光学介质和光学器件制造技术

本发明专利技术涉及光学介质(100)和包含光学介质(100)的光学器件(200)。本发明专利技术还涉及光学介质(100)用在光学器件(200)中的用途。本发明专利技术还涉及制备所述光学介质(100)的方法和制造所述光学器件(200)的方法。

Optical Media and Optical Devices

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学介质和光学器件专利
本专利技术涉及光学介质(100)和包含所述光学介质(100)的光学器件(200)。本专利技术还涉及所述光学介质(100)用在光学器件(200)中的用途。本专利技术还涉及制备所述光学介质(100)的方法和制造所述光学器件(200)的方法。
技术介绍
包括纳米尺寸的荧光材料的光学介质和包括光转换片的光学器件用于各种光学应用，特别是用于光学器件。例如，如US2014/0264196A1，WO2014/093391A2，WO2014/208356A1，WO2014/196319A1和WO2012/132239A1中所述。专利文献1.US2014/0264196A12.WO2014/093391A23.WO2014/208356A14.WO2014/196319A15.WO2012/132239A1专利技术概述然而，专利技术人新发现仍然存在一个或多个需要改进的相当大的问题，如下所列。1.期望一种新颖的光学介质，其包含纳米尺寸的荧光材料例如量子尺寸材料，和基质材料，其可以显示出改善的初始绝对量子产率。2.需要一种包含纳米尺寸的荧光材料和基质材料的新颖的光学介质，其能够保持本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学介质(100)，包含至少光发光部分(130)和放置在所述光发光部分(130)上的阻挡层(140)，其中所述光发光部分(130)包含至少一种纳米尺寸的荧光材料(110)，和含有有机聚硅氮烷的基质材料(120)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.20 EP 16205342.51.光学介质(100)，包含至少光发光部分(130)和放置在所述光发光部分(130)上的阻挡层(140)，其中所述光发光部分(130)包含至少一种纳米尺寸的荧光材料(110)，和含有有机聚硅氮烷的基质材料(120)。2.根据权利要求1所述的光学介质(100)，其中所述有机聚硅氮烷包含至少由以下化学式(I)表示的重复单元，[-SiR1R2-NR3-]x(I)其中，式中，R1，R2和R3在每次出现时相互依赖地或独立地为烷基，烯基，环烷基，芳基，烷基甲硅烷基，烷基氨基，烷氧基或这些基团的组合；条件是R1，R2和R3中的一个或两个可以为氢，并且0<x≤1。3.根据权利要求1或2所述的光学介质(100)，其中所述化学式(I)的R3为氢原子。4.根据权利要求1-3中一项或多项所述的光学介质(100)，其中所述有机聚硅氮烷包含式(I)和(II)的重复单元，[-SiR1R2-NR3-]x(I)[-SiHR4-NR5-]y(II)其中，所述式(I)，R1，R2和R3在每次出现时相互依赖地或独立地为烷基，烯基，环烷基，芳基，烷基甲硅烷基，烷基氨基或烷氧基；此外，R1，R2和R3中的一个或两个可以为氢；其中所述式(II)，R4和R5在每次出现时相互依赖地或相互独立地为烷基，烯基，环烷基，芳基，烷基甲硅烷基，烷基氨基，烷氧基或这些基团的组合；条件是R4和R5中的一个可以为氢，并且0<x+y≤1。5.根据权利要求1-4中一项或多项所述的光学介质(100)，其中所述基质材料(120)包含选自下列由以下化学式(III)表示的有机聚硅氮烷和由以下化学式(IV)表示的有机聚硅氮烷中的一个或多个成员的至少一种有机聚硅氮烷：[SiR6R7-NH]a-[SiHR8-NH]b(III)[SiR9R10-NH]c-[SiHR11-NH]d-[SiR12R13NH]e(IV)其中，所述式(III)，R6，R7，R8在每次出现时相互依赖地或独立地为，具有1-15个碳原子的烷基，具有2-10个碳原子的烯基，具有3-10个碳原子的环烷基，或具有3-10个碳原子的芳基；a和b的比率为1:3-3:1，并且a+b＝1；其中所述式(IV)，R9，R10，R11在每次出现时相互依赖地或独立地为，具有1-10个碳原子的烷基，具有2-10个碳原子的烯基，具有3-10个碳原子的环烷基，或具有3-10个碳原子的芳基；R12为具有2-10个碳原子的烯基，R13为具有1-10个碳原子的烷基，具有2-10个碳原...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·马托斯彻克，A·梅杰，I·列波尔曼，R·格鲁滕穆勒，
申请(专利权)人：默克专利股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE