表面保护薄膜制造技术

技术编号:21854901 阅读:31 留言:0更新日期:2019-08-14 01:26
本发明专利技术提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其中,在使用自动贴合机对带隔离体的光学用表面保护薄膜进行位置调整并在光学构件表面贴合剥离隔离体后的光学构件用表面保护薄膜时,基于隔离体的位置调整性优异,可以在光学构件表面以准确的位置粘贴光学用表面保护薄膜。本发明专利技术的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体,前述隔离体具有脱模层和基材,前述隔离体的雾度为90%以上、总透光率为50%以下。

Surface protection film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面保护薄膜
本专利技术涉及带隔离体的光学用表面保护薄膜。特别是可以将用于保护光学构件(例如液晶显示器等中使用的偏光板、波长板、相位差板、光学补偿薄膜、反射片、增亮薄膜等)表面的带隔离体的光学用表面保护薄膜相对于前述光学构件表面准确地进行位置调整,并且,在位置调整之后,剥离隔离体,由此可以以准确的位置在光学构件表面贴合光学用表面保护薄膜,是有用的。
技术介绍
表面保护薄膜一般具有在薄膜状的基材薄膜(支撑体)上设置有粘合剂层的构成。该表面保护薄膜通过前述粘合剂层粘合于作为被粘物的光学构件,由此用于保护光学构件免受加工、输送、检查时等时候的表面的损伤、污染。例如,液晶显示器的面板通过利用粘合剂层在液晶单元上贴合偏光板、波长板等光学构件来形成。该粘合剂层出于在直至实际粘贴于光学构件之前为止保护其免受干燥等的必要性,由经脱模处理的隔离体等保护并保管(专利文献1)。然后,在实际将前述表面保护薄膜的粘合剂层表面粘贴于光学构件来使用后,该表面保护薄膜在不再需要的阶段被剥离去除。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-224811
技术实现思路
专利技术要解决的问题此外,在光学构件表面贴合带隔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体,所述隔离体具有脱模层和基材,所述隔离体的雾度为90%以上、总透光率为50%以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.28 JP 2016-256347;2017.11.21 JP 2017-223561.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜,其特征在于,具有:在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡部奈津子三井数马野中崇弘
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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