激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具制造技术

本实用新型专利技术公开了激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，包括夹具本体；所述夹具本体为两端开口的管状结构，一侧端口处向轴中心方向延伸并形成限位环，待固定的整流罩面卡固于所述夹具本体的内部，并由所述限位环限制。本实用新型专利技术中的激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，与现有技术相比，其有益效果为：保护被检测的光学元件在干涉仪设备上检测过程中不受夹持力影响；有效避免被检测硅整流罩在检测过程中产生形变；真实反应出被检测硅整流罩的测量结果；装夹方便简单、检测快捷；通过使用本发明专利技术，使硅整流罩生产效率大幅提升，产品质量得到保证。

Special Fixture for Measuring Surface Shape Accuracy of Silicon Rectifier Cover on Laser Interferometer

【技术实现步骤摘要】
激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具
本技术涉及光学元件检测的
，尤其涉及激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具。
技术介绍
硅整流罩(又称整流罩)系列产品在红外光学系统中应用较为广泛。由于硅单晶材料特殊，给加工带来很大难度，其主要特点是：材质较普通晶体硬，这给铣磨和抛光带一定难度，特别是硅整流罩形状为同心球一部分，接近半球，而且具有中心厚度薄特征，因此在加工过程中许多技术指标不易控制，特别是在抛光过程中上下盘光圈(面形精度)易发生变化。鉴于硅整流罩材料以及硅整流罩形状本身的特殊性，给整个生产环节带来诸多不可控因素，连生产过程中的检测方式方法，也严重制约了该产品的生产质量及效率。如图1所示，由于激光干涉仪的夹持器直接作用于硅整流罩，硅整流罩受夹持力作用产生形变，而且形变量随着夹持方向不同而不同，力量扩散影响硅整流罩整个表面，导致同一件硅整流罩每次检测结果不同。综上所述，现有技术中的缺点为：激光干涉仪的夹持器直接作用于硅整流罩，导致硅整流罩易受力形变，进而影响检测结果的准确性。
技术实现思路
为解决现有技术中，硅整流罩面形精度检测时存在的硅整流罩易受力变形、影响检测精度的技术问本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，其特征在于，包括夹具本体；所述夹具本体为两端开口的管状结构，一侧端口处向轴中心方向延伸并形成限位环，待固定的硅整流罩卡固于所述夹具本体的内部，并由所述限位环限制。

【技术特征摘要】
1.激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，其特征在于，包括夹具本体；所述夹具本体为两端开口的管状结构，一侧端口处向轴中心方向延伸并形成限位环，待固定的硅整流罩卡固于所述夹具本体的内部，并由所述限位环限制。2.根据权利要求1所述的激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，其特征在于，所述夹具本体远离限位环的一侧端口具有多个以中心对称设置的橡筋固定装置。3.根据权利要求2所述的激光干涉仪上检测硅整流罩面形精度的专用夹具，其特征在于，所述橡筋固定装置为螺钉或固定杆。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚云辉，王光伟，周旭环，黄娅芳，
申请(专利权)人：云南北方驰宏光电有限公司，
类型：新型
国别省市：云南,53