一种钨废料的处理方法及处理装置制造方法及图纸

技术编号:21707421 阅读:63 留言:0更新日期:2019-07-27 17:37
本发明专利技术属于废钨料回收再利用领域,公开了一种钨废料的处理方法及处理装置。所述钨废料的处理方法包括以下步骤:S1、将钨废料进行氧化焙烧,以使得所述钨废料中的钨至少部分被氧化,得到焙烧料;S2、往所述焙烧料中趁热加入添加剂1、添加剂2和添加剂3,利用所述氧化焙烧余热进行高温熔炼反应,再将所得熔体进行水浸,之后将所得水浸产物进行固液分离,得到钨酸钠溶液和硅渣沉淀;所述添加剂1为氢氧化钠,所述添加剂2为氯化钠,所述添加剂3为铝酸钠和/或氧化铝。采用本发明专利技术提供的方法对钨废料进行处理,可以使除硅率达到95%以上,能够满足高品质钨产品生产需求。此外,本发明专利技术提供的方法操作简单,投入成本低,适合工业化生产,极具推广意义。

A Treatment Method and Processing Device for Tungsten Waste

【技术实现步骤摘要】
一种钨废料的处理方法及处理装置
本专利技术属于废钨料回收再利用领域,具体涉及一种钨废料的处理方法及处理装置。
技术介绍
钨是重要的战略资源,被誉为“工业牙齿”。随着钨矿的日益开采,钨矿资源储量日益缩减,钨二次资源回收显得尤为重要。目前,尽管大量的科研技术人员针对钨二次资源的回收再利用做了大量工作,但是由于钨废料成分复杂多样,钨的存在状态难以确定,处理难度大。现有钨废料回收的主要方法包括机械破碎法、锌熔法、浸出法、电化学法等,但是这些方法尚存在技术不完善、工业应用化难度大、不能够很好地适应各种钨废料的种类变化的缺陷,而且生产出的钨制品纯度低,无法满足高品质钨产品的要求。此外,钨废料在回收过程中的地板料等会掺杂大量的二氧化硅,现使用的废钨原料的硅含量日益升高,含量已达1~20wt%不等。在钨回收处理过程中,二氧化硅通常会与钠盐结合生成硅酸钠进入钨酸钠溶液中,从而造成钨酸钠溶液中的硅元素超标,不能满足高品质钨产品的生产。目前现行的除硅工艺都是通过调节pH值的方式使硅生成沉淀去除,但是采用该方法一方面对现行碱性钨酸钠溶液需要消耗大量的化学试剂,另一方面不适合现行碱法工艺流程。
技术实现思路
本专本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种钨废料的处理方法,所述钨废料中以SiO2计的硅含量不低于1wt%,其特征在于,该方法包括以下步骤:S1、将钨废料进行氧化焙烧,以使得所述钨废料中的钨至少部分被氧化,得到焙烧料;S2、往所述焙烧料中趁热加入添加剂1、添加剂2和添加剂3,利用所述氧化焙烧余热进行高温熔炼反应,再将所得熔体进行水浸,之后将所得水浸产物进行固液分离,得到钨酸钠溶液和硅渣沉淀;所述添加剂1为氢氧化钠,所述添加剂2为氯化钠,所述添加剂3为铝酸钠和/或氧化铝。

【技术特征摘要】
1.一种钨废料的处理方法,所述钨废料中以SiO2计的硅含量不低于1wt%,其特征在于,该方法包括以下步骤:S1、将钨废料进行氧化焙烧,以使得所述钨废料中的钨至少部分被氧化,得到焙烧料;S2、往所述焙烧料中趁热加入添加剂1、添加剂2和添加剂3,利用所述氧化焙烧余热进行高温熔炼反应,再将所得熔体进行水浸,之后将所得水浸产物进行固液分离,得到钨酸钠溶液和硅渣沉淀;所述添加剂1为氢氧化钠,所述添加剂2为氯化钠,所述添加剂3为铝酸钠和/或氧化铝。2.根据权利要求1所述的钨废料的处理方法,其特征在于,所述钨废料中以WO3计的钨含量为40~98wt%,以SiO2计的硅含量为1~20wt%。3.根据权利要求1所述的钨废料的处理方法,其特征在于,步骤S1中,所述氧化焙烧的条件包括焙烧温度为500~1000℃、优选为700~900℃,焙烧时间为0.5~5h、优选为1~4h。4.根据权利要求1~3中任意一项所述的钨废料的处理方法,其特征在于,所述钨废料、添加剂1、...

【专利技术属性】
技术研发人员:王世良胡庆民
申请(专利权)人:厦门钨业股份有限公司厦门嘉鹭金属工业有限公司
类型:发明
国别省市:福建,35

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