【技术实现步骤摘要】
MOCVD设备的反应装置及MOCVD设备
本技术涉及化学气相沉积设备，尤其涉及一种MOCVD设备的反应装置及MOCVD设备。
技术介绍
在砷化镓太阳能电池的生产过程中，要在电池的基片上形成金属聚合物膜层，就需要MOCVD设备。图1为现有技术中MOCVD设备的反应装置的结构示意图，如图1所示，该反应装置包括反应腔体100、气体喷淋板200、基片载板300以及基片载板下面的光源加热器400。该反应装置在工作时，工艺气体通过气体入口500进入到反应腔体100内部，气体喷淋板200喷向基片载板300上的电池基片表面，同时通过下面的光源加热器400使基片载板300和基片载板300上的电池基片达到工艺温度，气体反应后在电池基片上沉积形成金属聚合物膜层。图2为现有技术中光源加热器与基片载板之间的位置关系图，如图2所示，光源加热器400在基片载板300下方固定不动，有的反应装置在光源加热器400的四周会安装有屏蔽板。在太阳能电池片的生产线上，装好电池基片的基片载板300由反应装置的外部流入到反应腔体100的内部，反应完成后再流出，为了留出基片载板300的运动空间，光源加热器400...
【技术保护点】
1.一种MOCVD设备的反应装置，包括基片载板和光源加热器，所述光源加热器设置在所述基片载板的下方，其特征在于，所述反应装置还包括：承载部，在反应加热时所述承载部与所述基片载板共同形成封闭空间，所述光源加热器设置在所述封闭空间内。
【技术特征摘要】
1.一种MOCVD设备的反应装置，包括基片载板和光源加热器，所述光源加热器设置在所述基片载板的下方，其特征在于，所述反应装置还包括：承载部，在反应加热时所述承载部与所述基片载板共同形成封闭空间，所述光源加热器设置在所述封闭空间内。2.根据权利要求1所述的MOCVD设备的反应装置，其特征在于，所述承载部包括加热器载板和挡板，所述加热器载板与所述基片载板平行；所述挡板与所述加热器载板相互垂直，且位于所述加热器载板的周侧；所述挡板的第一端与所述加热器载板固定连接，所述挡板的第二端在反应加热时与所述基片载板之间固定连接；所述加热器载板、所述挡板和所述基片载板在反应加热时围成所述封闭空间；所述光源加热器设置在所述加热器载板上。3.根据权利要求2所述的MOCVD设备的反应装置，其特征在于，所述挡板的第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：王志升，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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