【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】不具有取向膜的液晶显示元件的制造方法
本专利技术涉及一种不具有取向膜的液晶显示元件的制造方法。进一步详细而言,本专利技术涉及一种具有含有聚合性极性化合物且介电各向异性为正或负的液晶组合物的液晶显示元件的制造方法。
技术介绍
液晶显示元件中,基于液晶分子的运作模式的分类为相变(phasechange,PC)、扭转向列(twistednematic,TN)、超扭转向列(supertwistednematic,STN)、电控双折射(electricallycontrolledbirefringence,ECB)、光学补偿弯曲(opticallycompensatedbend,OCB)、共面切换(in-planeswitching,IPS)、垂直取向(verticalalignment,VA)、边缘场切换(fringefieldswitching,FFS)、电场感应光反应取向(field-inducedphoto-reactivealignment,FPA)等模式。基于元件的驱动方式的分类为无源矩阵(passivematrix,PM)及有源矩阵(activematrix,AM)。PM被分类为静态式(static)、多路复用式(multiplex)等,AM被分类为薄膜晶体管(thinfilmtransistor,TFT)、金属-绝缘体-金属(metalinsulatormetal,MIM)等。TFT的分类为非晶硅(amorphoussilicon)及多晶硅(polycrystalsilicon)。后者根据制造工序而分类为高温型与低温型。基于光源的分类为利用自然光的反 ...
【技术保护点】
1.一种液晶显示元件的制造方法,所述液晶显示元件具有:第一基板;形成于所述第一基板的多个像素电极;第二基板;形成于所述第二基板的与所述像素电极相向的相向电极;以及夹持于所述像素电极与所述相向电极之间的液晶层,所述液晶层包含液晶组合物,所述液晶组合物含有作为取向性单体的具有由至少一个环构成的液晶原部位的聚合性极性化合物与液晶性化合物,所述液晶显示元件的制造方法的特征在于:首先,对所述液晶组合物不施加电压、或施加实质上不使液晶组合物驱动的电压,并以1J/cm
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.28 JP 2016-2300291.一种液晶显示元件的制造方法,所述液晶显示元件具有:第一基板;形成于所述第一基板的多个像素电极;第二基板;形成于所述第二基板的与所述像素电极相向的相向电极;以及夹持于所述像素电极与所述相向电极之间的液晶层,所述液晶层包含液晶组合物,所述液晶组合物含有作为取向性单体的具有由至少一个环构成的液晶原部位的聚合性极性化合物与液晶性化合物,所述液晶显示元件的制造方法的特征在于:首先,对所述液晶组合物不施加电压、或施加实质上不使液晶组合物驱动的电压,并以1J/cm2至60J/cm2的范围照射照度为2mW/cm2至200mW/cm2的范围的第一紫外线;其次,一边对所述液晶组合物施加阈电压以上且30V以下的电压,一边以5J/cm2至100J/cm2的范围照射照度为2mW/cm2至200mW/cm2的范围的第二紫外线;从而形成取向控制层,所述取向控制层包含通过使所述聚合性极性化合物聚合而生成的聚合物。2.根据权利要求1所述的液晶显示元件的制造方法,其中,首先,对所述液晶组合物不施加电压、或施加实质上不使液晶组合物驱动的电压,并以3J/cm2至50J/cm2的范围照射照度为2mW/cm2至100mW/cm2的范围的第一紫外线;其次,一边对所述液晶组合物施加阈电压以上且30V以下的电压,一边以5J/cm2至55J/cm2的范围照射照度为2mW/cm2至100mW/cm2的范围的第二紫外线。3.根据权利要求1所述的液晶显示元件的制造方法,其中,在第二紫外线照射后,进而对液晶组合物不施加电压、或施加实质上不使液晶组合物驱动的电压,并以1J/cm2至60J/cm2的范围照射照度为2mW/cm2至200mW/cm2的范围的第三紫外线。4.根据权利要求1至3中任一项所述的液晶显示元件的制造方法,其中所述取向性单体为式(1α)所表示的化合物。式(1α)中,R1为碳数1至15的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-或-S-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;MES为具有至少一个环的液晶原基;Sp1为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;M1及M2独立地为氢、氟、氯、碳数1至5的烷基、或者至少一个氢经氟或氯取代的碳数1至5的烷基;R2为式(1αa)、式(1αb)或式(1αc)所表示的基:式(1αa)、式(1αb)及式(1αc)中,Sp2及Sp3独立地为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-NH-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;S1为>CH-或>N-;S2为>C<或>Si<;X1独立地为-OH、-NH2、-OR3、-N(R3)2、式(x1)、-COOH、-SH、-B(OH)2或-Si(R3)3所表示的基,此处,R3为氢或碳数1至10的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代,式(x1)中的w为1、2、3或4,5.根据权利要求1至3中任一项所述的液晶显示元件的制造方法,所述取向性单体为式(1β)所表示的化合物。式(1β)中,R1为碳数1至15的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-或-S-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;MES为具有至少一个环的液晶原基;Sp1为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;R2、M1、M2及M3独立地为氢、氟、氯或碳数1至10的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-或-S-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代。6.根据权利要求1至3中任一项所述的液晶显示元件的制造方法,所述取向性单体为式(1γ)所表示的化合物。式(1γ)中,R1、R2及R3独立地为氢或碳数1至15的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-S-或-NH-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;n独立地为0、1或2;环A4为亚环己基、亚环己烯基、亚苯基、萘、十氢萘、四氢萘、四氢吡喃、1,3-二噁烷、嘧啶或吡啶,环A1及环A5独立地为环己基、环己烯基、苯基、1-萘基、2-萘基、四氢吡喃-2-基、1,3-二噁烷-2-基、嘧啶-2-基、或吡啶-2-基,这些环中,至少一个氢可经氟、氯、碳数2至12的烯基、碳数1至11的烷氧基、或碳数2至11的烯氧基取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;Z1及Z5独立地为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-COO-、-OCO-或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;Sp1、Sp2及Sp3独立地为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-COO-、-OCO-或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;a及b独立地为0、1、2、3或4,而且a及b的和为1、2、3或4;c、d及e独立地为0、1、2、3、或4;c、d及e的和为2、3、或4;P1、P2及P3独立地为式(P-1)所表示的聚合性基;式(P-1)中,M1及M2独立地为氢、氟、氯、碳数1至5的烷基、或者至少一个氢经氟或氯取代的碳数1至5的烷基;R4为选自式(1γa)、式(1γb)及式(1γc)所表示的基的群组中的基。式(1γa)、式(1γb)及式(1γc)中,Sp5及Sp6独立地为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-NH-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;S1为>CH-或>N-;S2为>C<或>Si<;X1独立地为-OH、-NH2、-OR5、-N(R5)2、-COOH、-SH、-B(OH)2、或-Si(R5)3所表示的基,此处,R5为氢或碳数1至10的烷基,所述烷基中,至少一个-CH2-可经-O-取代,至少一个-(CH2)2-可经-CH=CH-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代。7.根据权利要求1至6中任一项所述的液晶显示元件的制造方法,其中在具有由至少一个环构成的液晶原部位的所述取向性单体中,所述液晶原部位包含环己烷环。8.根据权利要求1至3中任一项所述的液晶显示元件的制造方法,其中所述取向性单体为式(1-1)所表示的化合物。式(1-1)中,R1为碳数1至15的烷基,所述R1中,至少一个-CH2-可经-O-或-S-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,至少一个氢可经卤素取代;环A1及环A2独立地为1,4-亚环己基、1,4-亚环己烯基、1,4-亚苯基、萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢萘-2,6-二基、四氢吡喃-2,5-二基、1,3-二噁烷-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡啶-2,5-二基、芴-2,7-二基、菲-2,7-二基、蒽-2,6-二基、全氢环戊并[a]菲-3,17-二基、或2,3,4,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17-十四氢环戊并[a]菲-3,17-二基,这些环中,至少一个氢可经氟、氯、碳数1至12的烷基、碳数2至12的烯基、碳数1至11的烷氧基、或碳数2至11的烯氧基取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;a为0、1、2、3、或4;Z1为单键或碳数1至6的亚烷基,所述Z1中,至少一个-CH2-可经-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经氟或氯取代;Sp1为单键或碳数1至10的亚烷基,所述Sp1中,至少一个-CH2-可经-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经卤素取代,这些基中,至少一个氢经选自式(1a)所表示的基中的基取代,式(1a)中,Sp12为单键或碳数1至10的亚烷基,所述Sp12中,至少一个-CH2-可经-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经卤素取代;M11及M12独立地为氢、卤素、碳数1至5的烷基、或至少一个氢经卤素取代的碳数1至5的烷基:R12为碳数1至15的烷基,所述R12中,至少一个-CH2-可经-O-或-S-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,至少一个氢可经卤素取代:式(1-1)中,P11为选自式(1e)及式(1f)所表示的基中的基,式(1e)及式(1f)中,Sp13为单键或碳数1至10的亚烷基,所述Sp13中,至少一个-CH2-可经-O-、-NH-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,这些基中,至少一个氢可经卤素取代;M13及M14独立地为氢、卤素、碳数1至5的烷基、或至少一个氢经卤素取代的碳数1至5的烷基;R13为选自式(1g)、式(1h)及式(1i)所表示的基中的基;式(1g)、式(1h)及式(1i)中,Sp14及Sp15独立地为单键或碳数1至10的亚烷基,所述亚烷基中,至少一个-CH2-可经-O-、-NH-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-取代,至少一个-CH2CH2-可经-CH=CH-或-C≡C-取代,至少一个氢可经卤素取代;式(1g)及式(1i)中,S1为>CH-或>N-,S2为>C<或>Si<;X1为-OH、-NH2、-OR15、-N(R15)2、-C...
【专利技术属性】
技术研发人员:平井吉治,片野裕子,近藤史尚,荻田和寛,远藤浩史,黄名鸿,宋依霖,谢松年,
申请(专利权)人:捷恩智株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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