一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法，属于高性能铝钪合金靶材技术领域。该铝钪合金靶材中，钪元素的含量为5at％‑50at％，其余为铝元素。其制备方法包括：步骤一备料、步骤二熔炼铸锭、步骤三煅打或轧制、步骤四取样检测、步骤五铣磨清洗、步骤六真空包装。本发明专利技术采用真空磁悬浮熔炼炉和快速铸造快速冷凝工艺，制备铝钪合金靶材的厚度：2‑35mm，致密度99.9％，钪元素的含量为5at％‑50at％，其余为铝元素。实现制备方法操作简单、合金均匀，昂贵的金属钪利用率高、有利于产业化应用。成分均匀性好且后续可加工性好的特性，满足半导体和特殊领域用溅射靶材的需求。克服了现有技术的不足。

A sputtering target of Al SC alloy and its preparation method

The invention discloses an aluminum scandium alloy sputtering target and a preparation method thereof, belonging to the technical field of high-performance aluminum scandium alloy target. The content of scandium in the target material is 5AT% \u2011 50AT%, and the rest is aluminum. The preparation method comprises the following steps: preparing materials in step 1, smelting ingots in step 2, forging or rolling in step 3, sampling and testing in step 4, milling and cleaning in step 5, and vacuum packaging in step 6. The invention adopts the vacuum magnetic levitation melting furnace and rapid casting rapid condensation process to prepare the target material of aluminum scandium alloy with the thickness of 2 \u2011 35mm, the density of 99.9%, the content of scandium element of 5AT% \u2011 50AT%, and the rest of aluminum element. The preparation method is easy to operate, the alloy is uniform, the utilization rate of expensive scandium metal is high, and it is conducive to industrial application. It has good uniformity of composition and good subsequent machinability, which can meet the needs of sputtering targets in semiconductor and special fields. It overcomes the shortcomings of the prior art.

【技术实现步骤摘要】
一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法
本专利技术涉及高性能铝钪合金靶材
，尤其涉及一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法。
技术介绍
铝中添加一定的钪，可起到细化晶粒、提高再结晶温度、改善抗腐蚀性、提高强度和塑性等作用，因此铝钪合金具有高强度、耐腐蚀性、耐高温且可焊性好的综合性能，在航空航天、核能工程、半导体等尖端科技领域以及交通运输、家用电器等领域具有广泛的应用。随着科技的高速发展，以及各国对关键领域用关键材料研究的重视，对铝钪合金靶因此，研究开发出一种简单、快速的制备铝钪合金靶材的方法，对于半导体和关键领域用溅射靶材的发展具有十分重要的现实意义。本专利技术采用真空磁悬浮熔炼炉和快速铸造工艺，制备铝钪合金靶材的厚度：2-35mm，致密度99.9％，钪元素的含量为5at％-50at％，其余为铝元素。实现制备方法操作简单、合金均匀，昂贵的金属钪利用率高、有利于产业化应用。成分均匀性好且后续可加工性好的特性，满足半导体和特殊领域用溅射靶材的需求。克服了现有技术的不足。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种铝钪合金溅射靶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法，其特征在于：所述铝钪合金溅射靶材中钪元素的含量为5at％-50at％，余量为铝元素，所述铝钪合金溅射靶材的致密度为99.9％，厚度为2-35mm；/n所述铝钪合金溅射靶材的制备方法包括以下步骤：/n步骤一、备料：按所述铝钪合金溅射靶材的铝钪元素百分含量比Al(50at％-95at％)：Sc(50at％-5at％)计算出单炉制粉所需的原料铝、原料钪的质量，分别称取单炉原料铝和单炉原料钪备用，/n步骤二、熔炼铸锭：将所述单炉原料铝和单炉原料钪放入真空磁悬浮熔炼炉中，将所述单炉原料铝和单炉原料钪完全合金化，再采用快速铸造工艺铸造制备铝钪合金靶材锭，/n步骤三、煅...

【技术特征摘要】
1.一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法，其特征在于：所述铝钪合金溅射靶材中钪元素的含量为5at％-50at％，余量为铝元素，所述铝钪合金溅射靶材的致密度为99.9％，厚度为2-35mm；
所述铝钪合金溅射靶材的制备方法包括以下步骤：
步骤一、备料：按所述铝钪合金溅射靶材的铝钪元素百分含量比Al(50at％-95at％)：Sc(50at％-5at％)计算出单炉制粉所需的原料铝、原料钪的质量，分别称取单炉原料铝和单炉原料钪备用，
步骤二、熔炼铸锭：将所述单炉原料铝和单炉原料钪放入真空磁悬浮熔炼炉中，将所述单炉原料铝和单炉原料钪完全合金化，再采用快速铸造工艺铸造制备铝钪合金靶材锭，
步骤三、煅打或轧制：将铸造制备的所述铝钪合金靶材锭采用空气锤或轧机进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：何午琳，
申请(专利权)人：何午琳，
类型：发明
国别省市：广东;44