流体控制系统以及阀模块技术方案

本发明专利技术提供流体控制系统以及阀模块。为了实现流体控制系统的飞跃性的紧凑化，流体控制系统具备：质量流量控制器(MFC)；一对块(10、20)，架设有质量流量控制器(MFC)，并且形成有内部流路；以及阀(50)，安装于一对块(10、20)中的一方，配置在内部流路上，阀(50)安装于一方的块(10)中与另一方的块(20)对置的对置面(11)，配置在由该对置面(11)以及质量流量控制器(MFC)的底面(BS)包围的空间内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及例如在半导体制造工序等中使用的流体控制系统以及构筑该系统的阀模块(valve module)。

技术介绍

1、如专利文献1所示，作为以往的流体控制系统，有在流体流动的流路设置有各种流体设备的系统。

2、更具体地进行说明，如图8所示，例如串联地配置形成有v形或コ形的内部流路的多个块，并且在这些块配置有作为上述流体设备的手动阀、过滤器、减压阀、压力计、二通阀、三通阀、质量流量控制器等，由此形成一条流路。

3、另外，这样使用各种阀作为流体设备用于进行工艺所需的流体的开闭、混合、稀释、吹扫。更具体而言，为了进行利用控制器的远程操作，需要能够自动控制的二通气动阀、三通气动阀，另一方面，从安全性的观点出发，为了使作业者确认想要实施的工艺所需的流体的种类后使流体流动，需要手动阀。

4、然而，近年来，伴随晶片的大型化、多室化，有时需要例如十多条上述流路，为了将这样的系统设置在有限面积的无尘室等中，要求占用空间的小型化。

5、但是，上述流体控制系统由于通过将流体设备一个一个地安装到块来形成流路，所以根据该块的配置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种流体控制系统，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的流体控制系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的流体控制系统，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的流体控制系统，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的流体控制系统，其特征在于，

6.一种阀模块，其特征在于，具备：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种流体控制系统，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的流体控制系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的流体控制系统，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：木村美良，
申请(专利权)人：伊原科技株式会社，
类型：发明
国别省市：