一种阵列基板制造技术

本发明专利技术提供一种阵列基板，包括衬底和设置于所述衬底上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管上设有量子点彩膜层；所述量子点彩膜层上设有下偏光膜层；所述下偏光膜层包括透明高分子层和位于所述透明高分子层上的偏光层。本发明专利技术通过将量子点彩膜层设置在阵列基板上并在量子点彩膜层上设置下偏光膜层，该阵列基板结构简单、制作工艺难度系数低、成本低，用该阵列基板制成的液晶显示器厚度较薄。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种阵列基板。
技术介绍
现有的液晶面板架构，当使用量子点彩膜时，由于量子点材料会使得偏振光通过时发生散射，无法使光维持原偏振方向，进而导致通过出光侧偏振片时无法达到预期的光开关效果，故而需要在现有液晶面板架构上进行变更。如图1所示为现有第一种常见量子点彩膜液晶显示器，其包括第一基板、第二基板和位于第一基板和第二基板之间的液晶分子层11；第一基板包括第一衬底1、位于第一衬底1上的薄膜晶体管2和位于第一衬底1外侧的第二偏振层3；第二基板包括第二衬底4，第二衬底4内侧依次设有第一偏振层5、平坦层6和ITO层7，第二衬底4外侧依次设有量子点彩膜层8、光学膜层9和封装层10，其中第一偏振层5为金属线栅。该结构的缺点在于在第二衬底4的外侧制作量子点彩膜层、光学膜层和封装层的工艺复杂、难度系数高、成本高。如图2所示为现有第二种常见量子点彩膜液晶显示器，其包括第一基板、第二基板、位于第二基板上方的第三基板和位于第一基板和第二基板之间的液晶分子层11；第一基板包括第一衬底1、位于第一衬底1上的薄膜晶体管2和位于第一衬底1外侧的第二偏振层3；第二基板包括第二衬底4，第二衬底4内侧依次设有第一偏振层5和ITO层7；第三基板包括第三衬底12和设置于第三衬底12内侧的量子点彩膜层8。该结构的缺点在于增加了一个基板，导致量子点彩膜液晶显示器整体的厚度偏厚，不利于显示器的轻薄化，同时增加了制作成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种阵列基板，具有结构简单，制作成本低等优点。本专利技术提供一种阵列基板，包括衬底和设置于所述衬底上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管上设有量子点彩膜层；所述量子点彩膜层上设有下偏光膜层；所述下偏光膜层包括透明高分子层和位于所述透明高分子层上的偏光层。进一步，所述量子点彩膜层采用光刻或喷墨打印制成。进一步，所述透明高分子层为可见光高透光性高分子材料。进一步，所述透明高分子层为紫外光不透光性高分子材料。进一步，所述透明高分子层厚度为3～5um。进一步，所述偏光层为染料偏光层。进一步，所述染料偏光层包括染料分子和光固化型高分子；所述染料分子掺杂于所述光固化型高分子中，经紫外光固化形成所述染料偏光层。进一步，所述染料分子为二色性偶氮分子进一步，所述偏光层采用狭缝式涂布或旋转涂布或网印涂布的方式形成本专利技术通过将量子点彩膜层设置在阵列基板上并在量子点彩膜层上设置下偏光膜层，该阵列基板结构简单、制作工艺难度系数低、成本低，用该阵列基板制成的液晶显示器厚度较薄。附图说明图1为现有第一种常见量子点彩膜液晶显示器结构示意图；图2为现有第二种常见量子点彩膜液晶显示器结构示意图；图3为本专利技术阵列基板结构示意图；图4为本专利技术液晶显示器结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本专利技术，应理解这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围，在阅读了本专利技术之后，本领域技术人员对本专利技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。本专利技术提供一种阵列基板，如图3所示，包括衬底20和设置于衬底20上的薄膜晶体管21；薄膜晶体管21上设有量子点彩膜层22；量子点彩膜层22上设有下偏光膜层25；下偏光膜层25上设有ITO电极(图中未示出)；ITO电极上设有配向膜(图中未示出)。其中，量子点彩膜层22采用光刻或喷墨打印制成。优选地，量子点彩膜层22采用喷墨打印制成，喷墨打印可大大节省量子点材料的用量。其中，下偏光膜层25包括覆盖量子点彩膜层22的透明高分子层23和位于透明高分子层23上的偏光层。透明高分子层23为可见光高透光性高分子材料，紫外光不透光性高分子材料。透明高分子层23厚度为3～5um，优选为3um。偏光层为染料偏光层24，染料偏光层24包括染料分子和光固化型高分子，染料分子掺杂于所述光固化型高分子中。染料分子为二色性偶氮分子，共包含两种或两种以上的染料分子，其中一种染料分子具有光交联反应性，经紫外光偏振光照射后，发生反应后呈特定方向排列，并影响其他染料分子达成高度有序性排列；另一种或一种以上的染料分子的功能则是用以使可见光通过时形成偏振光。偏光层24采用狭缝式涂布或旋转涂布或网印涂布的方式形成。染料分子和光固化型高分子经紫外光照射，光固化形成染料偏光层薄膜，染料偏光层的厚度为0.3～1.5um，优选为1um。当制作偏光层24时，透明高分子层23可防止染料药液对量子点彩膜层22的侵蚀，同时，由于透明高分子层23对紫外光具有阻隔作用，可保护量子点彩膜层22不会受到紫外光的伤害；此外，透明高分子层23为制作偏光层24时提供平坦性。图4为本专利技术液晶显示器实施例一结构示意图，该液晶显示器包括阵列基板、上基板25、位于阵列基板和上基板25之间的液晶分子层26、位于上基板25外侧的上偏振片27以及背光模组。其中背光模组包括LED灯源28、反射片29、导光板30以及光学膜片组31等。其中阵列基板包括衬底20和设置于衬底20上的薄膜晶体管21；薄膜晶体管21上设有量子点彩膜层22；量子点彩膜层22上设有透明高分子层23；透明高分子层23上设有染料偏光层24。本专利技术通过将量子点彩膜层设置在阵列基板上并在量子点彩膜层上设置下偏光膜层，该阵列基板结构简单、制作工艺难度系数低、成本低，用该阵列基板制成的液晶显示器厚度较薄。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括衬底和设置于所述衬底上的薄膜晶体管，其特征在于：还包括设置在所述薄膜晶体管上的量子点彩膜层以及设置在所述量子点彩膜层上的下偏光膜层；所述下偏光膜层包括覆盖量子点彩膜层的透明高分子层和位于所述透明高分子层上的偏光层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底和设置于所述衬底上的薄膜晶体管，其特征在于：还包括设置在所述薄膜晶体管上的量子点彩膜层以及设置在所述量子点彩膜层上的下偏光膜层；所述下偏光膜层包括覆盖量子点彩膜层的透明高分子层和位于所述透明高分子层上的偏光层。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述量子点彩膜层采用光刻或喷墨打印制成。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述透明高分子层为可见光高透光性高分子材料。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于：所述透明高分子层为紫外光不透光性高分子...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴威谚，崔晓晨，刘京宇，袁玲，王志军，
申请(专利权)人：南京中电熊猫平板显示科技有限公司，南京中电熊猫液晶显示科技有限公司，南京华东电子信息科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32