光学层叠体及光学层叠体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种树脂基材与偏振膜的密合性优异的光学层叠体，且从该光学层叠体剥离树脂基材时的剥离力与剥离偏振膜时的剥离力之差降低。本发明专利技术的光学层叠体具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜，该光学层叠体的剥离力P1(N/15mm)与剥离力P2(N/15mm)满足下述关系式(1)，上述剥离力P1是将该树脂基材通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，上述剥离力P2是将该偏振膜通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，式(1)：0.5＜P1/P2＜5。

Optical stack and manufacturing method of optical stack

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体及光学层叠体的制造方法
本专利技术涉及一种光学层叠体，其具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜。
技术介绍
提出一种于树脂基材上形成聚乙烯醇系树脂层，并将该层叠体拉伸、染色，由此获得偏振膜的方法(例如，专利文献1)。通过这种方法可获得厚度较薄的偏振膜，所以能有助于例如图像显示装置的薄型化而备受瞩目。上述偏振膜可直接以层叠于上述树脂基材的状态下使用。在这种实施方式中则要求偏振膜与树脂基材具有充分的密合性。具体而言，在该偏振膜的制造中(例如拉伸、输送)要求：聚乙烯醇系树脂层不会从树脂基材剥离；再操作时偏振膜与树脂基材不会产生剥离；以及，在面对加工(例如冲孔)时、使用中的冲击时，偏振膜或树脂基材不会发生鼓起等。为了提升上述密合性，提出另一种在树脂基材与聚乙烯醇系树脂层之间设置包含聚乙烯醇系材料的底涂层的方法(专利文献2)。然而，利用所述底涂层偏重提升上述密合性的结果，将树脂基材从层叠体剥离时的剥离力与将偏振膜从层叠体剥离时的剥离力之间会产生很大的差(剥离各向异性)。具体而言，偏振膜可以比将树脂基材从层叠体剥离时所需的剥离力更小的剥离力从层叠体剥离。因此，例如在将圆筒状层叠体切断加工成给定尺寸的片状体时，若从树脂基材侧朝偏振膜侧切断，则存在发生偏振膜剥离的担忧。而且，将片状体重合并保管后要一张一张取出时，存在因粘连的影响而发生偏振膜剥离的担忧。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2000-338329号公报专利文献2：日本第4950357号
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术为了解决上述问题而成，其主要目的在于，提供一种树脂基材与偏振膜的密合性优异的光学层叠体，且从该光学层叠体剥离树脂基材时的剥离力与剥离偏振膜时的剥离力之差降低。解决问题的方法本专利技术提供一种光学层叠体，其具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜。本专利技术的光学层叠体的剥离力P1(N/15mm)与剥离力P2(N/15mm)满足下述关系式(1)，上述剥离力P1是将该树脂基材通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，上述剥离力P2是将该偏振膜通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离，式(1)：0.5＜P1/P2＜5。在一实施方式中，上述光学层叠体在上述偏振膜与上述树脂基材之间具有中间区域、和/或具有中间区域作为上述偏振膜的上述树脂基材侧的一部分，该中间区域包含选自聚烯烃系成分及聚酯系成分中的至少1种成分。在一实施方式中，上述中间区域进一步包含聚乙烯醇系成分。在一实施方式中，上述聚乙烯醇系成分包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇。在一实施方式中，上述中间区域的厚度为100nm～1000nm。在一实施方式中，上述树脂基材的构成材料包含聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。根据本专利技术的另一方面，提供一种光学层叠体的制造方法。本专利技术的制造方法包括以下工序：将底涂层形成用组合物涂布于树脂基材的一侧以形成底涂层的工序，上述底涂层形成用组合物包含选自聚烯烃系成分及聚酯系成分中的至少1种成分；在该底涂层表面涂布包含聚乙烯醇系树脂的涂布液以形成聚乙烯醇系树脂层的工序；以及，拉伸该聚乙烯醇系树脂层并染色以制作偏振膜的工序。在一实施方式中，上述底涂层形成用组合物进一步包含聚乙烯醇系成分。在一实施方式中，上述聚乙烯醇系成分包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇。在一实施方式中，上述底涂层的厚度为500nm～3000nm。专利技术的效果通过本专利技术可获得一种树脂基材与偏振膜的密合性优异的光学层叠体，且从光学层叠体剥离树脂基材时的剥离力与剥离偏振膜时的剥离力之差降低。附图说明图1是本专利技术的一实施方式的光学层叠体的示意剖面图。图2是本专利技术的另一实施方式的光学层叠体的示意剖面图。图3(a)及(b)是分别说明操作性的评价方法的示意图。符号说明10光学层叠体11树脂基材12偏振膜13中间区域具体实施方式以下说明本专利技术的实施方式，但本专利技术不受这些实施方式限定。A.