加热器块以及热处理设备和方法技术

本公开提供一种加热器块、包含加热器块的热处理设备以及应用于其的热处理方法。加热器块包含：灯，在一个方向上延伸；外壳，被配置成容纳灯；容纳部件，安装到外壳的一个表面且包含用于容纳灯的凹部；以及防污染部件，安设到容纳部件以在灯与容纳部件之间的空间中产生气流。提供能够通过使用气流使由异物所引起的容纳部件的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。

Heater block and heat treatment equipment and method

The invention provides a heater block, a heat treatment device including the heater block and a heat treatment method applied to the heater block. The heater block comprises: a lamp extending in one direction; a housing configured to accommodate the lamp; a housing member mounted to one surface of the housing and containing a recess for accommodating the lamp; and an anti pollution member disposed to the housing member to generate air flow in the space between the lamp and the housing member. Provide heater blocks and heat treatment equipment and methods that minimize contamination of containment components caused by foreign materials by the use of air streams.

【技术实现步骤摘要】
加热器块以及热处理设备和方法
本公开涉及一种加热器块以及热处理设备和方法，且更具体地说，涉及一种能够使由异物所引起的反射镜的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。
技术介绍
利用通过在衬底上重复所有种类的单元工艺(诸如薄膜沉积工艺、离子植入工艺以及热处理工艺)来在衬底上形成具有电路的所需操作特征的元件的方法制造半导体和显示装置。在上述工艺中，热处理工艺通常在快速热处理设备中执行。通常，快速热处理设备包含：腔室；衬底支撑件，安置于所述腔室中；多个反射镜，安置于腔室上方同时面朝衬底支撑件且以线性方式布置于与衬底支撑件平行的预定平面上；以及多个灯，分别容纳于多个反射镜中且以线性方式布置。此处，灯发射呈红外线和紫外线形式的光，且反射镜将从灯发射出的光聚集于衬底上。反射镜因其结构而易受异物影响。因此，在执行热处理工艺时，异物在灯与反射镜之间被引入且容易粘附于反射镜上。当反射镜受到异物污染时，由于未精确控制衬底的温度且反射镜的效率降低，因此热处理工艺的热效率可能降低，且可能需要提供额外功率以补偿降低的热效率。此外，异物在热处理工艺期间落下使得衬底或腔室受到污染。在以下专利文献中揭示本公开的
技术介绍
。(现有技术文献)(专利文献)(专利文献1)KR10-2015-0138496A
技术实现思路
本公开提供一种能够通过使用气体使由异物所引起的反射镜的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。本公开提供一种能够通过使用气体防止异物在反射镜与灯之间被引入的加热器块以及热处理设备和方法。本公开提供一种能够防止气体直接注入到灯和衬底的加热器块以及热处理设备和方法。本公开提供一种能够在反射镜与衬底之间均匀地形成传热流和气流的加热器块以及热处理设备和方法。根据一示例性实施例，一种加热器块包含：灯，在一个方向上延伸；外壳，被配置成容纳灯；容纳部件，安装到外壳的一个表面且包含用于容纳灯的凹部；以及防污染部件，安设到容纳部件以在灯与容纳部件之间的空间中产生气流。防污染部件可包含：导引构件，具有安置于灯与容纳部件之间以在一个方向上移动气体的至少一部分；注入单元，连接到导引构件以朝向面向灯的凹部注入气体；以及气体供应源，连接到导引构件。导引构件可具有在一个方向上延伸且允许气体从中通过的内部流动路径。导引构件可设置流动路径，所述包围灯的外表面，在一个方向上沿所述灯的外周表面延伸，且与所述外周表面间隔开以允许气体从中通过。导引构件可包含光学透明材料。注入单元可包含注入孔，所述注入孔穿过导引构件，与流动路径连通，且布置在一个方向上。注入孔可面向凹部的中心部分。注入孔可在与一个方向相交的另一方向上彼此间隔开以提供多个阵列，以及所述多个阵列可在灯的一个方向上朝向中心轴的两侧以相同距离间隔开。被配置成连接导引构件的中心点与导引构件的横截面上的各注入孔的连接管线之间的内角可小于180°注入孔可在一个方向上以相同距离间隔开且根据与流动路径的上游的距离而具有不同直径。注入孔可具有相同直径，且注入孔之间的相互距离可根据与流动路径的上游的距离而不同。灯可被设置成多个且布置在另一方向上以提供板形热源，容纳部件可被设置成多个以容纳各个灯，导引构件可被设置成多个以面向各个容纳部件，以及注入单元可被设置于各个导引构件。根据另一示例性实施例，一种热处理设备包含：腔室，具有用于处理衬底的内部空间；衬底支撑部件，安置于腔室中；以及加热器块，安装在腔室的一侧同时面向衬底支撑部件。此处，加热器块在面向衬底支撑部件的一个表面上包含：灯，在一个方向上延伸；容纳部件，被配置成容纳灯；以及防污染部件，被配置成防止面向灯的容纳部件的表面受到污染。容纳部件可包含用于容纳灯的凹部，所述凹部可暴露于腔室的内部，以及防污染部件可在灯与面向灯的凹部的凹面之间的空间中产生气流。防污染部件可包含：导引构件，在一个方向上延伸，将灯容纳于其中且具有与灯的外周表面间隔开的内周表面，并且具有中空管结构；注入孔，穿过导引构件以将气体注入到凹面且在导引构件上布置在一个方向上；以及气体供应源，连接到导引构件，且导引构件可包含光学透明材料。注入孔可在与一个方向相交的另一方向上彼此间隔开以面向凹面的中心部分或在导引构件上形成多个阵列，且注入孔安置于导引构件的后表面侧同时在一个方向上相对于导引构件的中心轴对称布置。注入孔在一个方向上以相同距离彼此间隔开时可具有不同直径或在一个方向上以不同距离彼此间隔开时具有相同直径。根据又一示例性实施例，一种使用安置成面向衬底的灯的热处理方法包含：通过使用灯来产生光；通过使用安置于灯的后表面上的凹面将光聚集于衬底上；以及通过在灯与凹面之间的空间中产生气流来防止凹面的污染。所述防止污染可包含：经由安置于灯的外侧的导引构件沿灯的外周表面在灯的延伸方向上移动气体；在灯的延伸方向上通过使用布置于导引构件上的注入孔朝向凹面注入气体；以及通过气体保护凹面。所述防止污染可包含：在通过使用凹面使气流朝向衬底折射时将气体供应到衬底。可将光传输通过导引构件并发射到衬底和凹面，注入孔可将气体均匀地注入到凹面，且气体可包含惰性气体且在于灯的延伸方向上移动时通过与灯接触并进行热交换而温度升高。附图说明通过结合附图进行的以下描述可更详细地理解示例性实施例，其中：图1是示出根据示例性实施例的热处理设备的示意图。图2是示出根据示例性实施例的加热器块的模拟图。图3是示出根据示例性实施例的加热器块的正向横截面视图。图4是示出根据示例性实施例的加热器块的侧向横截面视图。图5是示出根据示例性实施例的防污染部件的部分放大视图。图6是示出根据经修改的示例性实施例的防污染部件的部分放大视图。图7是示出根据示例性实施例的热处理设备的流程视图。图8是用于说明根据示例性实施例的在衬底的热处理工艺期间在灯与反射镜之间的气流的曲线图。图9(a)及图9(b)是示出根据经修改的示例性实施例的针对防污染部件的各气体供应流动速率的气体注入流速的曲线图。图10(a)及图10(b)是示出根据示例性实施例的针对防污染部件的各气体供应流动速率的气体注入流速的曲线图。具体实施方式在下文中，将参考附图详细描述本专利技术的实施例。然而，本专利技术可以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文中阐述的实施例。确切地说，提供这些实施例是为了使得本公开将是透彻并且完整的，并且这些实施例将向本领域的技术人员完整地传达本专利技术的范围。在附图中，为了说明的清楚起见放大了层和区域的尺寸。贯穿全文，相同的附图标记指代相同的元件。图1是示出根据示例性实施例的热处理设备的示意图，且图2是示出根据示例性实施例的加热器块的模拟图。将参看图1和图2详细地描述根据示例性实施例的热处理设备。根据一示例性实施例的热处理设备包含：腔室200，具有用于处理衬底S的内本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种加热器块，包括：/n灯，在一个方向上延伸；/n外壳，被配置成容纳所述灯；/n容纳部件，安装到所述外壳的一个表面且包括用于容纳所述灯的凹部；以及/n防污染部件，安设到所述容纳部件以在所述灯与所述容纳部件之间的空间中产生气流。/n

