【技术实现步骤摘要】
搁架、承载盘、托盘、缓冲腔、装载腔及基片传输系统
本技术属于MOCVD系统的基片传输
，具体涉及一种搁架、承载盘、托盘、缓冲腔、装载腔及基片传输系统。
技术介绍
金属有机化学气相沉积(MetalorganicChemicalVaporDeposition,MOCVD)是利用Ⅲ族有机金属反应物，与Ⅴ族氢化物发生反应，在加热的衬底上生成Ⅲ、Ⅴ族化合物薄膜。在一种是机械手传输基片的MOCVD系统及其操作方法中，包括机械手和多个外延反应腔，能够实现自动的将载片盘传输至各个外延反应腔，提高了生产效率。例如，图1所示的托盘和基片的结构，在一个托盘001上放置很多个基片002，在进行传输时往往是先将多个基片002一个一个放到托盘001上，待托盘001上的基片002放满后再将整个托盘001传输。但是，由于托盘001的面积很大(有的甚至达到3m2左右)，导致将托盘001上的基片002取放极其不方便，耗时过长，跟不上生产节拍。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题为了解决现有技术的上述问题，本技术提供一种搁架、承载盘、托盘、缓冲腔、装载腔及基片传输系统，解决了现有技术中存在的取放不方便...
【技术保护点】
1.一种搁架，其特征在于，包括支架和驱动装置，所述支架包括N个相互平行的支撑柱(1)以及两个连接板；所述N个相互平行的支撑柱(1)的两端分别通过所述连接板连接，组成具有N边形截面的容置空间，所述N为大于等于3的正整数；所述支架还包括至少一组支撑结构，每组所述支撑结构用于承载一个盘状物；所述驱动装置与所述连接板传动连接，所述驱动装置用于驱动所述支架转动。
【技术特征摘要】
1.一种搁架，其特征在于，包括支架和驱动装置，所述支架包括N个相互平行的支撑柱(1)以及两个连接板；所述N个相互平行的支撑柱(1)的两端分别通过所述连接板连接，组成具有N边形截面的容置空间，所述N为大于等于3的正整数；所述支架还包括至少一组支撑结构，每组所述支撑结构用于承载一个盘状物；所述驱动装置与所述连接板传动连接，所述驱动装置用于驱动所述支架转动。2.如权利要求1所述的搁架，其特征在于，所述驱动装置设在所述支架的外部，且所述驱动装置的输出端的末端与至少一个所述连接板连接。3.如权利要求1所述的搁架，其特征在于，每一组所述支撑结构包括分别设置在N个支撑柱(1)上相同水平位置的N个支撑块(13)，所述支撑块(13)用于定位所述盘状物，所述每一组支撑结构中包括的N个支撑块(13)的开口方向相对。4.如权利要求3所述的搁架，其特征在于，所述支撑块(13)上远离所述支撑柱(1)的区域设置有阶梯状的定位槽(12)，每一组所述支撑结构的N个所述支撑块(13)的定位槽(12)所围成的面积与所述盘状物的面积相等。5.如权利要求1-4任一项所述的搁架，其特征在于，所述搁架还包括至少一个用于对所述盘状物进行预热的加热装置(53)。6.如权利要求1-4任一项所述的搁架，其特征在于，所述搁架还包括至少一个用于对所述盘状物进行冷却的冷却装置(55)。7.一种承载盘，其特征在于，所述承载盘为如权利要求1-4任一项所述的搁架中的盘状物，所述承载盘(2)上设有围绕所述搁架的容置空间的中心轴线布置的多个工件位，每个所述工件位用于承载一个基片(21)。8.一种托盘，其特征在于，所述托盘为如权利要求1-6任一项所述的搁架中的盘状物，所述托盘(3)上设有围绕所述搁架的容置空间的中心轴线布置的多个工件位，每个所述工件位用于承载一个承载盘(2)。9.一种缓冲腔，其特征在于，包括多个如权利要求1-4任一项所述的第一搁架(41)。10.一种装载腔，其特征在于，包括预热腔(52)和冷却腔(54)，所述预热腔(52)包括如权利要求5所述的第二搁架(51)，所述冷却腔(54)包括如权利要求6所述的第二搁架(51)。11.一种基片...
【专利技术属性】
技术研发人员：庞云玲，南建辉，丁建，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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