低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置制造方法及图纸

本发明专利技术给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置，包括补气管，补气管端部开有补气口；还包括冷却管和堵头，冷却管设有供冷却介质通过的内孔，冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段，处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙，堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体，进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却，将补气管温度下降，镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下，反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处；处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙，镀膜反应气体通过该间隙，达到出气缝的效果，提高镀膜工件的膜层均匀度。

Gas Supplementary Device for Low Pressure Chemical Vapor Deposition Vacuum Tube Furnace

【技术实现步骤摘要】
低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置
本专利技术涉及一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置。
技术介绍
管式低压化学气相沉积工作原理是在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。温度低于一定值，不会沉积。使用管式低压化学气相沉积时，需要管口进气和尾部补气，通常尾部补气管要伸到管式低压化学气相沉积中间反应区域。现有补气管出气有两种方式，一种是直接补气管按原始管径出气，但是此种方式会导致出气口位置膜层均匀度达不到要求，同时长时间使用，补气管内部和管口也会沉积反应物，造成堵塞；另一种是在补气管前端开均匀分布的出气缝，虽然出气缝位置膜层均匀度达到要求，但是出气缝比原始管径出气更容易堵塞。另外，需要频繁在生产间隙检测，并且在沉积反应物堵塞后及时更换补气管，如果补气管在生产过程中发生堵塞，会造成整批次报废，造成重大损失。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种结构合理、减少沉积反应物堵塞的低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置，该低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置既能保证膜层均匀性又能保证补气管不被堵塞。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种低本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置，包括补气管，补气管端部开有补气口，其特征为：还包括冷却管和堵头，冷却管设有供冷却介质通过的内孔，冷却管至少在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段，处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙，堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。

【技术特征摘要】
1.一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置，包括补气管，补气管端部开有补气口，其特征为：还包括冷却管和堵头，冷却管设有供冷却介质通过的内孔，冷却管至少在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段，处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙，堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。2.根据权利要求1所述的低压化学气相沉积真空管式炉的...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛怀庆，练菊，房如枫，彭为报，王红美，孙嵩泉，
申请(专利权)人：普乐新能源蚌埠有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34