【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种因瓦合金的新用途。本专利技术还涉及一种采用因瓦合金材料制备的低压化学气相沉积镀膜的载片舟。
技术介绍
1、低压力化学气相沉积(lpcvd)是一种常用的薄膜制备技术，它利用化学反应在低压力下将气态前驱体转化为固态薄膜。lpcvd技术具有高纯度、高均匀性、高质量、可控性等优点，因此在微电子、光电子、材料科学等领域得到广泛应用。lpcvd技术的基本原理是将气态前驱体引入反应室中，在高温下进行化学反应,生成固态薄膜。低压力环境有利于减少气体分子之间的碰撞，从而提高反应速率和薄膜质量。此外，lpcvd技术还可以通过控制反应温度、气体流量、反应时间等参数来调节薄膜的厚度、成分和结构。
2、低压力化学气相沉积(lpcvd)为硅片镀膜过程中，低压化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置(无论是载片舟、舟托架或者炉管)会长时间处于650°～700°的高温环境中，目前现有的镀膜装置多采用石英材质，石英材质的热膨胀系数为5.5×10-7/℃，石英在温度变化时不易发生热胀冷缩，但是石英材质的镀膜装置具有很强的脆性，其在受到冲击或压力时，容易断裂或破碎。而且石英的热膨胀系数虽然相对较小，但在快速的温度变化下，由于热膨胀和收缩的不同，可能会产生内应力，导致石英镀膜装置开裂或破损。
3、如果采用其他材质可能具有其他缺点，以不锈钢材料为例，具有以下缺点：(1)、一般的不锈钢材料的热膨胀系数为17×10-6/℃，不锈钢材料的热膨胀系数与石英材质的热膨胀系数相差较大，使用不锈钢材料制作的镀膜装置可能会对硅片造成损伤；(2)、在镀
4、传统的载片舟往往存在因磕碰造成石英材质的载片舟损坏问题，进而导致镀膜过程中出现变形、开裂、破碎等现象，影响镀膜效果、造成经济损失。因此，开发一种新型的低压化学气相沉积镀膜的载片舟，对于提高镀膜质量和效率具有重要意义。
5、申请号为cn201420764916.x的技术公开一种提高lpcvd沉积膜均匀性的载片舟，包括载片支架，所述载片支架位于一壳体内，所述壳体上均匀分布有通孔。本专利技术的这种载片舟可使lpcvd反应腔中的气体均匀的进入载片舟中，使得沉积薄膜厚度一致。
6、但是上述载片舟也没有解决现有载片舟易损坏的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种因瓦合金的新用途，以解决上述
技术介绍
中低压化学气相沉积镀膜装置中存在的技术问题。
2、本专利技术的目的在于还提供一种低压化学气相沉积镀膜的载片舟，以解决上述
技术介绍
中的技术问题：
3、(1)通过改变载片舟的材质，实现提高载片舟的硬度和尺寸稳定性，从而提高镀膜质量和效率。
4、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
5、一种因瓦合金的新用途，其特征在于：作为化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
6、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
7、进一步，因瓦合金还可以作为低压化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
8、进一步，因瓦合金还可以作为低压化学气相沉积镀膜作业中载片舟的材料。
9、因瓦合金具有低热膨胀系数、高温稳定性好等优点，可以有效提高载片舟的耐高温性能和尺寸稳定性，从而提高镀膜质量和效率。
10、为实现上述目的，本专利技术还提供如下技术方案：
11、一种低压化学气相沉积镀膜设备的载片舟，其特征在于：
12、包括主体框架，主体框架内部设有空腔，主体框架的空腔与主体框架外部相通，主体框架空腔内壁依次开有若干放置硅片的载片槽，主体框架的材质选用因瓦合金。
13、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
14、进一步，所述主体框架包括顶板、底板和若干支撑柱，顶板与底板之间通过若干支撑柱固定连接，若干支撑柱之间区域构成主体框架的空腔，若干支撑柱侧壁沿上下方向依次开有若干放置硅片的载片槽；
15、顶板、底板和若干支撑柱都选用因瓦合金。
16、进一步，所述主体框架还包括两侧翼板，两侧翼板分别固定连接在若干支撑柱两侧，两侧翼板可与低压化学气相沉积镀膜设备的舟托架配合。
17、进一步，顶板、底板和两侧翼板分别开有减重孔。
18、进一步，所述主体框架的顶板、底板和若干支撑柱表面都镀上二氧化硅膜、多晶硅薄膜中的一种或者两种。
19、本低压化学气相沉积镀膜设备的载片舟采用因瓦合金材质，因瓦合金材质载片舟与石英材质载片舟的造价成本相近，因瓦合金材质载片舟的热膨胀系数与石英材质载片舟的热膨胀系数相差不大，符合低压化学气相沉积镀膜的要求，还可以有效减少石英材质载片舟在日常使用中的损坏，大大提升了载片舟的使用寿命，因瓦合金材质载片舟可以作为现有石英材质载片舟的替代。
20、本低压化学气相沉积镀膜设备的载片舟具有以下优点：
21、(1)采用因瓦合金材料制备，具有低热膨胀系数、高温稳定性好等优点，可以有效提高载片舟的耐高温性能和尺寸稳定性；
22、(2)低压化学气相沉积镀膜设备中其他部件均采用因瓦合金材料制备，可以保证整体性能的一致性；
23、(3)适用于低压化学气相沉积镀膜工艺，可以提高镀膜质量和效率。
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1.一种因瓦合金的新用途，其特征在于：作为化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
2.根据权利要求1所述的因瓦合金的新用途，其特征在于：作为低压化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
3.根据权利要求2所述的因瓦合金的新用途，其特征在于：作为低压化学气相沉积镀膜作业中载片舟的材料。
4.一种低压化学气相沉积镀膜设备的载片舟，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的低压化学气相沉积镀膜的载片舟，其特征在于：
6.根据权利要求5所述的低压化学气相沉积镀膜的载片舟，其特征在于：
7.根据权利要求6所述的低压化学气相沉积镀膜的载片舟，其特征在于：
8.根据权利要求5所述的低压化学气相沉积镀膜的载片舟，其特征在于：
【技术特征摘要】
1.一种因瓦合金的新用途，其特征在于：作为化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
2.根据权利要求1所述的因瓦合金的新用途，其特征在于：作为低压化学气相沉积镀膜作业中使用镀膜装置的材料。
3.根据权利要求2所述的因瓦合金的新用途，其特征在于：作为低压化学气相沉积镀膜作业中载片舟的材料。
4.一种低压化学气相沉积...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙嵩泉，练菊，马磊，王琳，
申请(专利权)人：普乐新能源蚌埠有限公司，
类型：发明
国别省市：
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