表面保护薄膜制造技术

技术编号:21854901 阅读:21 留言:0更新日期:2019-08-14 01:26
本发明专利技术提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其中,在使用自动贴合机对带隔离体的光学用表面保护薄膜进行位置调整并在光学构件表面贴合剥离隔离体后的光学构件用表面保护薄膜时,基于隔离体的位置调整性优异,可以在光学构件表面以准确的位置粘贴光学用表面保护薄膜。本发明专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体,前述隔离体具有脱模层和基材,前述隔离体的雾度为90%以上、总透光率为50%以下。

Surface protection film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面保护薄膜
本专利技术涉及带隔离体的光学用表面保护薄膜。特别是可以将用于保护光学构件(例如液晶显示器等中使用的偏光板、波长板、相位差板、光学补偿薄膜、反射片、增亮薄膜等)表面的带隔离体的光学用表面保护薄膜相对于前述光学构件表面准确地进行位置调整,并且,在位置调整之后,剥离隔离体,由此可以以准确的位置在光学构件表面贴合光学用表面保护薄膜,是有用的。
技术介绍
表面保护薄膜一般具有在薄膜状的基材薄膜(支撑体)上设置有粘合剂层的构成。该表面保护薄膜通过前述粘合剂层粘合于作为被粘物的光学构件,由此用于保护光学构件免受加工、输送、检查时等时候的表面的损伤、污染。例如,液晶显示器的面板通过利用粘合剂层在液晶单元上贴合偏光板、波长板等光学构件来形成。该粘合剂层出于在直至实际粘贴于光学构件之前为止保护其免受干燥等的必要性,由经脱模处理的隔离体等保护并保管(专利文献1)。然后,在实际将前述表面保护薄膜的粘合剂层表面粘贴于光学构件来使用后,该表面保护薄膜在不再需要的阶段被剥离去除。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-224811
技术实现思路
专利技术要解决的问题此外,在光学构件表面贴合带隔离体的表面保护薄膜时,为了以准确的位置进行贴合,以不切断隔离体的方式,仅将表面保护薄膜切成所期望的大小,在隔离体的外缘开孔,用传感器感测其开孔部分,使用自动贴合机进行位置调整,接着,在将隔离体剥离后,贴合在光学构件表面。然而,即使想使用通常使用的透明的带隔离体的表面保护薄膜在光学构件上准确地进行位置调整,也无法准确地感测开孔部分,会产生偏差,在将带隔离体的表面保护薄膜的隔离体剥离而粘贴于光学构件时,会发生无法以准确的位置粘贴等不利情况,构成问题。因此,本专利技术人等鉴于上述情况进行了深入研究,结果,其目的在于提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其在将带隔离体的光学用表面保护薄膜使用自动贴合机进行位置调整并在剥离隔离体后贴合在光学构件表面时,基于隔离体的位置调整性优异,可以在光学构件表面以准确的位置进行粘贴。用于解决问题的方案即,本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体,前述隔离体具有脱模层和基材,前述隔离体的雾度为90%以上、总透光率为50%以下。本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜优选的是,前述基材薄膜为聚酯薄膜。本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜优选的是,前述粘合剂层由含有选自丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂和有机硅类粘合剂中的至少1种的粘合剂组合物形成。专利技术的效果本专利技术通过使用具有特定的光学特性的隔离体,能够得到如下的带隔离体的光学用表面保护薄膜:在将带隔离体的光学用表面保护薄膜使用自动贴合机相对于光学构件表面进行位置调整并在剥离隔离体后贴合在光学构件表面时,基于隔离体的位置调整性优异,可以在光学构件表面以准确的位置进行粘贴,是有用的。附图说明图1是示出本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜的一个构成例的示意性剖视图。图2是示出在光学构件上对本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜进行位置调整后的一个构成例的示意性剖视图。具体实施方式以下,对本专利技术的实施方式进行详细说明。<带隔离体的光学用表面保护薄膜的整体结构>此处公开的带隔离体的光学用表面保护薄膜(以下有时简称为“表面保护薄膜”。)一般是被称为粘合带、不干胶标签、粘合薄膜等形态的粘合剂层表面被隔离体保护而成的薄膜,特别是作为在光学部件(例如作为偏光板、波长板等液晶显示器面板构成要素使用的光学部件)的加工、检查、输送时保护光学部件的表面的表面保护薄膜是适宜的。前述表面保护薄膜中的粘合剂层典型的是连续形成,并不限定于该形态,可以是形成为例如点状、条状等规则或不规则图案的粘合剂层。此外,此处公开的表面保护薄膜可以是卷状,也可以是单片状。<基材薄膜>本专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于具有基材薄膜。此处公开的技术中,构成基材薄膜的树脂材料可以没有特别限制地使用,优选使用例如透明性、机械强度、热稳定性、水屏蔽性、各向同性、柔性、尺寸稳定性等特性优异的材料。特别是由于基材薄膜具有柔性,能够通过辊涂布机等涂布粘合剂组合物,能够卷取成卷状,是有用的。作为前述基材薄膜(支撑体),可以优选使用由以下述成分作为主要树脂成分(树脂成分中的主要成分、典型的是占50重量%以上的成分)的树脂材料构成的塑料薄膜作为前述基材薄膜,所述成分为例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯类聚合物;二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等纤维素类聚合物;聚碳酸酯类聚合物;聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物;等等。作为前述树脂材料的其他例子,可列举出以下述材料作为树脂材料:聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯类聚合物;聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃类聚合物;氯乙烯类聚合物;尼龙6、尼龙6,6、芳香族聚酰胺等酰胺类聚合物;等等。作为前述树脂材料的再其他例子,可列举出:酰亚胺类聚合物、砜类聚合物、聚醚砜类聚合物、聚醚醚酮类聚合物、聚苯硫醚类聚合物、乙烯醇类聚合物、偏二氯乙烯类聚合物、乙烯醇缩丁醛类聚合物、芳酯类聚合物、聚氧亚甲基类聚合物、环氧类聚合物等。可以是由2种以上上述聚合物的共混物形成的基材薄膜。作为前述基材薄膜,可以优选采用由透明的热塑性树脂材料形成的塑料薄膜。前述塑料薄膜当中,使用聚酯薄膜是更优选的方式。在此,聚酯薄膜是指将聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等具有以酯键为基础的主骨架的聚酯类聚合物材料(聚酯树脂)作为主要树脂成分的薄膜。该聚酯薄膜具有光学特性、尺寸稳定性优异等对于表面保护薄膜的基材薄膜而言优选的特性。在构成前述基材薄膜的树脂材料中,可以根据需要而配混抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。可以实施过例如电晕放电处理、等离子体处理、紫外线照射处理、酸处理、碱处理、底涂剂的涂布等公知或惯用的表面处理。这种表面处理可以是例如用于提高基材薄膜与粘合剂层的密合性(粘合剂层的锚固性)的处理。作为前述基材薄膜,也可以使用经抗静电处理的塑料薄膜。通过使用前述基材薄膜,可抑制剥离时的表面保护薄膜自身的带电,故优选。此外,通过使基材薄膜为塑料薄膜并对前述塑料薄膜实施抗静电处理,能够减小表面保护薄膜自身的带电且使得对被粘物的抗静电能优异。需要说明的是,作为赋予抗静电功能的方法,没有特别限制,可以使用现有公知的方法,例如可列举出:涂布由抗静电剂和树脂成分形成的抗静电性树脂、导电性聚合物、含有导电性物质的导电性树脂的方法;蒸镀或者镀敷导电性物质的方法;还有混炼抗静电剂等的方法等。作为前述基材薄膜的厚度,通常为5~200μm,优选为10~100μm左右。如果前述基材薄膜的厚度在前述范围内,则对被粘物的贴合作业性和自被粘物的剥离性、作业性优异,故优选。此处公开的表面保护薄膜也可以以在基材薄膜、粘合剂层和隔离体的基础上还进一步包括其他层的方式实施。作为前述其他层,可列举出提高抗静电层、粘合剂层的锚固性的底涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体,所述隔离体具有脱模层和基材,所述隔离体的雾度为90%以上、总透光率为50%以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.28 JP 2016-256347;2017.11.21 JP 2017-223561.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡部奈津子三井数马野中崇弘
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1