【技术实现步骤摘要】
一种MXene作为自由基引发剂的应用
本专利技术涉及MXene和自由基聚合领域,且特别涉及一种MXene的制备方法及MXene作为自由基引发剂的应用。
技术介绍
自由基聚合在高分子科学与工业中占有极其重要的地位,聚合反应属链式聚合反应,主要包括链引发、链增长、链终止和链转移四个基元反应。二维MXene片层是一类新型的层状纳米材料,具有类似石墨烯的二维结构、金属导电性及优良的电化学性能等,在储能、催化、生物医用、传感器以及新型聚合物增强基复合材料等诸多领域展现良好的应用前景{无机材料学报2017,32(06),561-570}。目前MXene材料的制备方法一般以HF、LiF/HCl、NaHF2、KHF2或NH4HF2为刻蚀剂,先刻蚀,后剥离{AdvancedMaterials2018,30(52),1804779},处理时间较长,效率较低。虽然现在已经有二维MXene材料具有自引发光接枝和光聚合(self-initiatedphotograftingandphotopolymerization,简称SIPGP)的作用{ChemicalCommunications20 ...
【技术保护点】
1.一种MXene作为自由基引发剂的应用,其特征在于,将MXene作为引发剂,引发烯烃单体在除氧条件下聚合;所述的MXene由MAX置于刻蚀液中,在超声辅助下同步刻蚀剥离、随后经洗涤,得到;所述的M为过渡金属中的至少一种;所述的A为IIIA或IVA元素中的至少一种;所述的X为C和/或N。
【技术特征摘要】
1.一种MXene作为自由基引发剂的应用,其特征在于,将MXene作为引发剂,引发烯烃单体在除氧条件下聚合;所述的MXene由MAX置于刻蚀液中,在超声辅助下同步刻蚀剥离、随后经洗涤,得到;所述的M为过渡金属中的至少一种;所述的A为IIIA或IVA元素中的至少一种;所述的X为C和/或N。2.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的刻蚀液为LiF/HCl的混合水溶液;其中,LiF的浓度为0.01~0.1g/mL,优选为0.08g/mL;HCl的摩尔浓度为6~12mol/L,优选为9mol/L。3.如权利要求2所述的应用,其特征在于,超声的功率为50~1000W,优选为300W;超声时间为30min~12h,优选为6h。4.如权利要求1~3任一项所述的应用,其特征在于,聚合过程在无光引发条件下进行,或者,在无外加过硫酸盐化合物、过氧化物、核黄素中的至少一种的自由基引发剂下进行。5.如权利要求4所述的应用,其特征在于,MXene作为引发剂,引发烯烃单体在避光条件下聚...
【专利技术属性】
技术研发人员:李娟,张德盘,陶娜,李锡龙,孙晓毅,刘又年,
申请(专利权)人:中南大学,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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