一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统及制备方法技术方案

一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统及制备方法，所述蚀刻系统内呈真空状态，所述蚀刻系统包括：第一电源；电极装置，设置于玻璃基板的一侧以驱动等离子撞击于玻璃基板上；供气源，用以与电极装置相连通以提供气体原子；所述电极装置形成有容纳腔且包括：阳极板和阴极板，均平行设置与玻璃基板的一侧且阳极板更靠近玻璃基板设置，所述阳极板和阴极板分别与第一电源的正极和负极电性连接以提供电子；所述阳极板上开设有连通容纳腔的出口以让等离子通过，所述阴极板上开设有连通容纳腔和供气源的入口；第一磁板和第二磁板，磁极相反且连接于阳极板和阴极板之间，所述第一磁板和第二磁板垂直于阳极板设置以驱动电子运动并撞击气体原子以形成等离子。

An etching system for fabricating anti-glare glass and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统及制备方法
本专利技术属于电蚀刻领域，特别是一种用于制备防炫光玻璃的蚀刻系统及制备方法。
技术介绍
炫光是自然界普遍存在的一种现象，对人的活动会产生很多障碍，甚至会对人的视觉产生伤害。特别的，在汽车夜间行驶时，会车时的灯光是集束灯光，照进车里的炫光使得驾驶员很难看清前方的物体，这对车辆驾驶来说是非常危险。而白天行驶时，如果阳光太强烈，迎着日光的方向行驶时，在一定角度下也会出现炫光。在现有技术中，通常是制备防炫光薄膜并贴附与玻璃上，例如通过印刷、化学腐蚀等方法。但是上述方法通常工艺较为复杂，且精准度无法保证。因此，必须设计一种成本较低、工艺较为简单的防炫光玻璃的蚀刻系统及制备方法。
技术实现思路
为解决上述问题之一，本专利技术提供了一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统，用以对玻璃基板进行蚀刻以形成防炫光玻璃，所述蚀刻系统内呈真空状态，所述蚀刻系统包括：第一电源；电极装置，设置于玻璃基板的一侧以驱动等离子撞击于玻璃基板上；供气源，用以与电极装置相连通以提供气体原子；所述电极装置形成有容纳腔且包括：阳极板和阴极板，均平行设置与玻璃基板的一侧且阳极板更靠近玻璃基板设置，所述阳极板和阴极板分别与第一电源的正极和负极电性连接以提供电子；所述阳极板上开设有连通容纳腔的出口以让等离子通过，所述阴极板上开设有连通容纳腔和供气源的入口；第一磁板和第二磁板，磁极相反且连接于阳极板和阴极板之间，所述第一磁板和第二磁板垂直于阳极板设置以驱动电子运动并撞击气体原子以形成等离子。作为本专利技术的进一步改进，所述蚀刻系统还包括有负偏压电极，所述负偏压电极设置于玻璃基板远离电极装置的一侧。作为本专利技术的进一步改进，所述蚀刻系统还包括设置于负偏压电极和玻璃基板之间的屏蔽板，所述屏蔽板至少覆盖所述负偏压电极。作为本专利技术的进一步改进，所述蚀刻系统还包括第二电源，所述第二电源的正极连接于第一电源的负极，所述第二电源的负极连接于所述负偏压电极。作为本专利技术的进一步改进，所述蚀刻系统还包括设置于电极装置和玻璃基板之间的掩膜板，所述掩膜板远离所述电极装置设置且开设有开口以让等离子通过。作为本专利技术的进一步改进，所述开口在水平方向上的宽度小于阳极板的宽度，所述开口在竖直方向上的高度不小于玻璃基板的高度。为解决上述问题之一，本专利技术提供了一种防炫光玻璃的制备方法，所述制备方法包括：配置生产线的行进速度和第一电源的功率值；在生产线上放置玻璃基板；移动玻璃基板进入如上述所述的蚀刻系统中；对蚀刻系统中进行抽真空并达到规定真空度；打开第一电源；打开供气源，向容纳腔内提供气体；移动蚀刻后的玻璃基板使其离开蚀刻系统。作为本专利技术的进一步改进，所述步骤“打开第一电源”和“打开供气源”之间还包括：调节第二电源的功率值，打开第二电源。作为本专利技术的进一步改进，所述步骤“移动蚀刻后的玻璃基板使其离开蚀刻系统”之后包括：在玻璃基板形成蚀刻的一侧表面上镀一层二氧化硅膜。作为本专利技术的进一步改进，所述步骤“配置生产线的行进速度和第一电源的功率值”之前包括：设置生产线的行进速度；在生产线上放置若干玻璃基板；移动玻璃基板进入如上述所述的蚀刻系统中；对蚀刻系统中进行抽真空并达到规定真空度；设置第一电源的功率值；打开第一电源；打开供气源，向容纳腔内提供气体；将蚀刻后的玻璃基板取出；测量玻璃基板的蚀刻深度；若蚀刻深度在要求范围内，则记录该第一电源的功率值和行进速度；若蚀刻深度不在要求范围内，则继续修改第一电源的功率值或行进速度。与现有技术相比，所述电极装置中由于阳极板和阴极板通电因而产生自阴极板朝向阳极板移动的电子，而第一磁板和第二磁板产生的磁场方向垂直于电子的移动的方向，因而会使得电子产生螺旋前进运动，从而电子会反复高速撞击容纳腔内的气体原子，使得无极性的气体原子畸变呈有极性的等离子体，并在电场的作用下轰击玻璃基板。并且，整个系统均处于真空中，有助于等离子体进行轰击和蚀刻。附图说明图1是本专利技术中蚀刻系统的电路结构示意图；图2是本专利技术中蚀刻系统的装置结构示意图；图3是本专利技术中玻璃基板被蚀刻一侧的结构示意图。具体实施例为了使本
的人员更好地理解本专利技术中的技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。如图1至图3所示，本专利技术提供了一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统，该蚀刻系统用以对玻璃基板7进行蚀刻以形成防炫光玻璃。所述蚀刻系统内呈真空状态。需要说明的是，所述蚀刻系统内的真空状态并不是完全0大气压，而是指该蚀刻系统内低于一个大气压的状态，只要该蚀刻系统内气压低于一个标准大气压，即可称之为真空或真空状态。在本实施方式中，所述蚀刻系统内的气压强度不高于5*10-4Pa。所述蚀刻系统包括：第一电源V1；电极装置10，设置于玻璃基板7的一侧以驱动等离子撞击于玻璃基板7上；供气源6，用以与电极装置10相连通以提供气体原子；所述电极装置10形成有容纳腔1并可填充气体原子，所述电极装置10具体包括：阳极板2和阴极板3，均平行于玻璃基板7的一侧且阳极板2更靠近玻璃基板7设置，所述阳极板2和阴极板3分别与第一电源V1的正极和负极相连通以提供电子，所述阳极板2上开设有连通容纳腔1的出口21以让等离子通过，所述阴极板3上开设有连通容纳腔1和供气源6的入口31；第一磁板4和第二磁板5，磁极相反且连接于阳极板2和阴极板3之间，所述第一磁板4和第二磁板5垂直于阳极板2设置以驱动电子运动并撞击气体原子以形成等离子。从而，所述电极装置10中由于阳极板2和阴极板3通电因而产生自阴极板3朝向阳极板2移动的电子，而第一磁板4和第二磁板5产生的磁场方向垂直于电子的移动的方向，因而会使得电子产生螺旋前进运动，从而电子会反复高速撞击容纳腔1内的气体原子，使得无极性的气体原子畸变呈有极性的等离子体，且当然，正极朝向玻璃基板、负极背向玻璃基板。并且，由于上述容纳腔1内填充有气体，因而容纳腔1内和容纳腔1外也具有压力差，从而使得等离子体离开容纳腔1，向玻璃基板7方向移动，并在电场的作用下轰击玻璃基板7。而等离子体撞击于玻璃基板7表面进行刻蚀并形成粗糙表面，从而可以有效吸收炫光。并且，整个系统均处于真空中，有助于等离子体进行轰击和蚀刻。所述蚀刻系统还包括有负偏压电极81，所述负偏压电极81设置于玻璃基板7远离电极装置10的一侧，并且所述负偏压电极81设置于玻璃基板7远离电极装置10的一侧。在本实施方式中，所述负偏压电极81与所述电极装置10的阳极板2相对应用以向电子提供更大的动能。具体的，如图1所示，所述蚀刻系统还包括有第二电源V2，所述第二电源V2的正极连接于第一电源V1的负极，所述第二电源V2的负极连接于所述负偏压电极81。所述第一电源V1和第二电源V2均为直流电源，且提供的直流电压均不小于1000V，并且其输出功率根据蚀刻区的大小而定，但是其功率密度不低于100W/cm2。所述第一电源V1和第二电源V2可产生两个独立的电位输出，因而可以集成于一个电源里，也可以分别采用两个电源设置。所述第一电源V1的负极和第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统，用以对玻璃基板进行蚀刻以形成防炫光玻璃，其特征在于，所述蚀刻系统内呈真空状态，所述蚀刻系统包括：第一电源；电极装置，设置于玻璃基板的一侧以驱动等离子撞击于玻璃基板上；供气源，用以与电极装置相连通以提供气体原子；所述电极装置形成有容纳腔且包括：阳极板和阴极板，均平行设置与玻璃基板的一侧且阳极板更靠近玻璃基板设置，所述阳极板和阴极板分别与第一电源的正极和负极电性连接以提供电子；所述阳极板上开设有连通容纳腔的出口以让等离子通过，所述阴极板上开设有连通容纳腔和供气源的入口；第一磁板和第二磁板，磁极相反且连接于阳极板和阴极板之间，所述第一磁板和第二磁板垂直于阳极板设置以驱动电子运动并撞击气体原子以形成等离子。

【技术特征摘要】
1.一种制备防炫光玻璃的蚀刻系统，用以对玻璃基板进行蚀刻以形成防炫光玻璃，其特征在于，所述蚀刻系统内呈真空状态，所述蚀刻系统包括：第一电源；电极装置，设置于玻璃基板的一侧以驱动等离子撞击于玻璃基板上；供气源，用以与电极装置相连通以提供气体原子；所述电极装置形成有容纳腔且包括：阳极板和阴极板，均平行设置与玻璃基板的一侧且阳极板更靠近玻璃基板设置，所述阳极板和阴极板分别与第一电源的正极和负极电性连接以提供电子；所述阳极板上开设有连通容纳腔的出口以让等离子通过，所述阴极板上开设有连通容纳腔和供气源的入口；第一磁板和第二磁板，磁极相反且连接于阳极板和阴极板之间，所述第一磁板和第二磁板垂直于阳极板设置以驱动电子运动并撞击气体原子以形成等离子。2.根据权利要求1所述的蚀刻系统，其特征在于，所述蚀刻系统还包括有负偏压电极，所述负偏压电极设置于玻璃基板远离电极装置的一侧。3.根据权利要求2所述的蚀刻系统，其特征在于，所述蚀刻系统还包括设置于负偏压电极和玻璃基板之间的屏蔽板，所述屏蔽板至少覆盖所述负偏压电极。4.根据权利要求2所述的蚀刻系统，其特征在于，所述蚀刻系统还包括第二电源，所述第二电源的正极连接于第一电源的负极，所述第二电源的负极连接于所述负偏压电极。5.根据权利要求1所述的蚀刻系统，其特征在于，所述蚀刻系统还包括设置于电极装置和玻璃基板之间的掩膜板，所述掩膜板远离所述电极装置设置且开设有开口以让等离...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴克坚，王震宇，
申请(专利权)人：苏州加拉泰克动力有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32