一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用。氟硼吡咯光敏剂为具有式(I)所示结构的化合物。其制备方法包括：S1.对羟基苯甲醛与1，6‑二溴己烷发生反应；S2.保护气氛条件下，将具有式(IV)结构的化合物与2，4‑二甲基吡咯发生反应；S3.具有式(III)结构的化合物与I

A fluoroboropyrrole photosensitizer and its preparation and Application

The invention discloses a fluoroboropyrrole photosensitizer and a preparation method and application thereof. Fluoroboropyrrole photosensitizer is a compound with the structure shown in formula (I). The preparation methods include: S1. Reaction of p-hydroxybenzaldehyde with 1,6-dibromohexane; S2. Reaction of compounds with the structure of formula (IV) with 2,4-dimethylpyrrole in a protective atmosphere; S3. Reaction of compounds with the structure of formula (III) with I

【技术实现步骤摘要】
一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用
本专利技术涉及光敏剂制备，更具体地，涉及一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用。
技术介绍
光敏剂是一类可吸收光子并将能量传递给那些不能吸收光子的分子，传统的光敏剂主要为钌、铂、铱、饿等过渡金属配合物，过渡金属配合物普遍存在吸收波长短，摩尔消光系数低，价格昂贵等缺点，很大程度上限制了它们的应用。紧接着一系列如苝、蒽、二苯甲酮等有机三重态光敏剂开始逐渐浮现，然而此类化合物同样存在着摩尔消光系数低，吸收波长短等缺点。氟硼吡咯分子具有合成与修饰容易，摩尔消光系数高，激发态性能可调等优点，可作为一类性能优良的三重态光敏剂。近年来氟硼吡咯光敏剂广泛应用于光子上转换领域，例如专利技术专利文献CN108148086A，其公开了一种带有主客体识别基团的有机三重态光敏剂及其制备方法。但是，目前氟硼吡咯光敏剂应用在光治疗领域的研究较少，也缺少一种有效的、治疗效果好的光敏剂。
技术实现思路
本专利技术首要解决的技术问题是针对现有技术中缺少有效的、治疗效果好的光敏剂，尤其是在单线态氧的产率上有改进的光敏剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氟硼吡咯光敏剂，其特征在于，为具有式(I)结构的化合物：/n

【技术特征摘要】
1.一种氟硼吡咯光敏剂，其特征在于，为具有式(I)结构的化合物：





2.一种制备根据权利要求1所述的氟硼吡咯光敏剂的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1.将对羟基苯甲醛与1，6-二溴己烷在反应溶剂中发生反应，得到具有式(IV)所示结构的化合物；
S2.在保护气氛条件下，将具有所述式(IV)结构的化合物与2，4-二甲基吡咯发生反应，得到具有式(III)所示结构的化合物；
S3.将具有所述式(III)结构的化合物与I2/HIO3发生碘代反应，得到具有式(II)所示结构的化合物；
S4.将具有所述式(II)所示结构的化合物与2-噻吩甲醛发生Knoevenagel缩合反应，得到具有所述式(I)所示结构的光敏剂；
其中，式(II)、(III)和(IV)的化合物结构分别如下：





3.根据权利要求2所述的氟硼吡咯光敏剂的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：籍少敏，刘文超，梁辉，贺佳，霍延平，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：广东;44