【技术特征摘要】
20180518 KR 10-2018-00569211.一种加热器块，包括：
灯，在一个方向上延伸；
外壳，被配置成容纳所述灯；
容纳部件，安装到所述外壳的一个表面且包括用于容纳所述灯的凹部；以及
防污染部件，安设到所述容纳部件以在所述灯与所述容纳部件之间的空间中产生气流。


2.根据权利要求1所述的加热器块，其中所述防污染部件包括：
导引构件，具有安置于所述灯与所述容纳部件之间以在所述一个方向上移动气体的至少一部分；
注入单元，连接到所述导引构件以朝向面向所述灯的所述凹部注入所述气体；以及
气体供应源，连接到所述导引构件。


3.根据权利要求2所述的加热器块，其中所述导引构件具有流动路径，所述流动路径在所述一个方向上延伸且允许所述气体从中通过。


4.根据权利要求2所述的加热器块，其中所述导引构件提供流动路径，所述流动路径包围所述灯的外表面，在所述一个方向上沿所述灯的外周表面延伸，且与所述外周表面间隔开以允许所述气体从中通过。


5.根据权利要求2至4中任一项所述的加热器块，其中所述导引构件包括光学透明材料。


6.根据权利要求3或4所述的加热器块，其中所述注入单元包括注入孔，所述注入孔穿过所述导引构件，与所述流动路径连通，且布置在所述一个方向上。


7.根据权利要求6所述的加热器块，其中所述注入孔面向所述凹部的中心部分。


8.根据权利要求6所述的加热器块，其中所述注入孔在与所述一个方向相交的另一方向上彼此间隔开以提供多个阵列，以及
所述多个阵列在朝向所述灯的所述一个方向上的中心轴的两侧以相同距离间隔开。


9.根据权利要求8所述的加热器块，其中被配置成连接所述导引构件的中心点与所述导引构件的横截面上的各个所述注入孔的连接管线之间的内角小于180°。


10.根据权利要求6所述的加热器块，其中所述注入孔在所述一个方向上以相同距离间隔开且根据与所述流动路径的上游的距离而具有不同直径。


11.根据权利要求6所述的加热器块，其中所述注入孔具有相同直径，且所述注入孔之间的相互距离根据与所述流动路径的上游的距离而不同。


12.根据权利要求2所述的加热器块，其中所述灯被设置成多个且布置在另一方向上以提供板形热源，
所述容纳部件被设置成多个以容纳各个所述灯，
所述导引构件被设置成多个以面向各个所述容纳部件，以及
所述注入单元设置于各个所述导引构件。


13.一种热处理设备，包括：
腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：池尙炫，金昌敎，张準哲，崔珷炳，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR