改性聚硅氧烷及其应用制造技术

本发明专利技术公开一种改性聚硅氧烷及其应用，改性聚硅氧烷包括ABCBA结构的链段，A结构单元为聚硅氧烷结构单元，B为聚氨酯结构单元，C为含硫杂环结构单元，并由改进的方法制备得到。本发明专利技术的树脂气味小、与有机硅树脂及聚氨酯均具有较好的相容性，且制备条件温和、工艺简单。

Modified polysiloxane and its application

【技术实现步骤摘要】
改性聚硅氧烷及其应用
本专利技术属于聚合物材料
，涉及一种改性聚硅氧烷及其应用。技术背景随着光学材料的逐渐发展与应用，产品正在向高折射率、高透光率和高可靠性方向发展。特别是光学透镜、光学玻璃、光学塑料、光纤材料等应用领域则要求材料具有折射率更高、甚至高达1.7以上，仍具有良好的机械性能、易加工性能等。目前高分子材料提高折射率的方法主要是引入高折射率和小分子体积的基团，主要有以下几种方法：(1)引入芳香族化合物或稠环化合物，可提高折射率。但制备的聚合物色散大。(2)引入除F以外的卤族元素。但树脂的密度增大，耐候性差，易黄变。(3)引入重金属离子如铅、镧或TiO2，PbS、FeS纳米粒子来提高折射率。但树脂密度大，抗冲击性降低，易黄变，实用性难。(4)引入脂肪族多环化合物,可提高折射率,且色散较低。(5)引入硫、氮、磷等杂元素可提高折射率。以上方法中,在聚合物里引入硫元素是提高折射率的最有效的方法,同时材料的色散小,环境稳定性好。近年来通过在聚合物中引入硫元素来提高光学树脂折射率的报道相对较多。聚合物中硫元素通常是以硫醚键、硫酯键、硫代氨基甲酸酯和砜基等形式引入。但聚氨酯中以上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改性聚硅氧烷，包括ABCBA结构的链段，其中A结构单元的结构式如式1所示：

【技术特征摘要】
1.一种改性聚硅氧烷，包括ABCBA结构的链段，其中A结构单元的结构式如式1所示：其中，5<n<200，且n为整数，R2为不含脂肪族不饱和键的单价烃基、具有2～10个碳原子的链烯基、氢基中的一种或几种；B结构单元的结构式如式2所示：式2中，R1选自不含脂肪族不饱和键的单价烃基、氢基、卤素基中的一种或几种；所述C结构单元的结构式为2.如权利要求1所述的改性聚硅氧烷，其特征在于，所述改性聚硅氧烷的25℃折射率为1.55～1.70。3.如权利要求1或2所述的改性聚硅氧烷，其特征在于，所述改性聚硅氧烷由包括以下步骤的方法制备：将芳香族二异氰酸酯、催化剂A、稳定剂及阻聚剂与含硫杂环单体混合，通惰性气体条件下升温至50～60℃反应，至-NCO值为7.0～18.0％，加入催化剂B及羟基封端的聚硅氧烷升温至80～90℃，反应2-5h至-NCO值为0～0.2％，加入封端剂，在80～90℃反应0.5～1h，加水搅拌，分离得到改性聚硅氧烷；所述含硫杂环单体是具有至少一个含硫杂环基团以及两个羟基的化合物，所述含硫杂环基团具有n个硫原子，n为2的整倍数。4.如权利要求3所述的改性聚硅氧烷，其特征在于，所述含硫杂环单体选自2,5-二羟基-1,4-二噻烷2,5-二甲基-2,5-二羟基-1,4二噻烷1,2-二噻烷-4,5-二醇1,5,9,13-四硫杂环十六烷-3,11-...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘珠，刘晓暄，丁小卫，向洪平，杨先君，
申请(专利权)人：广东工业大学，深圳市安品有机硅材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44