一种蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。本发明专利技术的蚀刻装置，能够提高产品良率。

An etching device

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种蚀刻装置。
技术介绍
在液晶显示面板制造过程中，湿法蚀刻装置应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工序。湿法蚀刻装置通常包括一排传送滚轴，在每个传送滚轴上设置有多个滚轮，通过传送滚轴的转动带动滚轮转动，以便于对基板进行传送。但是，滚轮长期在各种酸性、碱性、有机药液的环境下浸泡或风干会造成滚轮磨损，从而产生尘粒，此时再与基板接触，会刮伤基板或者将尘粒粘在基板上，从而降低产品良率。因此，有必要提供一种蚀刻装置，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蚀刻装置，能够提高产品良率。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种蚀刻装置，包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。本专利技术的蚀刻装置，包括支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件的宽度大于或等于所述滚轮的宽度。3.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述滚轮与所述清洁件一一对应。4.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件的顶表面的形状和\或底表面的形状为弧形。5.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括：多个并排设置的第二传送滚轴，设于所述支撑体上，每个所述第二传送滚轴上套装有多个所述清洁件；其中所述第一传...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44