气体分配装置和处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气体分配装置和处理装置。在较小的空间中使气体分支，并且，缩小分支后的气体的流量之差。1个实施方式中的气体分配装置(20)具备多个供给管(21)、分支部(22)、配管(15)以及缓冲部(30)。各供给管(21)与多个处理腔室(11)分别连接。分支部(22)使从气体供给源(19)供给来的第1气体分支，将分支后的第1气体经由各供给管(21)向各处理腔室(11)供给。配管(15)将从气体供给源(19)供给来的第1气体向分支部(22)供给。缓冲部(30)设置于分支部(22)与配管(15)之间，抑制由分支部(22)分支后的第1气体的供给管(21)之间的流量的偏差。

Gas Distribution Device and Processing Device

【技术实现步骤摘要】
气体分配装置和处理装置
本公开的各种方面和实施方式涉及气体分配装置和处理装置。
技术介绍
进行蚀刻、成膜等处理的处理腔室内的气体的分布对处理后的被处理体的特性带来影响。因此，要求向腔室内尽可能均匀地供给气体。不过，难以将从具有较小的截面积的供给管供给来的气体向具有较大的截面积的处理腔室内的空间内均匀地供给。为了达成以上内容，公知有如下技术：通过反复使从具有较小的截面积的供给管供给来的气体向两个供给管分支，使气体向多个供给管均等地分支(参照例如专利文献1)。通过经由气体分支后的多个供给管向处理腔室内的空间供给气体，而能够向处理腔室内的空间更均匀地供给气体。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-277730号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题不过，为了使针对被处理体的处理的生产率提高，存在使多个处理腔室并行地运转的情况。在这样的情况下，要求缩小处理腔室间的针对被处理体的处理的特性之差。若向各处理腔室供给的气体的流量存在差异，存在处理腔室间的针对被处理体的处理的特性产生差异的情况。因此，期望的是分别向多个处理腔室供给均等的量的气体。例如，通过反复进行n次使处理气体分支成各两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体分配装置，其特征在于，该气体分配装置具备：多个第1供给管，其与多个处理腔室分别连接起来；分支部，其使从第1气体供给源供给来的第1气体向多个所述第1供给管分别分支；以及偏差抑制部，其设置于所述分支部与所述第1气体供给源之间，该偏差抑制部将从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体向所述分支部供给，并且抑制由所述分支部分支后的所述第1气体的所述第1供给管之间的流量的偏差。

【技术特征摘要】
2018.02.19 JP 2018-0269261.一种气体分配装置，其特征在于，该气体分配装置具备：多个第1供给管，其与多个处理腔室分别连接起来；分支部，其使从第1气体供给源供给来的第1气体向多个所述第1供给管分别分支；以及偏差抑制部，其设置于所述分支部与所述第1气体供给源之间，该偏差抑制部将从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体向所述分支部供给，并且抑制由所述分支部分支后的所述第1气体的所述第1供给管之间的流量的偏差。2.根据权利要求1所述的气体分配装置，其特征在于，所述偏差抑制部产生同轴且半径不同的多个空心的圆筒状的气流，所述多个空心的圆筒状的气流至少包含一边沿着所述圆筒状的气流的轴线的周向扩散一边向靠近所述分支部的方向流动的气流、以及一边沿着所述圆筒状的气流的轴线的周向扩散一边向远离所述分支部的方向流动的气流。3.根据权利要求1或2所述的气体分配装置，其特征在于，所述偏差抑制部具有：侧壁，其规定在所述偏差抑制部的内部形成的圆筒状的空间的侧面；第1壁，其形成有与所述圆筒状的空间同轴的圆形的开口，该第1壁规定所述圆筒状的空间的上表面；第2壁，其规定所述圆筒状的空间的下表面；第1分隔壁，其在所述圆筒状的空间内配置于所述第1壁，该第1分隔壁具有与所述圆筒状的空间同轴的空心的圆筒形状；第2分隔壁，其在所述圆筒状的空间内配置于所述第2壁，该第2分隔壁具有与所述圆筒状的空间同轴、且与所述第1分隔壁的内径不同的内径的空心的圆筒形状，在所述第1分隔壁与所述第2壁之间形成有第1间隙，在所述第2分隔壁与所述第1壁之间形成有第2间隙，在所述侧壁形成有开口，从所述第1气体供给源供给来的所述第1气体经由在...

【专利技术属性】
技术研发人员：嘉部匠，会田伦崇，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP