表面保护薄膜制造技术

本发明专利技术提供可容易地获得自被粘物剥离的起点、并且能够轻松剥离、进而损伤、异物混入的检测率高的表面保护薄膜。并且提供粘贴有这种表面保护薄膜的光学部件、电子部件。本发明专利技术的表面保护薄膜是具有以聚酯树脂为主要成分的基材层和粘合剂层的表面保护薄膜，该基材层是具备着色层的着色基材层，该表面保护薄膜的总透光率为5％以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力为0.1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃的润湿速度为0.05cm2/秒以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面保护薄膜。并且，本专利技术涉及粘贴有这种表面保护薄膜的光学部件和电子部件。
技术介绍
LCD、有机EL、使用它们的触摸屏、照摄像机的镜片部、电子设备等的光学部件、电子部件为了防止加工、组装、检查、运输等时表面受损，一般在露出面侧粘贴表面保护薄膜。这种表面保护薄膜通常具有基材层和粘合剂层，为了保护粘合剂层的表面而设置有隔膜。这种表面保护薄膜在剥离隔膜使粘合剂层露出后，粘贴于光学部件、电子部件等被粘物，然后，在不再需要表面保护时刻，自光学部件、电子部件等被粘物剥离(例如专利文献1、2)。因此，要求可容易地获得自被粘物剥离的起点，并且能够轻松剥离。在光学部件、电子部件的制造工序中，为了检测不良品，要求进行针对该光学部件、该电子部件的损伤、异物混入的检测。然而，粘贴有现有的表面保护薄膜的光学部件、电子部件由于整体上透明性高，因此存在制造工序中的损伤、异物混入的检测率低的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-306996号公报专利文献2：日本特开2005-309071号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的课题在于提供可容易地获得自被粘物剥离的起点、并且能够轻松剥离、进而损伤、异物混入的检测率高的表面保护薄膜。并且，本专利技术的课题在于提供粘贴有这种表面保护薄膜的光学部件、电子部件。用于解决问题的方案本专利技术的表面保护薄膜是具有以聚酯树脂为主要成分的基材层和粘合剂层的表面保护薄膜，该基材层是具备着色层的着色基材层，该表面保护薄膜的总透光率为5％以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力为0.1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃的润湿速度为0.05cm2/秒以上。作为1个实施方式，上述粘合剂层含有选自聚氨酯类粘合剂和丙烯酸类粘合剂中的至少1种粘合剂。作为1个实施方式，上述着色层为印刷层。本专利技术的光学部件粘贴有本专利技术的表面保护薄膜。本专利技术的电子部件粘贴有本专利技术的表面保护薄膜。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供可容易地获得自被粘物剥离的起点、并且能够轻松剥离、进而损伤、异物混入的检测率高的表面保护薄膜。并且，根据本专利技术，能够提供粘贴有这种表面保护薄膜的光学部件、电子部件。附图说明图1是基于本专利技术的优选的实施方式的表面保护薄膜的剖视示意图。附图标记说明1 基材层2 粘合剂层3 隔膜10 表面保护薄膜11 着色层具体实施方式《表面保护薄膜》本专利技术的表面保护薄膜具有以聚酯树脂为主要成分的基材层和粘合剂层。图1是基于本专利技术的1个实施方式的表面保护薄膜的剖视示意图。表面保护薄膜10依次具备基材层1和粘合剂层2。本专利技术的表面保护薄膜可以根据需要而进一步具有任意合适的其他层。例如如图1所示，在粘合剂层2的与基材层1相反的一面具有隔膜3。如图1所示，基材层1具有着色层11。着色层11优选如图1所示，基材层1在该基材层1的与粘合剂层2相反一侧的最外部分具有着色层11。隔膜可以是由单层形成的，也可以是由多层形成的。隔膜的厚度可以根据用途而设定为任意的合适的厚度。从为了充分表现本专利技术的效果的角度来看，优选为20μm～100μm，更优选为25μm～90μm，进一步优选为30μm～80μm，特别优选为35μm～70μm。作为隔膜的材料，可以在不损害本专利技术的效果的范围内采用任意的合适的材料。作为这种材料，例如可列举出塑料、纸、金属膜、无纺布等。这种材料当中，优选塑料。隔膜可以由1种的材料构成，也可以由2种以上的材料构成。对于基材层1的不设置粘合剂层2的面，为了形成容易解卷的卷起体等，例如可以在基材层中添加脂肪酸酰胺、聚乙烯亚胺、长链烷基类添加剂等进行脱模处理，或者设置由有机硅类、长链烷基类、氟类等的任意的合适的剥离剂形成的涂层。本专利技术的表面保护薄膜的厚度可以根据用途而设定为任意的合适的厚度。从为了充分表现本专利技术的效果的角度来看，优选为35μm～145μm，更优选为40μm～130μm，进一步优选为45μm～110μm，特别优选为45μm～85μm。本专利技术的表面保护薄膜的总透光率为5％以下，优选为4.5％以下，更优选为4％以下，进一步优选为3.5％以下，特别优选为3％以下。总透光率的下限值优选为0％。通过将本专利技术的表面保护薄膜的总透光率调节至上述范围内，能够提供损伤、异物混入的检测率高的表面保护薄膜。需要说明的是，上述总透光率的测定方法的细节在后面说明。本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，优选为0.8N/25mm以下，更优选为0.5N/25mm以下，进一步优选为0.3N/25mm以下，特别优选为0.1N/25mm以下，最优选为0.08N/25mm以下。该起始剥离力的下限值优选为0.01N/25mm。通过将本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力调节至上述范围内，可容易地获得粘贴于被粘物的本专利技术的表面保护薄膜的剥离的起点。需要说明的是，上述起始剥离力的测定方法的细节在后面说明。本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力为0.1N/25mm以下，优选为0.08N/25mm以下，更优选为0.06N/25mm以下，进一步优选为0.05N/25mm以下，特别优选为0.04N/25mm以下，最优选为0.03N/25mm以下。该剥离力的下限值优选为0.005N/25mm。通过将本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力调节至上述范围内，能够轻松剥离粘贴于被粘物的本专利技术的表面保护薄膜。需要说明的是，上述剥离力的测定方法的细节在后面说明。本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃的润湿速度为0.05cm2/秒以上，优选为0.08cm2/秒以上，更优选为0.1cm2/秒以上，进一步优选为1cm2/秒以上，特别优选为5cm2/秒以上，最优选为10cm2/秒以上。该润湿速度的上限值优选为1000cm2/秒，更优选为100cm2/秒，进一步优选为50cm2/秒，特别优选为20cm2/秒。通过将本专利技术的表面保护薄膜相对于玻璃的润湿速度调节至上述范围内，可抑制气泡、异物的卷入，能够提供损伤、异物混入的检测率高的表面保护薄膜。需要说明的是，上述润湿速度的测定方法的细节在后面说明。本专利技术的表面保护薄膜如上所述，通过满足下述所有条件：(a)总透光率为5％以下，(b)相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，(c)相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力为0.1N/25mm以下，(d)相对于玻璃的润湿速度为0.05cm2/秒以上，可容易地获得自被粘物剥离的起点，并且能够轻松剥离，进而损伤、异物混入的检测率提高。<基材层>基材层以聚酯树脂为主要成分。具体而言，基材层中的除着色层部分以外的聚酯树脂的含有比率优选为50重量％～100重量％，更优选为70重量％～10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护薄膜，其是具有以聚酯树脂为主成分的基材层和粘合剂层的表面保护薄膜，该基材层是具备着色层的着色基材层，该表面保护薄膜的总透光率为5％以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180度下的剥离力为0.1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃的润湿速度为0.05cm2/秒以上。

【技术特征摘要】
2015.06.19 JP 2015-1237321.一种表面保护薄膜，其是具有以聚酯树脂为主成分的基材层和粘合剂层的表面保护薄膜，该基材层是具备着色层的着色基材层，该表面保护薄膜的总透光率为5％以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度90度下的起始剥离力为1N/25mm以下，该表面保护薄膜相对于玻璃在剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180...

【专利技术属性】
技术研发人员：三井数马，佐佐木翔悟，野中崇弘，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP