母47的阴螺纹46啮合。
技术实现思路
在日本专利公开的审査专利申请No. 62756/90所公开的构造中，通过 一个连接管的阳螺纹深深地拧入连接螺母的阴螺纹中来实现高气密性，其 中在拧入期间，由于摩擦力，另一连接管也随连接螺母一起旋转。在该情 况下，旋转连接管的密封条和与密封条接触并挤压的垫片之间产生摩擦， 导致金属粒子浮起。这些粒子变成杂质被引导到流动气体中。此外，不仅 出现粒子，而且连接管的旋转损坏密封表面，导致泄漏增加。即使装配完成时不产生粒子或完成组装后立刻去除粒子，但是在长期 使用过程中仍会出现粒子。具体地，如上所述，当另一连接管随连接螺母 一起旋转时，另一连接管的引导端部分可保持扭曲状态。在该情况下，由 于排挤力，连接管能够在消除扭曲状态的方向上逐渐移动。可选地，由于 温度波动导致连接管的膨胀或收縮会使一对连接管彼此紧固的紧固力减 小，连接管会在消除扭曲状态的方向上移动。结果，密封条和垫片之间出 现摩擦，可能导致金属粒子浮起。此外，除了出现这些粒子， 一对连接管 彼此紧固的紧固力被减小，因此保持力被减小，这容易导致泄漏。如上所述，根据日本专利公开的审查专利申请No. 62756/90的构造， 尽管能够实现配合结构相对于外部的高气密性，但是在配合结构的内部会 产生金属粒子，这些粒子构成杂质，能够被引导进流通过配合结构的流体 中。具体地，当该配合结构用于半导体制造设备的气体供应部分中时，在 密封条和金属垫片之间引入的摩擦导致的作为杂质的粒子会导致严重问 题，这会使理想的半导体发生故障。另一方面，在Swagelok公司的产品说明公开的双套圈型配合结构中， 前套圈45与后套圈48紧密接触，从而通过把配合主体44的阳螺纹深深 地拧入螺母47的阴螺纹46中来密封，因而实现高气密性。相似地，在 Parker Hannifin公司的产品说明公开的单套圈型配合结构中，通过把配 合主体的阳螺纹深深地拧入螺母的阴螺纹中，来使套圈的两端部分强力地 钻进连接管的外周中，因而实现高气密性。因此，阳螺纹需要充分地拧入 阴螺纹中，即需要充分数量的旋转以便使两个螺纹41， 46充分地紧固，以 便实现高气密性。然而，在拧入期间，对于前述情况，由于摩擦力，定位在螺母47的内周侧上的连接管42随螺母47—起旋转，从而使得连接管42的引导端部 分在一些情况中保持扭曲状态。在该情况下，就不能进行充分数量的旋转 以便使两个螺纹41， 46充分地紧固，导致螺母47与配合主体44的连接的 气密性不够，并且导致泄漏可能性高。当不能保证充分地紧固螺纹41， 46的旋转数量，希望相对地旋转配合 主体44和螺母47直至达到紧固用的预定数量的旋转，但是有时，没有用 于操作工具的充分空间，例如用于紧固的扳手的空间。具体地，在通过把 配合主体44的阳螺纹41拧入螺母47的阴螺纹46中，已经完成配合结构的 状态下，在配合结构的周围不能获得充分宽的空间，而是，各种构件，包 括常出现的导管、设备的壳的一部分等。此外，半导体制造设备等可设置 有多个导管构造，其中前述配合结构可包括在相应导管中。在该情况下， 操作员难以自由使用扳手等工具。具体地，在图l所示的构造中，需要使 用两个扳手，即， 一个扳手用于固定配合主体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于连接一对连接管的配合结构，每个所述连接管具有凸缘，所述凸缘在引导端部分设置有环形凸起，所述配合结构包括：　平坦的环形金属垫片，在所述一对连接管的所述凸缘彼此相对的状态下，所述金属垫片从两侧被每个凸起挤压；　保持器，所述保持器具有与所述金属垫片的至少一部分接合的接合部分，并且被所述连接管中的一个保持；　中心环，在所述一对连接管的所述凸缘横过所述金属垫片彼此相对的状态下，所述中心环能够安装成围绕所述两个凸缘的外周；和　夹紧环，所述夹紧环包括多个分段，所述多个分段依次设置并且连接成相邻的分段彼此枢转地附接，用于当定位在所述多个分段的一端处的分段与定位在另一端处的分段通过紧固构件彼此固定时，通过所有所述分段来限定环形，以便覆盖和保持横过所述金属垫片彼此相对的所述凸缘的整个外周，　所述配合结构的特征在于：　所述每个凸缘具有斜面，所述斜面分别从所述每个凸缘的外周朝下倾斜向与所述引导端相对的一侧，并且　所述夹紧环的每个所述分段在内周上具有与所述每个凸缘的所述斜面分别对应的对应斜面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村美良，长濑祐助，安达义纪，
申请(专利权)人：伊原科技株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]