光学层叠体本专利技术的光学层叠体具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜。本专利技术的光学层叠体中，剥离力P1(N/15mm)与剥离力P2(N/15mm)满足0.5＜P1/P2＜5的关系，上述剥离力P1是将该树脂基材通过90度剥离从光学层叠体剥离时的剥离力，上述剥离力P2是将偏振膜通过90度剥离从光学层叠体剥离时的剥离力。相较于现有光学层叠体，满足上述关系的光学层叠体的剥离各向异性降低，其结果，可解决上述偏振膜剥离的问题。P1/P2优选为0.7以上，更优选为0.8以上。且，P1/P2优选为4.0以下，更优选为3.5以下，进一步优选为3.0以下。上述剥离力P1(N/15mm)例如为0.8N以上，优选为1.2N以上，更优选为1.5N以上。若剥离力P1在该范围内，则可防止偏振膜或树脂基材于再操作时、加工(例如冲孔)时、使用中等剥离、鼓起。剥离力P1的上限值并没有特别限制，例如可设为5.0N左右。上述剥离力P2(N/15mm)例如为0.4N以上，优先为0.6N以上，更优选为0.8N以上，进一步优选为1.0N以上。若剥离力P2在该范围内，即可防止偏振膜或树脂基材于再操作时、加工(例如冲孔)时、使用中等剥离、鼓起。剥离力P2的上限值并没有特别限制，例如可设为5.0N左右。此外，上述剥离力P1是指将树脂基材以相对于偏振膜面成为90°的角度的方式拿起、并以剥离速度3000mm/min进行剥离时所需的力(N/15mm)。另外，上述剥离力P2是指将偏振膜以相对于树脂基材面成为90°的角度的方式拿起、并以剥离速度3000mm/min进行剥离时所需的力(N/15mm)。本专利技术的光学层叠体代表性地在偏振膜与树脂基材之间具有中间区域、和/或具有中间区域作为偏振膜的树脂基材侧的一部分，且该中间区域包含选自聚烯烃系成分及聚酯系成分中的至少1种成分。具体而言，中间区域可作为与偏振膜不同的层存在，也可作为偏振膜的树脂基材侧的一部分存在，或可为这二者。图1是本专利技术的一实施方式的光学层叠体的示意剖面图。图1所示的光学层叠体10a依次具有树脂基材11、中间区域13与偏振膜12。在该实施方式中，中间区域13系作为与偏振膜12不同的层存在。在该实施方式中，中间区域13实质上可相当于后述的底涂层。图2是本专利技术的另一实施方式的光学层叠体的示意剖面图。图2所示的光学层叠体10b具有树脂基材11与设置于树脂基材11的一侧的偏振膜12，且从偏振膜12的树脂基材侧表面起到给定厚度为止的部分为中间区域13。在该实施方式中，中间区域13可为后述PVA系树脂层与底涂层的相溶区域。A-1.树脂基材上述树脂基材的构成材料可采用任意适当的材料。例如可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂等酯系树脂、环烯烃系树脂、聚丙烯等烯烃系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚酰胺系树脂、聚碳酸酯系树脂、它们的共聚物树脂。优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。其中，优选使用非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂的具体例可列举进一步包含间苯二甲酸作为二羧酸的共聚物、或进一步包含环己烷二甲醇作为二醇的共聚物。树脂基材的玻璃化转变温度(Tg)优选为170℃以下。通过使用所述树脂基材，可抑制后述的聚乙烯醇(PVA)系树脂层结晶化，并足可确保其拉伸性。若考虑利用水将树脂基材增塑及顺利进行水溶液中拉伸等观点，更优选为120本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学层叠体，其具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜，该光学层叠体的剥离力P1(N/15mm)与剥离力P2(N/15mm)满足下述关系式(1)，所述剥离力P1是将该树脂基材通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，所述剥离力P2是将该偏振膜通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，式(1)：0.5＜P1/P2＜5。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.15 JP 2017-0494121.一种光学层叠体，其具有树脂基材与设置于该树脂基材的一侧的偏振膜，该光学层叠体的剥离力P1(N/15mm)与剥离力P2(N/15mm)满足下述关系式(1)，所述剥离力P1是将该树脂基材通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，所述剥离力P2是将该偏振膜通过90度剥离从该光学层叠体剥离时的剥离力，式(1)：0.5＜P1/P2＜5。2.如权利要求1所述的光学层叠体，其在所述偏振膜与所述树脂基材之间具有中间区域、和/或具有中间区域作为所述偏振膜的所述树脂基材侧的一部分，该中间区域包含选自聚烯烃系成分及聚酯系成分中的至少1种成分。3.如权利要求2所述的光学层叠体，其中，所述中间区域进一步包含聚乙烯醇系成分。4.如权利要求3所述的光学层叠体，其中，所述聚乙烯醇系成分包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇。5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨本大介，石丸咲美，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP