气体分配装置和处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气体分配装置和处理装置。在较小的空间中使气体分支，并且，缩小分支后的气体的流量之差。1个实施方式中的气体分配装置(20)具备多个供给管(21)、分支部(22)、配管(15)以及缓冲部(30)。各供给管(21)与多个处理腔室(11)分别连接。分支部(22)使从气体供给源(19)供给来的第1气体分支，将分支后的第1气体经由各供给管(21)向各处理腔室(11)供给。配管(15)将从气体供给源(19)供给来的第1气体向分支部(22)供给。缓冲部(30)设置于分支部(22)与配管(15)之间，抑制由分支部(22)分支后的第1气体的供给管(21)之间的流量的偏差。

Gas Distribution Device and Processing Device

【技术实现步骤摘要】
气体分配装置和处理装置
本公开的各种方面和实施方式涉及气体分配装置和处理装置。
技术介绍
进行蚀刻、成膜等处理的处理腔室内的气体的分布对处理后的被处理体的特性带来影响。因此，要求向腔室内尽可能均匀地供给气体。不过，难以将从具有较小的截面积的供给管供给来的气体向具有较大的截面积的处理腔室内的空间内均匀地供给。为了达成以上内容，公知有如下技术：通过反复使从具有较小的截面积的供给管供给来的气体向两个供给管分支，使气体向多个供给管均等地分支(参照例如专利文献1)。通过经由气体分支后的多个供给管向处理腔室内的空间供给气体，而能够向处理腔室内的空间更均匀地供给气体。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-277730号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题不过，为了使针对被处理体的处理的生产率提高，存在使多个处理腔室并行地运转的情况。在这样的情况下，要求缩小处理腔室间的针对被处理体的处理的特性之差。若向各处理腔室供给的气体的流量存在差异，存在处理腔室间的针对被处理体的处理的特性产生差异的情况。因此，期望的是分别向多个处理腔室供给均等的量的气体。例如，通过反复进行n次使处理气体分支成各两个的处理，能够减少向2n台处理腔室供给的气体的流量之差。不过，为此，需要用于反复进行n次使处理气体分支成各两个的处理的配管，需要配置这样的配管的空间。因此，装置大型化。另外，若用于使处理气体流动的配管变长，则配管内的空间的容积变大，对处理气体的种类进行切换时的置换时间变长。因此，在对多种气体进行切换而进行蚀刻、成膜等处理的情况下，处理的生产率变低。用于解决问题的方案本公开的一方面是气体分配装置，其具备多个第1供给管、分支部、第2供给管以及偏差抑制部。各第1供给管与多个处理腔室分别连接。分支部使从第1气体供给源供给来的第1气体分支，使分支后的第1气体经由各第1供给管分别向处理腔室供给。偏差抑制部设置于分支部与第1气体供给源之间，将从第1气体供给源供给来的第1气体向分支部供给，并且，抑制由分支部分支后的第1气体的第1供给管之间的流量的偏差。专利技术的效果根据本公开的各种方面和实施方式，能够在较小的空间中使气体分支，并且能够缩小分支后的气体的流量之差。附图说明图1是表示本公开的一实施方式的处理装置的一个例子的系统构成图。图2是表示分支部附近的处理装置的一个例子的图。图3是表示分支部和缓冲部的一个例子的剖视图。图4是表示缓冲部的一个例子的立体图。图5是表示缓冲部的构造的一个例子的分解立体图。图6是表示缓冲部的一个例子的放大剖视图。图7是表示比较例1中的气体的供给方法的一个例子的图。图8是表示比较例1中的各样品的气体的流量的分布的一个例子的图。图9是表示比较例1中的气体的流速分布的一个例子的图。图10是图9的区域A的放大图。图11是表示使用了比较例1的样品(1)的情况的分支部的内部空间中的气体的流速分布的一个例子的图。图12是表示使用了比较例1的样品(2)的情况的分支部的内部空间中的气体的流速分布的一个例子的图。图13是表示使用了比较例1的样品(3)的情况的分支部的内部空间中的气体的流速分布的一个例子的图。图14是表示比较例2中的气体的供给方法的一个例子的图。图15是表示各样品中的气体的流量的分布的一个例子的图。图16是表示本公开的一实施方式的气体的流速分布的一个例子的图。图17是表示本公开的一实施方式的气体的流速分布的一个例子的图。图18是表示本公开的一实施方式的缓冲部的内部空间的气体的流速分布的一个例子的图。图19是表示本公开的一实施方式的缓冲部的内部空间的气体的流速分布的一个例子的图。图20是表示本公开的一实施方式的缓冲部的内部空间的气体的流速分布的一个例子的图。图21是表示本公开的一实施方式的缓冲部的内部空间的气体的流速分布的一个例子的图。图22是表示间隙的大小与气体的流量的分布之间的关系的一个例子的图。图23是表示所供给的气体的流量与分支后的气体的流量的分布之间的关系的一个例子的图。图24是表示测定对象空间的一个例子的图。图25是表示各测定点的气体的成分的残留浓度的变化的一个例子的图。附图标记说明10、处理装置；11、处理腔室；12、流量控制器；13、阀；14、气体供给源；15、配管；150、内部空间；16、阀；17、流量控制器；18、阀；19、气体供给源；20、气体分配装置；21、供给管；22、分支部；220、支管；221、开口；222、内壁；223、内部空间；23、配管；230、螺钉；231、内部空间；24、阀；260、内部空间；270、内部空间；30、缓冲部；30a、第1壳体；30b、第2壳体；300、内部空间；31、上部壁；310、开口；311、螺钉；312、槽；313、螺纹孔；32、下部壁；33、侧壁；33a、侧壁；33b、侧壁；33c、开口；34、分隔壁；35、分隔壁。具体实施方式以下，基于附图详细地说明所公开的气体分配装置和处理装置的实施方式。此外，所公开的气体分配装置和处理装置并不被以下的实施方式限定。[处理装置10的结构]图1是表示本公开的一实施方式的处理装置10的一个例子的系统构成图。处理装置10具备多个处理腔室11-1～11-4和气体分配装置20。气体分配装置20具有多个供给管21-1～21-4、分支部22、配管15、配管23、阀24以及缓冲部30。此外，以下，在多个处理腔室11-1～11-4不分别区别而统称的情况下，简记为处理腔室11，在多个供给管21-1～21-4不分别区别而统称的情况下，简记为供给管21。另外，图1所例示的处理装置10具有4台处理腔室11，处理腔室11的台数既可以是3台以下，也可以是5台以上。在任一情况下，处理装置10都具有与处理腔室11的台数相同的数量的供给管21。各供给管21是第1供给管的一个例子，配管23是第2供给管的一个例子。配管23的第1端经由阀24与分支部22连接。配管23的第2端经由流量控制器12和阀13与气体供给源14连接。气体供给源14供给对各处理腔室11内进行清洁之际所使用的清洁用的气体。配管23在阀13和阀24被控制成开状态的情况下将利用阀13控制了流量后的清洁用的气体向分支部22供给。清洁用的气体是第2气体的一个例子。在缓冲部30连接有配管15、阀16、流量控制器17、阀18以及气体供给源19。气体供给源19供给在各处理腔室11内对被处理体进行处理之际所使用的处理气体。配管15在阀16和阀18被控制成开状态的情况下将利用流量控制器17控制了流量后的处理气体经由配管15和缓冲部30向分支部22供给。处理气体是第1气体的一个例子。分支部22使从气体供给源19供给来的处理气体向多个供给管21分别分支。图2是表示分支部22附近的处理装置10的一个例子的图。例如，如图2所示，多个处理腔室11沿着横向(例如水平方向)排列配置。分支部22具有多个支管220。在本实施方式中，分支部22具有4个支管220。各供给管21具有相同的长度，将各处理腔室11和分支部22连接。具体而言，供给管21-1的第1端与处理腔室11-1连接，供给管21-1的第2端与1个支管220连接。另外，供给管21-2的第1端与处理腔室11-2连接，供给管21-2的第2端与另一个支管220连接。另外，供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体分配装置，其特征在于，该气体分配装置具备：多个第1供给管，其与多个处理腔室分别连接起来；分支部，其使从第1气体供给源供给来的第1气体向多个所述第1供给管分别分支；以及偏差抑制部，其设置于所述分支部与所述第1气体供给源之间，该偏差抑制部将从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体向所述分支部供给，并且抑制由所述分支部分支后的所述第1气体的所述第1供给管之间的流量的偏差。

【技术特征摘要】
2018.02.19 JP 2018-0269261.一种气体分配装置，其特征在于，该气体分配装置具备：多个第1供给管，其与多个处理腔室分别连接起来；分支部，其使从第1气体供给源供给来的第1气体向多个所述第1供给管分别分支；以及偏差抑制部，其设置于所述分支部与所述第1气体供给源之间，该偏差抑制部将从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体向所述分支部供给，并且抑制由所述分支部分支后的所述第1气体的所述第1供给管之间的流量的偏差。2.根据权利要求1所述的气体分配装置，其特征在于，所述偏差抑制部产生同轴且半径不同的多个空心的圆筒状的气流，所述多个空心的圆筒状的气流至少包含一边沿着所述圆筒状的气流的轴线的周向扩散一边向靠近所述分支部的方向流动的气流、以及一边沿着所述圆筒状的气流的轴线的周向扩散一边向远离所述分支部的方向流动的气流。3.根据权利要求1或2所述的气体分配装置，其特征在于，所述偏差抑制部具有：侧壁，其规定在所述偏差抑制部的内部形成的圆筒状的空间的侧面；第1壁，其形成有与所述圆筒状的空间同轴的圆形的开口，该第1壁规定所述圆筒状的空间的上表面；第2壁，其规定所述圆筒状的空间的下表面；第1分隔壁，其在所述圆筒状的空间内配置于所述第1壁，该第1分隔壁具有与所述圆筒状的空间同轴的空心的圆筒形状；第2分隔壁，其在所述圆筒状的空间内配置于所述第2壁，该第2分隔壁具有与所述圆筒状的空间同轴、且与所述第1分隔壁的内径不同的内径的空心的圆筒形状，在所述第1分隔壁与所述第2壁之间形成有第1间隙，在所述第2分隔壁与所述第1壁之间形成有第2间隙，在所述侧壁形成有开口，从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体经由在...

【专利技术属性】
技术研发人员：嘉部匠，会田伦崇，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP