光路调制器件及其制作方法、光学设备和电子装置制造方法及图纸

本申请提供一种光路调制器件及其制作方法、光学设备和电子装置，光路调制器件包括：滤光层(20)、光阻隔层(30)和光路调制元件(40)，其中，所述光阻隔层(30)上开设单个或多个间隔设置的光通孔(31)，所述光路调制元件(40)在所述光阻隔层(30)上的投影覆盖所述光通孔(31)，且所述滤光层(20)用于将所述光阻隔层(30)以及所述光路调制元件(40)位置处的特定波长的光线选择性透过，本申请实现了单一光路调制器件对特定波长的光波进行选择性透过以及光路调制的目的，同时光阻隔层和滤光层的二次阻隔使得光线具有极低的透过率，排除了其他杂散光的干扰。

Optical path modulator and its fabrication method, optical equipment and electronic device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光路调制器件及其制作方法、光学设备和电子装置
本申请涉及光学技术，尤其涉及一种具有光波选择性透过及光路调制功能的光路调制器件及其制作方法、光学设备和电子装置。
技术介绍
随着智能终端的不断发展，越来越多的光学设置如摄像头，3D成像传感器，屏下指纹识别传感器等光学设备应用到终端中，其中，该些光学设备在应用时，均需要对特定波长范围的光进行光路调制后进行收集以及识别，同时剔除不需要的波长范围的其他杂散光的干扰。目前，光学设备中单一透镜很难有较好的波长选择特性，为了达到对特定波长范围的光进行选择，光学设备中往往通过将一片或几片单独的滤光片放置于透镜光路之中，以达到滤光效果，设置时，光学设备中的滤光片和透镜是单独制作并依靠模组安装在一起。然而，上述光学设备中由于滤光片和透镜需单独制作，这样一方面增加了制造透镜模组部分的工艺，且滤光片的设置使得整个透镜模组的厚度较厚，另一方面由于工艺限制使得滤光片和透镜组装后不能很好地排除其他杂散光的干扰。
技术实现思路
本申请提供一种光路调制器件及其制作方法、光学设备和电子装置，实现了对特定波长的光波进行选择性收集并进行光路调制的目的，排除了其他杂散光的干扰，从而解决了现有透镜无法单独进行光波选择、光路调制方式单一、透镜模组工艺增加以及不能很好排除其他杂散光干扰的问题。本申请提供一种光路调制器件，包括：滤光层、光阻隔层和光路调制元件，其中，所述光阻隔层上开设单个或多个间隔设置的光通孔，所述光路调制元件在所述光阻隔层上的投影覆盖所述光通孔，且所述滤光层用于将所述光阻隔层以及所述光路调制元件位置处的特定波长的光线选择性透过。本申请的具体实施方式中，具体的，还包括：可透光的基底，所述滤光层和/或所述光阻隔层设在所述基底上，且所述滤光层在所述光阻隔层上的投影至少覆盖所述光阻隔层。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光层设置在所述基底的至少一面上，且所述滤光层在所述基底上的投影区域至少部分覆盖所述基底。本申请的具体实施方式中，具体的，所述基底的正面和背面均设有所述滤光层，所述光阻隔层覆盖在所述基底至少一面上的所述滤光层上，所述光路调制元件设置在所述光阻隔层上且覆盖所述光通孔。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光层设在所述基底的其中一面上，所述光阻隔层设在所述基底背离所述滤光层的另一面上，所述光路调制元件设置在所述光阻隔层上且覆盖所述光通孔。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光阻隔层设在所述基底的至少一面上，所述滤光层至少覆盖在所述光阻隔层上，所述光路调制元件设置在所述滤光层上且与所述光通孔相对应。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光阻隔层设在所述基底的其中一面上，且所述光阻隔层上以及所述基底背离所述光阻隔层的另一面上均设有所述滤光层，所述光路调制元件设置在所述光阻隔层之上的所述滤光层上且与所述光通孔相对应。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光阻隔层设在所述基底的至少一面上，所述光路调制元件设置在所述光阻隔层上且覆盖所述光通孔，所述滤光层至少覆盖在所述光阻隔层和所述光路调制元件上。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光阻隔层设在所述基底的其中一面上，所述滤光层覆盖在所述光阻隔层上、所述光路调制元件上以及所述基底背离所述光阻隔层的另一面上。本申请的具体实施方式中，具体的，所述基底为下述任意一种基材：玻璃、水晶、金属、柔性透明基材。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光层为有机或无机材料通过涂覆、蒸镀、溅镀、物理/化学气相沉积、等离子体增强沉积或旋涂方式形成的单层或多层膜层。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光层为可供所述特定波长的光线透过的滤光基底，且所述滤光基底的至少一面上设置光阻隔层，所述光路调制元件设在所述光阻隔层上且覆盖所述光通孔。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光基底为下述任意一种基材：蓝宝石基材、蓝水晶、锗片、红宝石或掺杂不同颜色元素的玻璃基材。本申请的具体实施方式中，具体的，所述滤光层为可供所述特定波长为300nm～1100nm的波段透过的滤光层。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光阻隔层为黑胶材料或者无机材料制成的膜层。本申请的具体实施方式中，具体的，所述光路调制元件为凸透镜、凹透镜、菲涅尔透镜、棱镜或者不规则形状的透明光路调制元件。本申请还提供一种光学设备，至少包括上述任一项所述的光路调制器件。本申请还提供一种电子装置，至少包括上述所述的光学设备。本申请还提供一种光路调制器件的制作方法，所述方法包括：提供一基底；在所述基底的至少一面上形成滤光层；在所述滤光层上形成光阻隔层，且所述光阻隔层上经过图形化处理形成单个或多个间隔设置的光通孔；在所述光通孔上形成光路调制元件。本申请还提供一种光路调制器件的制作方法，所述方法包括：提供一基底；在所述基底的至少一面上形成光阻隔层，且所述光阻隔层上经过图形化处理形成单个或多个间隔设置的光通孔；在所述光通孔上形成光路调制元件；至少在所述光阻隔层和所述光路调制元件上覆盖滤光层，且所述滤光层在所述光阻隔层上的投影至少覆盖所述光阻隔层。本申请的具体实施方式中，具体的，所述在所述基底的至少一面上形成光阻隔层，包括：在所述基底的其中一面上设置所述光阻隔层；所述至少在所述光阻隔层和所述光路调制元件上覆盖滤光层，包括：在所述光阻隔层和所述光路调制元件上覆盖第一滤光层；在所述基底背离所述光阻隔层的另一面上设置第二滤光层。本申请还提供一种光路调制器件的制作方法，所述方法包括：提供一滤光基底；在所述滤光基底的至少一面上形成光阻隔层，且所述光阻隔层上经过图形化处理形成单个或多个间隔设置的光通孔；在所述光通孔上形成光路调制元件。本申请还提供一种光路调制器件的制作方法，所述方法包括：提供一基底；在所述基底的至少一面上形成光阻隔层，且所述光阻隔层上经过图形化处理形成单个或多个间隔设置的光通孔；至少在所述光阻隔层上覆盖滤光层；在所述滤光层上形成光路调制元件，且所述光路调制元件与所述光通孔对应。本申请的具体实施方式中，具体的，所述在所述基底的至少一面上形成光阻隔层，包括：在所述基底的其中一面上设置所述光阻隔层；所述至少在所述光阻隔层上覆盖滤光层，包括：在所述光阻隔层上设置第一滤光层；在所述基底背离所述光阻隔层的另一面上设置第二滤光层；所述在所述滤光层上形成光路调制元件，包括：在所述第一滤光层上且与所述光通孔对应的位置形成光路调制元件。本申请提供的光路调制器件，通过包括滤光层、光阻隔层和光路调制元件，其中，所述光阻隔层上开设单个或多个间隔设置的光通孔，所述光路调制元件在在所述光阻隔层上的投影覆盖在所述光通孔上，且所述滤光层用于将所述光阻隔层以及所述光路调制元件位置处的特定波长的光线选择性透过，这样光路调制器件不需要额外的模组工艺即可将滤光层和光路调制元件集成在一起，达到了单一的光路调制器件可以实现对特定波长的光线进行选择性透过的目的，同时，由于滤光层还可以将光阻隔层处的特定波长的光线进行选择性透过，这样光阻隔层和滤光层共同组成对光线进行二次阻隔的阻隔区域，由于光阻隔层和滤光层的二次阻隔使得光线具有极低的透过率，从而具有很好的杂散光阻隔效果，所以本实施例提供的光路调制器件不仅实现了单一光路调制器件对特定波长的光波进行选择性透过以及光路调制的目本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光路调制器件，其特征在于，包括：滤光层(20)、光阻隔层(30)和光路调制元件(40)，其中，所述光阻隔层(30)上开设单个或多个间隔设置的光通孔(31)，所述光路调制元件(40)在所述光阻隔层(30)上的投影覆盖所述光通孔(31)，且所述滤光层(20)用于将所述光阻隔层(30)以及所述光路调制元件(40)位置处的特定波长的光线选择性透过。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光路调制器件，其特征在于，包括：滤光层(20)、光阻隔层(30)和光路调制元件(40)，其中，所述光阻隔层(30)上开设单个或多个间隔设置的光通孔(31)，所述光路调制元件(40)在所述光阻隔层(30)上的投影覆盖所述光通孔(31)，且所述滤光层(20)用于将所述光阻隔层(30)以及所述光路调制元件(40)位置处的特定波长的光线选择性透过。2.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，还包括：可透光的基底(10)，所述滤光层(20)和/或所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)上，且所述滤光层(20)在所述光阻隔层(30)上的投影至少覆盖所述光阻隔层(30)。3.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层(20)设置在所述基底(10)的至少一面上，且所述滤光层(20)在所述基底(10)上的投影区域至少部分覆盖所述基底(10)。4.根据权利要求3所述的光路调制器件，其特征在于，所述基底(10)的正面和背面均设有所述滤光层(20)，所述光阻隔层(30)覆盖在所述基底(10)至少一面上的所述滤光层(20)上，所述光路调制元件(40)设置在所述光阻隔层(30)上且覆盖所述光通孔(31)。5.根据权利要求3所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层(20)设在所述基底(10)的其中一面上，所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)背离所述滤光层(20)的另一面上，所述光路调制元件(40)设置在所述光阻隔层(30)上且覆盖所述光通孔(31)。6.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)的至少一面上，所述滤光层(20)至少覆盖在所述光阻隔层(30)上，所述光路调制元件(40)设置在所述滤光层(20)上且与所述光通孔(31)相对应。7.根据权利要求6所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)的其中一面上，且所述光阻隔层(30)上以及所述基底(10)背离所述光阻隔层(30)的另一面上均设有所述滤光层(20)，所述光路调制元件(40)设置在所述光阻隔层(30)之上的所述滤光层(20)上且与所述光通孔(31)相对应。8.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)的至少一面上，所述光路调制元件(40)设置在所述光阻隔层(30)上且覆盖所述光通孔(31)，所述滤光层(20)至少覆盖在所述光阻隔层(30)和所述光路调制元件(40)上。9.根据权利要求8所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层(30)设在所述基底(10)的其中一面上，所述滤光层(20)覆盖在所述光阻隔层(30)上、所述光路调制元件(40)上以及所述基底(10)背离所述光阻隔层(30)的另一面上。10.根据权利要求2-9任一所述的光路调制器件，其特征在于，所述基底(10)为下述任意一种基材：玻璃、水晶、金属、柔性透明基材。11.根据权利要求1-10任一所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层(20)为有机或无机材料通过涂覆、蒸镀、溅镀、物理/化学气相沉积、等离子体增强沉积或旋涂方式形成的单层或多层膜层。12.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文轩，沈健，王红超，姚国峰，
申请(专利权)人：深圳市汇顶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44